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公開番号2025054542
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-08
出願番号2023163636
出願日2023-09-26
発明の名称研磨装置および研磨方法
出願人株式会社精工技研
代理人個人
主分類B24B 19/00 20060101AFI20250331BHJP(研削;研磨)
要約【課題】作業者の手作業による工程を削減することができるとともに、装置の大型化や高コスト化を極力回避した研磨装置を提供する。
【解決手段】ホルダーに装着された被研磨物を研磨する研磨装置であって、研磨盤をターンテーブルの上面に配置した状態で回転駆動されることで前記被研磨物を研磨する研磨機構と、前記被研磨物を洗浄する洗浄機構と、前記ホルダーを移動させるホルダー移動機構と、前記研磨盤を移動させる研磨盤移動機構と、前記研磨機構に対する前記ホルダーの位置と前記研磨盤の位置を制御する制御機構と、を備え、前記ホルダーと前記研磨盤は、少なくとも所定の軸方向において互いに連動して移動するように構成される。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
ホルダーに装着された被研磨物を研磨する研磨装置であって、
研磨盤をターンテーブルの上面に配置した状態で回転駆動されることで前記被研磨物を研磨する研磨機構と、
前記被研磨物を洗浄する洗浄機構と、
前記ホルダーを移動させるホルダー移動機構と、
前記研磨盤を移動させる研磨盤移動機構と、
前記研磨機構に対する前記ホルダーの位置と前記研磨盤の位置を制御する制御機構と、を備え、
前記ホルダーと前記研磨盤は、少なくとも所定の軸方向において互いに連動して移動するように構成されることを特徴とする研磨装置。
続きを表示（約 1,300 文字）【請求項２】
前記ホルダー移動機構は、少なくとも前記研磨機構により前記被研磨物を研磨する研磨位置と前記洗浄機構により前記被研磨物を洗浄する洗浄位置との間で前記ホルダーを移動させるように構成され、
前記所定の軸方向は、前記研磨位置と前記洗浄位置との間で前記ホルダーを移動させる方向であることを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項３】
前記研磨盤移動機構は、少なくとも保管場所に保管された前記研磨盤を前記研磨盤移動機構により保持する研磨盤保持位置と前記研磨盤移動機構により保持された前記研磨盤を前記研磨機構の前記上面に配置する研磨盤配置位置との間で前記研磨盤を移動させるように構成され、
前記所定の軸方向は、前記研磨盤保持位置と前記研磨盤配置位置との間で前記研磨盤を移動させる方向であることを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項４】
前記ホルダーが前記研磨位置に位置するとき、前記保管場所に保管された前記研磨盤が前記研磨盤移動機構により保持され、
前記ホルダーが前記洗浄位置に位置するとき、前記研磨盤移動機構により保持された前記研磨盤が前記研磨機構の前記ターンテーブルの前記上面に配置されることを特徴とする請求項３に記載の研磨装置。
【請求項５】
前記研磨盤を清掃する清掃機構と、
前記清掃機構を移動させる清掃機構移動機構と、をさらに備え、
前記制御機構は、前記研磨機構に対する前記清掃機構の位置を制御し、
前記清掃機構は、前記ホルダーおよび前記研磨盤と、少なくとも前記所定の軸方向において互いに連動して移動するように構成されることを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項６】
前記研磨盤移動機構は、２以上の研磨盤を同時に保持することが可能であり、
前記研磨盤移動機構は、前記２以上の研磨盤の前記所定の軸方向における位置を入れ替える研磨盤入替機構を有することを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項７】
前記制御機構は、前記被研磨物の研磨後の前記ターンテーブルの停止位置を所定の位置に移動させることを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項８】
前記ホルダーが前記研磨装置に固定された固定状態と前記ホルダーが前記研磨装置から解放された解放状態とを切り替える固定切替機構をさらに備え、
前記制御機構は、前記固定状態と前記解放状態を切り替えるように構成されることを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
【請求項９】
前記固定状態において、前記ホルダーは前記ホルダー移動機構に対して鉛直方向に所定距離だけ離間可能な状態で固定されることを特徴とする請求項８に記載の研磨装置。
【請求項１０】
前記研磨盤に研磨液を供給する研磨液供給機構をさらに備え、
