TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2025110230
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-28
出願番号2024004046
出願日2024-01-15
発明の名称半導体記憶装置
出願人キオクシア株式会社
代理人弁理士法人鈴榮特許綜合事務所
主分類G11C 16/10 20060101AFI20250718BHJP(情報記憶)
要約【課題】書込み電圧の増加を抑制する。
【解決手段】実施形態の半導体記憶装置は、第1メモリセル及び第2メモリセルを含む複数のメモリセルが直列に接続される第1メモリストリングと、第1メモリセルのゲートに接続された第1ワード線と、第2メモリセルのゲートに接続された第2ワード線と、第1メモリストリングの一端に接続された第1ビット線と、第1メモリストリングの他端に接続されたソース線と、制御回路と、を備え、制御回路は、第1メモリセルを対象としたプログラム動作において、第1ワード線に書込み電圧を印加しつつ、第1メモリストリングのチャネルを、第1ビット線及びソース線から電気的に絶縁されたフローティング状態にし、第1メモリストリングのチャネルをフローティング状態にした後、第2ワード線の電圧を、書込み電圧未満の第1電圧から、第1電圧未満の第2電圧に低減させるように構成される。
【選択図】図9
特許請求の範囲【請求項1】
第1メモリセル及び第2メモリセルを含む複数のメモリセルが直列に接続される第1メモリストリングと、
前記第1メモリセルのゲートに接続された第1ワード線と、
前記第2メモリセルのゲートに接続された第2ワード線と、
前記第1メモリストリングの一端に接続された第1ビット線と、
前記第1メモリストリングの他端に接続されたソース線と、
制御回路と、
を備え、
前記制御回路は、前記第1メモリセルを対象としたプログラム動作において、
前記第1ワード線に書込み電圧を印加しつつ、前記第1メモリストリングのチャネルを、前記第1ビット線及び前記ソース線から電気的に絶縁されたフローティング状態にし、
前記第1メモリストリングのチャネルをフローティング状態にした後、前記第2ワード線の電圧を、前記書込み電圧未満の第1電圧から、前記第1電圧未満の第2電圧に低減させる、
ように構成される、
半導体記憶装置。
続きを表示(約 1,100 文字)【請求項2】
前記制御回路が前記第2ワード線の電圧を前記第2電圧に低減させた際に、前記第1メモリストリングのチャネルの電圧が接地電圧未満になる、
ように構成される、
請求項1記載の半導体記憶装置。
【請求項3】
前記第1ビット線と前記複数のメモリセルの一端との間に設けられる第1選択トランジスタと、
前記ソース線と前記複数のメモリセルの他端との間に設けられる第2選択トランジスタと、
をさらに備え、
前記制御回路は、前記第1メモリセルを対象とした前記プログラム動作において、
前記第1選択トランジスタ、及び前記第2選択トランジスタをオフ状態にすることで、前記第1メモリストリングをフローティング状態にする、
ように構成される、
請求項1記載の半導体記憶装置。
【請求項4】
第3メモリセル及び第4メモリセルを含む複数のメモリセルが直列に接続される第2メモリストリングと、
前記第2メモリストリングの一端に接続された第2ビット線と、
をさらに備え、
前記第1ワード線は、前記第3メモリセルのゲートに接続され、
前記第2ワード線は、前記第4メモリセルのゲートに接続され、
前記第2メモリストリングの他端には、前記ソース線が接続され、
前記制御回路は、前記第1メモリセルを対象としたプログラム動作において、
前記第2メモリストリングのチャネルをフローティング状態にしつつ、前記第2ワード線の電圧を、前記第1電圧から前記第2電圧に低減させる、
ように構成される、
請求項1記載の半導体記憶装置。
【請求項5】
