特許ウォッチ

公開番号2025103535
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-07-09
出願番号2023220985
出願日2023-12-27
発明の名称ブラシ研磨装置、及びウエハ保持装置の製造方法
出願人新東工業株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類B24B 29/00 20060101AFI20250702BHJP(研削;研磨)
要約【課題】ウエハ保持装置の表面に残存する金属元素を除去する技術を提供する。
【解決手段】ブラシ研磨装置は、複数の凸部を表面に有するウエハ保持装置を支持するテーブルと、非金属の材料で形成された毛材及び非金属の材料で形成された毛材ホルダを含み、前記テーブルに支持された前記ウエハ保持装置を研磨するブラシと、を備える。
【選択図】図1

特許請求の範囲【請求項１】
複数の凸部を表面に有するウエハ保持装置を支持するテーブルと、
非金属の材料で形成された毛材及び非金属の材料で形成された毛材ホルダを含み、前記テーブルに支持された前記ウエハ保持装置を研磨するブラシと、
を備える、ブラシ研磨装置。
続きを表示（約 390 文字）【請求項２】
前記毛材は化学繊維で形成され、前記毛材ホルダは樹脂で形成される、請求項１に記載のブラシ研磨装置。
【請求項３】
前記毛材は砥材を含み、前記砥材の径は５０ μｍ～８０ μｍであり、毛材の密度は４０％～９５％である、請求項１又は２に記載のブラシ研磨装置。
【請求項４】
前記テーブルは、前記ウエハ保持装置を支持する支持面を有し、前記支持面は非金属で形成される、請求項１又は２に記載のブラシ研磨装置。
【請求項５】
前記ブラシの自転及び公転を行う多軸ユニットをさらに備える請求項１又は２に記載のブラシ研磨装置。
【請求項６】
非金属の材料で形成された毛材及び非金属の材料で形成された毛材ホルダを有するブラシで、複数の凸部を表面に有するウエハ保持装置を研磨する工程を含む、ウエハ保持装置の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、ブラシ研磨装置、及びウエハ保持装置の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,200 文字）【背景技術】
【０００２】
特許文献１は、ウエハ保持装置である静電チャックの製造方法を開示する。この方法は、サンドブラスト法によって静電チャックの表面に突起部を形成するエンボス加工を行う工程を含む。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１０－１６５８０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載のようなサンドブラスト法においては、一般的に炭化ケイ素又は酸化アルミニウムなどのセラミックなどから形成される砥粒が用いられる。このため、金属元素がウエハ保持装置上に残存する可能性がある。ウエハ保持装置の表面に残存する金属元素は、ウエハに成膜する際に不良を発生する原因と成り得る。本開示は、ウエハ保持装置の表面に残存する金属元素を除去する技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一側面に係るブラシ研磨装置は、複数の凸部を表面に有するウエハ保持装置を支持するテーブルと、非金属の材料で形成された毛材及び非金属の材料で形成された毛材ホルダを含み、前記テーブルに支持された前記ウエハ保持装置を研磨するブラシと、を備える。
【０００６】
本開示の他の側面に係るウエハ保持装置の製造方法は、非金属の材料で形成された毛材及び非金属の材料で形成された毛材ホルダを有するブラシで、複数の凸部を表面に有するウエハ保持装置を研磨する工程を含む。
【発明の効果】
【０００７】
本開示によれば、ウエハ保持装置の表面に残存する金属元素を除去できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
図１は、一実施形態に係るブラシ研磨装置の概要を説明する図である。
図２は、処理対象であるウエハ保持装置の一例を示す断面図である。
図３は、図１のテーブル及びブラシの詳細を説明する図である。
図４は、図１のテーブル及びブラシの詳細を説明する図である。
図５は、ウエハ保持装置の製造方法を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
図面を参照しながら本開示の実施形態が詳細に説明される。図面の説明において同一要素には同一符号が付され、重複する説明は省略される。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない。「上」「下」「左」「右」の語は、図示する状態に基づくものであり、便宜的なものである。
【００１０】
［ブラシ研磨装置］
図１は、一実施形態に係るブラシ研磨装置の概要を説明する図である。図１に示されるブラシ研磨装置１は、ウエハ保持装置２の表面を研磨する装置である。ウエハ保持装置２は、半導体製造などに用いられるウエハ（基板）を保持する装置であり、一例として静電チャックである。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許