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公開番号2025149450
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-08
出願番号2024050109
出願日2024-03-26
発明の名称基板洗浄装置のキャリブレーション方法および基板洗浄方法
出願人株式会社荏原製作所
代理人個人,個人,個人
主分類H01L 21/304 20060101AFI20251001BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】コスト低減が可能な基板洗浄装置のキャリブレーション方法および基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板洗浄装置のキャリブレーション方法は、第1ロール洗浄部材を支持可能な第1ロール支持部3と、第1ロール支持部3に第1ロール洗浄部材に代えて取り付けられた受圧部材9と、基板に対して接近および離間する方向に第1ロール支持部3を移動させる第1移動機構5と、第1ロール支持部3に設けられ、第1ロール洗浄部材が基板に加える押圧荷重を測定するロードセル7と、第2ロール洗浄部材2と、第2ロール洗浄部材2を支持する第2ロール支持部4と、基板に対して接近および離間する方向に第2ロール支持部4を移動させる第2移動機構6と、を用い、第2移動機構6によって第2ロール洗浄部材2を受圧部材9に押し当てたときの荷重をロードセル7によって測定する測定工程を有する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基板の第１面を洗浄する第１ロール洗浄部材を支持可能な第１ロール支持部と、
前記第１ロール支持部に前記第１ロール洗浄部材に代えて取り付けられた受圧部材と、
前記基板に対して接近および離間する方向に前記第１ロール支持部を移動させる第１移動機構と、
前記第１ロール支持部に設けられ、前記第１ロール洗浄部材が前記基板に加える押圧荷重を測定するロードセルと、
前記基板の前記第１面と反対の第２面を洗浄する第２ロール洗浄部材と、
前記第２ロール洗浄部材を支持する第２ロール支持部と、
前記基板に対して接近および離間する方向に前記第２ロール支持部を移動させる第２移動機構と、を用い、
前記第２移動機構によって前記第２ロール洗浄部材を前記受圧部材に押し当てたときの荷重を前記ロードセルによって測定する測定工程を有する、
基板洗浄装置のキャリブレーション方法。
続きを表示（約 440 文字）【請求項２】
前記受圧部材の硬度は、前記第２ロール洗浄部材の硬度に比べて高い、
請求項１記載の基板洗浄装置のキャリブレーション方法。
【請求項３】
前記受圧部材は、前記測定工程において前記第２ロール洗浄部材が押し当てられる平坦な受圧面を有する、
請求項１記載の基板洗浄装置のキャリブレーション方法。
【請求項４】
前記測定工程において、前記第２ロール洗浄部材を、石英板を介して前記受圧部材に押し当てることによって前記第２ロール洗浄部材の表面を清浄化する、
請求項１記載の基板洗浄装置のキャリブレーション方法。
【請求項５】
請求項１記載の基板洗浄装置のキャリブレーション方法の前記測定工程の後、
前記受圧部材に代えて前記第１ロール洗浄部材を前記第１ロール支持部に取り付け、前記第１ロール洗浄部材および前記第２ロール洗浄部材によって前記基板を洗浄する洗浄工程を有する、
基板洗浄方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板洗浄装置のキャリブレーション方法および基板洗浄方法に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体ウェハ等の基板の表面をロール洗浄部材で洗浄する基板洗浄装置においては、ロール洗浄部材を所定の押圧荷重で基板に接触させる必要がある。そのため、通常、基板洗浄装置の立上げ時、メンテナンス時などに、ロール洗浄部材の押圧荷重の調整（キャリブレーション）が行われている。特許文献１には、防水型ロードセルを備えた荷重測定装置を用いて押圧荷重を測定し、測定値に基づいてロール洗浄部材の押圧荷重の調整を行う方法が開示されている。
【０００３】
特許文献２には、基板の上側のロール洗浄部材の支持部と、基板の下側のロール洗浄部材の支持部とにそれぞれ設けられたロードセルを用いて押圧荷重の調整を行う方法が開示されている。この方法では、基板の上側と下側の両方のロール洗浄部材の押圧荷重を測定することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１６－１５７７７８号公報
特開２０１４－３８９８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１に記載の方法では、防水型ロードセルを備えた荷重測定装置を設置するため、コストがかさむ場合がある。特許文献２に記載の方法では、基板の上側と下側の両方のロール洗浄部材の支持部にロードセルが必要となるため、高コストとなる可能性がある。
【０００６】
本発明の一態様は、コスト低減が可能な基板洗浄装置のキャリブレーション方法および基板洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の態様１に係る基板洗浄装置のキャリブレーション方法は、基板の第１面を洗浄する第１ロール洗浄部材を支持可能な第１ロール支持部と、前記第１ロール支持部に前記第１ロール洗浄部材に代えて取り付けられた受圧部材と、前記基板に対して接近および離間する方向に前記第１ロール支持部を移動させる第１移動機構と、前記第１ロール支持部に設けられ、前記第１ロール洗浄部材が前記基板に加える押圧荷重を測定するロードセルと、前記基板の前記第１面と反対の第２面を洗浄する第２ロール洗浄部材と、前記第２ロール洗浄部材を支持する第２ロール支持部と、前記基板に対して接近および離間する方向に前記第２ロール支持部を移動させる第２移動機構と、を用い、前記第２移動機構によって前記第２ロール洗浄部材を前記受圧部材に押し当てたときの荷重を前記ロードセルによって測定する測定工程を有する。
【０００８】
本発明の態様２に係る基板洗浄装置のキャリブレーション方法は、態様１に記載の基板洗浄装置のキャリブレーション方法において、前記受圧部材の硬度は、前記第２ロール洗浄部材の硬度に比べて高い。
【０００９】
本発明の態様３に係る基板洗浄装置のキャリブレーション方法は、態様１または２に記載の基板洗浄装置のキャリブレーション方法において、前記受圧部材は、前記測定工程において前記第２ロール洗浄部材が押し当てられる平坦な受圧面を有する。
【００１０】
本発明の態様４に係る基板洗浄装置のキャリブレーション方法は、態様１～態様３のうちいずれか１つに記載の基板洗浄装置のキャリブレーション方法において、前記測定工程において、前記第２ロール洗浄部材を、石英板を介して前記受圧部材に押し当てることによって前記第２ロール洗浄部材の表面を清浄化する。
（【００１１】以降は省略されています）

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