前記制御回路が前記第2ワード線の電圧を前記第2電圧に低減させた際に、前記第2メモリストリングのチャネルの電圧が前記第1電圧未満になる、
ように構成される、
請求項4記載の半導体記憶装置。
【請求項6】
前記第1選択トランジスタの閾値電圧、及び前記第2選択トランジスタの閾値電圧は、前記複数のメモリセルの消去状態の閾値電圧より高い、
請求項3記載の半導体記憶装置。
【請求項7】
前記第1選択トランジスタのゲートに接続された第1ゲート線、をさらに備え、
前記制御回路は、前記第1メモリセルを対象としたプログラム動作において、前記第1メモリストリングをフローティング状態にする際に、
前記第1ゲート線の電圧を接地電圧未満にする、
ように構成される、
請求項3記載の半導体記憶装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
実施形態は、半導体記憶装置に関する。
続きを表示(約 2,100 文字)【背景技術】
【0002】
半導体記憶装置として、NAND型フラッシュメモリが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2020-24774号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
書込み電圧の増加を抑制する。
【課題を解決するための手段】
【0005】
実施形態の半導体記憶装置は、第1メモリセル及び第2メモリセルを含む複数のメモリセルが直列に接続される第1メモリストリングと、上記第1メモリセルのゲートに接続された第1ワード線と、上記第2メモリセルのゲートに接続された第2ワード線と、上記第1メモリストリングの一端に接続された第1ビット線と、上記第1メモリストリングの他端に接続されたソース線と、制御回路と、を備え、上記制御回路は、上記第1メモリセルを対象としたプログラム動作において、上記第1ワード線に書込み電圧を印加しつつ、上記第1メモリストリングのチャネルを、上記第1ビット線及び上記ソース線から電気的に絶縁されたフローティング状態にし、上記第1メモリストリングのチャネルをフローティング状態にした後、上記第2ワード線の電圧を、上記書込み電圧未満の第1電圧から、上記第1電圧未満の第2電圧に低減させる、ように構成される。
【図面の簡単な説明】
【0006】
第1実施形態に係る半導体記憶装置を含むメモリシステム、及びホスト機器の構成の一例を示すブロック図。
第1実施形態に係る半導体記憶装置の構成の一例を示すブロック図。
第1実施形態に係る半導体記憶装置のメモリセルアレイの構成の一例を説明するための回路図。
第1実施形態に係る半導体記憶装置のメモリセルアレイの構造の一例を説明するための断面図。
第1実施形態に係る半導体記憶装置のメモリセルアレイに含まれるメモリピラーの断面構造の一例を示す、図4のV-V線に沿った断面図。
第1実施形態に係る半導体記憶装置のメモリセルアレイに含まれるメモリセルトランジスタの閾値電圧分布の一例を示す模式図。
第1実施形態に係る半導体記憶装置のセンスアンプモジュールの構成の一例を示すブロック図。
第1実施形態に係る半導体記憶装置の書込み動作の概要を示すタイミングチャート。
第1実施形態に係る半導体記憶装置を用いた書込み動作におけるプログラム動作の際の、ソース線、ビット線、メモリピラーのチャネル、ワード線、及び選択ゲート線の電圧の一例を示すタイミングチャート。
第1実施形態の第1変形例に係る半導体記憶装置を用いた書込み動作におけるプログラム動作の選択を説明するための図である。
第1実施形態の第1変形例に係る半導体記憶装置を用いた書込み動作におけるプログラム動作の際の、ソース線、ビット線、メモリピラーのチャネル、ワード線、及び選択ゲート線の電圧の一例を示すタイミングチャート。
第1実施形態の第2変形例に係る半導体記憶装置を用いた書込み動作におけるプログラム動作の際の、ソース線、ビット線、メモリピラーのチャネル、ワード線、及び選択ゲート線の電圧の一例を示すタイミングチャート。