前記制御機構は、前記研磨液供給機構から前記研磨盤への前記研磨液の供給を制御することを特徴とする請求項１に記載の研磨装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ファイバや試料の研磨に使用される研磨装置および研磨方法に関する。
続きを表示（約 2,100 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、光ファイバ等の被研磨物を研磨装置で研磨する際、被研磨物を研磨する工程以外は作業者の手作業により行われるのが一般的である。例えば、研磨装置のターンテーブルの上面に研磨盤を配置する工程や、研磨後にホルダーに装着した被研磨物を洗浄する工程は基本的に手作業で行われている。そのため、作業者は常に研磨装置から離れることができず、作業効率が悪いという問題がある。
【０００３】
上述した問題を解決するため、特許文献１は、光ファイバを研磨する研磨装置において、研磨盤をターンテーブルに配置する工程や光ファイバを洗浄する工程を機械により自動的に実施する研磨装置を開示している。しかしながら、研磨盤をターンテーブルに移動させる機構と、ホルダーを洗浄位置に移動させる機構はそれぞれ独立して設置されている。そのため、装置の大型化や高コスト化を避けることができない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０００－４２８９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、作業者の手作業による工程を削減することができるとともに、装置の大型化や高コスト化を回避した研磨装置および研磨方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の研磨装置は、ホルダーに装着された被研磨物を研磨する研磨装置であって、研磨盤をターンテーブルの上面に配置した状態で回転駆動されることで前記被研磨物を研磨する研磨機構と、前記被研磨物を洗浄する洗浄機構と、前記ホルダーを移動させるホルダー移動機構と、前記研磨盤を移動させる研磨盤移動機構と、前記研磨機構に対する前記ホルダーの位置と前記研磨盤の位置を制御する制御機構と、を備え、前記ホルダーと前記研磨盤は、少なくとも所定の軸方向において互いに連動して移動するように構成される。
上記のように構成された研磨装置では、ホルダーを移動させるホルダー移動機構と研磨盤を移動させる研磨盤移動機構が設けられており、ホルダーと研磨盤は、少なくとも所定の軸方向において互いに連動して移動するように構成される。
【０００７】
上記構成において、前記ホルダー移動機構は、少なくとも前記研磨機構により前記被研磨物を研磨する研磨位置と前記洗浄機構により前記被研磨物を洗浄する洗浄位置との間で前記ホルダーを移動させるように構成され、前記所定の軸方向は、前記研磨位置と前記洗浄位置との間で前記ホルダーを移動させる方向である。
上記のように構成された研磨装置では、ホルダーは研磨位置と洗浄位置との間で移動するように構成されるとともに、研磨盤もこのホルダーの移動方向においてホルダーと連動して移動するように構成される。
【０００８】
上記構成において、前記研磨盤移動機構は、少なくとも保管場所に保管された前記研磨盤を前記研磨盤移動機構により保持する研磨盤保持位置と前記研磨盤移動機構により保持された前記研磨盤を前記研磨機構の前記上面に配置する研磨盤配置位置との間で前記研磨盤を移動させるように構成され、前記所定の軸方向は、前記研磨盤保持位置と前記研磨盤配置位置との間で前記研磨盤を移動させる方向である。
上記のように構成された研磨装置では、研磨盤は研磨盤保持位置と研磨盤配置位置との間で移動するように構成されるとともに、ホルダーもこの研磨盤の移動方向において研磨盤と連動して移動するように構成される。
【０００９】
上記構成において、前記ホルダーが前記研磨位置に位置するとき、前記保管場所に保管された前記研磨盤が前記研磨盤移動機構により保持され、前記ホルダーが前記洗浄位置に位置するとき、前記研磨盤移動機構により保持された前記研磨盤が前記研磨機構の前記ターンテーブルの前記上面に配置される。
上記のように構成された研磨装置では、ホルダーが研磨位置に位置するときに研磨盤移動機構は研磨盤保持位置に位置し、ホルダーが洗浄位置に位置するときに研磨盤移動機構は研磨盤配置位置に位置する。つまり、被研磨物の研磨中に研磨盤を研磨盤移動機構により保持し、被研磨物の洗浄中に研磨盤をターンテーブルの上面に配置する。
【００１０】
上記構成において、前記研磨盤を清掃する清掃機構と、前記清掃機構を移動させる清掃機構移動機構と、をさらに備え、前記制御機構は、前記研磨機構に対する前記清掃機構の位置を制御し、前記清掃機構は、前記ホルダーおよび前記研磨盤と、少なくとも前記所定の軸方向において互いに連動して移動するように構成してもよい。
上記のように構成された研磨装置では、清掃機構を移動させる清掃機構移動機構が設けられており、清掃機構とホルダーと研磨盤は、少なくとも所定の軸方向において互いに連動して移動するように構成される。
（【００１１】以降は省略されています）

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