TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2025135907
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-09-19
出願番号
2024033980
出願日
2024-03-06
発明の名称
被加工物の加工方法
出願人
株式会社ディスコ
代理人
個人
主分類
B24B
7/04 20060101AFI20250911BHJP(研削;研磨)
要約
【課題】 被加工物の外周の面取り部の一部を除去するためのエッジトリミングと、その後の薄化を行う加工方法に関し、被加工物の加工品質低下を防止するための新規な技術を提案する。
【解決手段】第1面と第2面とを有し外周に面取り部が形成された被加工物の加工方法であって、該被加工物の外周縁に沿って該面取り部を該第1面側から所定深さ除去し、該外周縁に段差部を形成する面取り部除去ステップと、該被加工物の第1面側から所定の仕上げ厚みへと薄化する薄化ステップと、を少なくとも含み、該薄化ステップでは、該段差部の底面の位置を測定する測定ステップを実施し、該薄化ステップにおいて、該被加工物の厚みが該段差部の底面の位置になる前に加工を終了する、被加工物の加工方法とする。
【選択図】図7
特許請求の範囲
【請求項1】
第1面と第2面とを有し外周に面取り部が形成された被加工物の加工方法であって、
該被加工物の外周縁に沿って該面取り部を該第1面側から所定深さ除去し、該外周縁に段差部を形成する面取り部除去ステップと、
該被加工物の第1面側から所定の仕上げ厚みへと薄化する薄化ステップと、
を少なくとも含み、
該薄化ステップでは、該段差部の底面の位置を測定する測定ステップを実施し、
該薄化ステップにおいて、該被加工物の厚みが該段差部の底面の位置になる前に加工を終了する、
被加工物の加工方法。
続きを表示(約 320 文字)
【請求項2】
該測定ステップでは、
非接触厚み測定器により、該被加工物の第1面側の面の高さ位置と該段差部の底面の高さ位置との差分を測定する、
ことを特徴とする請求項1に記載の被加工物の加工方法。
【請求項3】
非接触厚み測定器は、
該被加工物の第1面側の面の高さ位置と、該段差部の底面の高さ位置と、を同時に測定できる一つのユニットにて構成される、
ことを特徴とする請求項2に記載の被加工物の加工方法。
【請求項4】
該測定ステップは、
該薄化ステップ中に継続して行なわれる、
ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の被加工物の加工方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、被加工物の外周の面取り部の一部を除去するためのエッジトリミングの技術に関する。
続きを表示(約 1,000 文字)
【背景技術】
【0002】
従来、IC、LSI等のデバイスが表面に複数形成されたシリコンウェーハは、裏面が研削されて所定の厚みに形成された後、切削装置によって個々のデバイスに分割され、携帯電話、パソコン等の電気機器に利用される。
【0003】
近年、デバイスチップの低背化や高集積化に伴い、3次元積層されたウェーハの開発が進んでいる。これは、例えば、複数枚のウェーハをベースウェーハに重ねて貼り合わせてウェーハ同士を貫通電極(TSV)で接続する技術である(WOW:Wafer-on-Waferとも呼ばれる)。
【0004】
また、ベースウェーハに酸化膜を介してボンドウェーハ(デバイスを作るウェーハ)を貼り合わせたウェーハ(SOI:Silicon on Insulatorとも呼ばれる)の開発も進んでいる。
【0005】
上記ウェーハは、例えば2枚のウェーハを貼り合わせた後、一方のウェーハの裏面を所定の厚みまで公知の研削装置により研削加工されて薄化される。
【0006】
ここで、一方のウェーハの裏面を研削加工すると、ウェーハの外周の面取り部が所謂ナイフエッジとなり、外周縁が破損して被加工物に飛散して被加工物を損傷してしまう。また、ナイフエッジは、エッジチッピングの原因にもなる。
【0007】
そこで、貼り合わせる前に、例えば、特許文献1に開示されるように、一方のウェーハの外周の面取り部の一部を切削により除去して段差部を形成するエッジトリミングを行い、エッジトリミングされたウェーハをもう一方のウェーハに貼り合わせる技術が実用に供されている。
【0008】
しかし、貼り合わせの前のエッジトリミングの際に、切削により生じる切削屑(コンタミ)などの異物が残存することが懸念され、この異物が二枚のウェーハの間に挟まってしまうと、貼り合わせウェーハの品質が著しく低下してしまうことになる。
【0009】
一方で、例えば、特許文献2のように、ウェーハ同士を貼り合わせした後に、一方のウェーハの外周の面取り部に段差部を形成し、その後、一方のウェーハの裏面を薄化する技術も知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0010】
特開2010-245167号公報
特開2022-165203号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPat(特許庁公式サイト)で参照する
関連特許
株式会社ディスコ
研削装置
9日前
株式会社ディスコ
加工装置
3日前
株式会社ディスコ
加工装置
3日前
株式会社ディスコ
研磨装置
10日前
株式会社ディスコ
加工方法
5日前
株式会社ディスコ
搬送システム
9日前
株式会社ディスコ
ブレーキング装置
9日前
株式会社ディスコ
検出方法及び処理装置
2日前
株式会社ディスコ
洗浄装置及び洗浄方法
10日前
株式会社ディスコ
搬出装置及び切削装置
2日前
株式会社ディスコ
搬送機構および搬送方法
10日前
株式会社ディスコ
試験装置、試験片の試験方法
13日前
株式会社ディスコ
窒化ガリウム基板の製造方法
5日前
株式会社ディスコ
チャックテーブルの整形方法
4日前
株式会社ディスコ
保護シート、及びシート配設方法
9日前
株式会社ディスコ
板状ワークの研削方法及び研削装置
5日前
株式会社ディスコ
ウエーハの処理方法及びウエーハの処理装置
11日前
株式会社ディスコ
シートの処理方法、チップの製造方法及び基板の製造方法
9日前
株式会社ディスコ
フレームユニット形成方法およびフレームユニット形成装置
9日前
株式会社ディスコ
ドレッシングツール、保持テーブル、加工装置、及び、ドレッシング方法
2日前
個人
包丁研ぎ器具
2か月前
株式会社松風
研磨用ゴム砥石
2日前
株式会社クボタ
管研削装置
3か月前
株式会社ディスコ
被加工物の加工方法
23日前
ノリタケ株式会社
超砥粒ホイール
2日前
株式会社東京精密
加工装置
4日前
株式会社東京精密
加工装置
2日前
株式会社ニッチュー
ブラスト装置
3か月前
株式会社東京精密
加工方法
4日前
秀和工業株式会社
処理装置および処理方法
25日前
ノリタケ株式会社
研磨パッド
2日前
トヨタ自動車株式会社
回転砥石の製造方法
2か月前
オークマ株式会社
円筒研削盤
3か月前
株式会社アイドゥス企画
受動変形内面研磨ホイール
2か月前
株式会社東京精密
研削装置
1か月前
Mipox株式会社
研磨部材の製造方法
1か月前
続きを見る
他の特許を見る