第1実施形態の第3変形例に係る半導体記憶装置を用いた書込み動作におけるプログラム動作の際の、ソース線、ビット線、メモリピラーのチャネル、ワード線、及び選択ゲート線の電圧の一例を示すタイミングチャート。
第2実施形態に係る半導体記憶装置のメモリセルアレイの構成の一例を説明するための回路図。
第2実施形態に係る半導体記憶装置のメモリセルアレイの構造の一例を説明するための断面図。
第2実施形態に係る半導体記憶装置のメモリセルアレイに含まれるメモリセルトランジスタ、及びダミーセルトランジスタの閾値電圧分布の一例を示す模式図。
第2実施形態に係る半導体記憶装置を用いた書込み動作におけるプログラム動作の際の、ソース線、ビット線、メモリピラーのチャネル、ワード線、ダミーワード線、及び選択ゲート線の電圧の一例を示すタイミングチャート。
【発明を実施するための形態】
【0007】
以下に、実施形態について図面を参照して説明する。なお、以下の説明において、同一の機能及び構成を有する構成要素については、共通する参照符号を付す。
【0008】
1 第1実施形態
以下に、第1実施形態に係る半導体記憶装置について説明する。以下では半導体記憶装置として、NAND型フラッシュメモリを例に挙げて説明する。
【0009】
1.1 構成
第1実施形態に係る半導体記憶装置の構成について説明する。
【0010】
1.1.1 メモリシステム
まず、メモリシステムの構成例について、図1を用いて説明する。図1は、第1実施形態に係る半導体記憶装置を含むメモリシステム、及びホスト機器の構成の一例を示すブロック図である。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

株式会社JVCケンウッド
ファイル管理方法
21日前
キヤノン株式会社
記憶装置
1か月前
キオクシア株式会社
半導体装置
18日前
ローム株式会社
半導体装置
18日前
日東電工株式会社
配線回路基板
1か月前
日東電工株式会社
配線回路基板
1か月前
株式会社東芝
磁気ヘッド、及び、磁気記録装置
1か月前
トヨタ自動車株式会社
情報処理装置
2か月前
ローム株式会社
不揮発性メモリ装置
1か月前
株式会社パトライト
データ処理プログラム及び報知システム
20日前
ルネサスエレクトロニクス株式会社
不揮発性半導体記憶装置
2か月前
ローム株式会社
不揮発性メモリ装置
1か月前
ローム株式会社
不揮発性メモリ装置
2か月前
ローム株式会社
不揮発性メモリ装置
2か月前
キオクシア株式会社
半導体記憶装置
12日前
キオクシア株式会社
半導体記憶装置
今日
ローム株式会社
半導体集積回路装置
2か月前
株式会社半導体エネルギー研究所
記憶装置、及び記憶装置の駆動方法
2か月前
キオクシア株式会社
半導体記憶装置
3か月前
国立大学法人東京科学大学
半導体装置および半導体チップ
2か月前
キヤノン株式会社
半導体装置および機器
5日前
artience株式会社
磁気記録媒体用プライマーおよび磁気記録媒体
21日前
花王株式会社
磁気ディスク基板用研磨液
2か月前
ルネサスエレクトロニクス株式会社
電子装置
19日前
ミネベアミツミ株式会社
ハードディスク駆動装置
2か月前
株式会社レゾナック・ハードディスク
磁気記録媒体の製造方法
1か月前
キヤノン株式会社
信号処理装置、信号処理装置の制御方法方法及びプログラム
今日
国立大学法人京都大学
データ読み出し方法および装置
1か月前
花王株式会社
磁気ディスク基板用研磨液の製造方法
1か月前
キオクシア株式会社
メモリシステム及びメモリデバイス
2か月前
花王株式会社
磁気ディスク基板用研磨液の製造方法
1か月前
花王株式会社
磁気ディスク基板用研磨液の製造方法
1か月前
キオクシア株式会社
メモリシステムおよび半導体記憶装置
25日前
株式会社半導体エネルギー研究所
半導体装置
1か月前
株式会社半導体エネルギー研究所
半導体装置
13日前
株式会社半導体エネルギー研究所
半導体装置
1か月前
続きを見る