TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2025071492
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-05-08
出願番号2023181698
出願日2023-10-23
発明の名称研磨装置
出願人株式会社荏原製作所
代理人個人,個人,個人,個人
主分類B24B 55/06 20060101AFI20250428BHJP(研削;研磨)
要約【課題】洗浄ノズルから吐出された洗浄液が研磨パッドの方向に飛散することを抑制しつつ、ドレッサの下面を洗浄することができる技術を提供する。
【解決手段】研磨装置1は、研磨テーブル2とトップリング3とドレッサ10と少なくとも1つの洗浄ノズル20とドレッサ回転機構32とを備え、少なくとも1つの洗浄ノズルは、洗浄液Lqを、扇形状に吐出し、且つ、研磨パッドPdから離れる方向に吐出し、洗浄液の吐出中心軸XL2がドレッサの下面11に交わる交点IPは、平面視で、ドレッサの下面の中心線CL1よりも少なくとも1つの洗浄ノズルに近い側に位置し、少なくとも1つの洗浄ノズルは、当該洗浄ノズルから吐出されてドレッサの下面に当接した洗浄液の一部が移動してドレッサの下面の中心C1を通過するように、洗浄液を吐出する。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項1】
基板を研磨するための研磨パッドを保持するように構成された研磨テーブルと、
前記基板を保持するように構成されたトップリングと、
前記研磨パッドをドレッシングするように構成されたドレッサであって、前記ドレッサは、前記ドレッサが前記研磨パッドの上方に位置するドレッシング位置と、前記ドレッサが前記研磨パッドの上方に位置しない待機位置と、の間で移動可能に構成されたドレッサと、
前記ドレッサが前記待機位置に位置した状態で前記ドレッサよりも下方側から前記ドレッサの下面に向けて洗浄液を吐出することで当該下面を洗浄するように構成された、少なくとも1つの洗浄ノズルと、
前記洗浄液による前記ドレッサの洗浄時に、前記ドレッサを回転させるように構成されたドレッサ回転機構と、を備え、
前記少なくとも1つの洗浄ノズルは、前記洗浄液を、扇形状に吐出し、且つ、前記研磨パッドから離れる方向に吐出し、
吐出された扇形状の前記洗浄液の中心軸である吐出中心軸が前記ドレッサの前記下面に交わる交点は、平面視で、前記ドレッサの前記下面の中心線であって前記吐出中心軸に対して垂直な中心線よりも前記少なくとも1つの洗浄ノズルに近い側に位置し、
前記少なくとも1つの洗浄ノズルは、当該洗浄ノズルから吐出されて前記ドレッサの前記下面に当接した前記洗浄液の一部が移動して前記ドレッサの前記下面の中心を通過するように、前記洗浄液を吐出する、研磨装置。
続きを表示(約 320 文字)【請求項2】
前記少なくとも1つの洗浄ノズルは、複数の洗浄ノズルを含む、請求項1に記載の研磨装置。
【請求項3】
前記複数の洗浄ノズルは、前記複数の洗浄ノズルから吐出された前記洗浄液が前記ドレッサの前記下面に当接する際に当該洗浄液から当該下面に加わる圧力が部分的に高くなるように、前記洗浄液を吐出する、請求項2に記載の研磨装置。
【請求項4】
前記複数の洗浄ノズルは、前記複数の洗浄ノズルから吐出された前記洗浄液が、回転する前記ドレッサの前記下面の全面に当接するように、又は、回転する前記ドレッサの前記下面の一部に当接した後に当該下面の全面に移動するように、配置されている、請求項3に記載の研磨装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、研磨装置に関する。
続きを表示(約 1,600 文字)【背景技術】
【0002】
従来、基板を研磨するための研磨パッドを保持する研磨テーブルと、基板を保持するトップリングと、研磨パッドをドレッシングするドレッサと、ドレッサの下面に向けて洗浄液を吐出することでトレッサの下面を洗浄する洗浄ノズルと、を備える、研磨装置が知られている(例えば、特許文献1,2参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開平9-254018号公報
特開平11-347917号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
上述したような従来の研磨装置の場合、洗浄ノズルから吐出された洗浄液が研磨パッドの方向に飛散するおそれがある。この場合、この飛散した洗浄液に起因して基板の研磨品質が悪化するおそれがある。
【0005】
本発明は、上記のことを鑑みてなされたものであり、洗浄ノズルから吐出された洗浄液が研磨パッドの方向に飛散することを抑制しつつ、ドレッサの下面を洗浄することができる技術を提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
(態様1)
上記目的を達成するため、本発明の一態様に係る研磨装置は、基板を研磨するための研磨パッドを保持するように構成された研磨テーブルと、前記基板を保持するように構成されたトップリングと、前記研磨パッドをドレッシングするように構成されたドレッサであって、前記ドレッサは、前記ドレッサが前記研磨パッドの上方に位置するドレッシング位置と、前記ドレッサが前記研磨パッドの上方に位置しない待機位置と、の間で移動可能に構成されたドレッサと、前記ドレッサが前記待機位置に位置した状態で前記ドレッサよりも下方側から前記ドレッサの下面に向けて洗浄液を吐出することで当該下面を洗浄するように構成された、少なくとも1つの洗浄ノズルと、前記洗浄液による前記ドレッサの洗浄時に、前記ドレッサを回転させるように構成されたドレッサ回転機構と、を備え、前記少なくとも1つの洗浄ノズルは、前記洗浄液を、扇形状に吐出し、且つ、前記研磨パッドから離れる方向に吐出し、吐出された扇形状の前記洗浄液の中心軸である吐出中心軸が前記ドレッサの前記下面に交わる交点は、平面視で、前記ドレッサの前記下面の中心線であって前記吐出中心軸に対して垂直な中心線よりも前記少なくとも1つの洗浄ノズルに近い側に位置し、前記少なくとも1つの洗浄ノズルは、当該洗浄ノズルから吐出されて前記ドレッサの前記下面に当接した前記洗浄液の一部が移動して前記ドレッサの前記下面の中心を通過するように、前記洗浄液を吐出する。
【0007】
この態様によれば、洗浄ノズルが研磨パッドから離れる方向に洗浄液を吐出しているので、洗浄ノズルから吐出された洗浄液が研磨パッドの方向に飛散することを抑制しつつ、ドレッサの下面を洗浄することができる。
【0008】
また、この態様によれば、洗浄ノズルから吐出された洗浄液を平面視でドレッサの下面の中心線よりも洗浄ノズルに近い側に当接させることができ、且つ、このドレッサの下面に当接した洗浄液の一部をドレッサの下面の中心を通過させることができるので、ドレッサの下面の中心の洗浄が不十分になることを抑制しつつ、ドレッサの下面を洗浄することができる。
【0009】
(態様2)
上記の態様1において、前記少なくとも1つの洗浄ノズルは、複数の洗浄ノズルを含んでいてもよい。
【0010】
(態様3)
上記の態様2において、前記複数の洗浄ノズルは、前記複数の洗浄ノズルから吐出された前記洗浄液が前記ドレッサの前記下面に当接する際に当該洗浄液から当該下面に加わる圧力が部分的に高くなるように、前記洗浄液を吐出してもよい。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許