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公開番号2025063276
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-15
出願番号2025009323,2021001687
出願日2025-01-22,2021-01-07
発明の名称マーク付きインダクタおよびマーク付き積層シート
出願人日東電工株式会社
代理人弁理士法人いくみ特許事務所
主分類H01F 27/00 20060101AFI20250408BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】精度よくアライメントして、ビアを形成でき、または、製品に関する情報を確実に取得できるマーク付きインダクタおよびマーク付き積層シートを提供すること。
【解決手段】マーク付きインダクタ21は、複数の配線7、および、複数の配線7を埋設する磁性層8を備えるシート状のインダクタ2と、インダクタ2の厚み方向一方側に配置され、および/または、磁性層8に形成されるマーク4とを備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
複数の配線、および、前記複数の配線を埋設する磁性層を備えるシート状のインダクタと、
前記インダクタの厚み方向一方側に配置され、および／または、前記磁性層に形成されるマークと
を備えることを特徴とする、マーク付きインダクタ。
続きを表示（約 1,700 文字）【請求項２】
前記マークは、厚み方向に投影したときに、前記配線と間隔が隔てられていることを特徴とする、請求項１に記載のマーク付きインダクタ。
【請求項３】
請求項１または２に記載され、前記マークが前記インダクタの厚み方向一方側に配置されるマーク付きインダクタと、
前記インダクタの前記厚み方向一方面に配置されており、前記マークが配置されるマーク層と
を備えることを特徴とする、マーク付き積層シート。
【請求項４】
前記マーク層の材料は、樹脂組成物であることを特徴とする、請求項３に記載のマーク付き積層シート。
【請求項５】
前記樹脂組成物が、熱硬化性樹脂組成物であり、
下記試験（ａ）～試験（ｅ）のうち、少なくともいずれか一つの試験を満足することを特徴とする、請求項４に記載のマーク付き積層シート。
試験（ａ）：前記マーク付き積層シートを３ｃｍ角に外形加工してサンプルを作製し、その周波数１０ＭＨｚにおける比透磁率μ１を求める。その後、サンプルを、硫酸銅５水和物６６ｇ／Ｌ、硫酸濃度１８０ｇ／Ｌ、塩素５０ｐｐｍ、トップルチナαを含有する硫酸銅めっき溶液２００ｍＬに、２５℃で、１２０分浸漬し、その後、サンプルの周波数１０ＭＨｚにおける比透磁率μ２を求める。下記式によって、浸漬前後における透磁率の変化率を求める。その結果、サンプルの透磁率の変化率が５％以下である。
透磁率の変化率（％）＝｜μ１－μ２｜／μ１×１００
試験（ｂ）：前記マーク付き積層シートを３ｃｍ角に外形加工してサンプルを作製し、その周波数１０ＭＨｚにおける比透磁率μ３を求める。その後、サンプルを、硫酸５５ｇ／Ｌを含有する酸活性水溶液２００ｍＬに、２５℃で、１分浸漬し、その後、サンプルの周波数１０ＭＨｚにおける比透磁率μ４を求める。下記式によって、浸漬前後における透磁率の変化率を求める。その結果、サンプルの透磁率の変化率が５％以下である。
透磁率の変化率（％）＝｜μ３－μ４｜／μ３×１００
試験（ｃ）：前記マーク付き積層シートを３ｃｍ角に外形加工してサンプルを作製し、その周波数１０ＭＨｚにおける比透磁率μ５を求める。その後、サンプルを、アトテックジャパン社製のリダクションソリューションセキュリガントＰ２００ｍＬに、４５℃で、５分浸漬し、その後、サンプルの周波数１０ＭＨｚにおける比透磁率μ６を求める。
下記式によって、浸漬前後における透磁率の変化率を求める。その結果、サンプルの透磁率の変化率が５％以下である。
透磁率の変化率（％）＝｜μ５－μ６｜／μ５×１００
試験（ｄ）：前記マーク付き積層シートを３ｃｍ角に外形加工してサンプルを作製し、その周波数１０ＭＨｚにおける比透磁率μ７を求める。その後、サンプルを、アトテックジャパン社製のコンセントレート・コンパクトＣＰ２００ｍＬに、８０℃で、１５分浸漬し、その後、サンプルの周波数１０ＭＨｚにおける比透磁率μ８を求める。下記式によって、浸漬前後における透磁率の変化率を求める。その結果、サンプルの透磁率の変化率が５％以下である。
透磁率の変化率（％）＝｜μ７－μ８｜／μ７×１００
試験（ｅ）：前記マーク付き積層シートを３ｃｍ角に外形加工してサンプルを作製し、その周波数１０ＭＨｚにおける比透磁率μ９を求める。その後、サンプルを、アトテックジャパン社製のスウェリングディップ・セキュリガントＰ２００ｍＬに、６０℃で、５分浸漬し、その後、サンプルの周波数１０ＭＨｚにおける比透磁率μ１０を求める。下記式によって、浸漬前後における透磁率の変化率を求める。その結果、サンプルの透磁率の変化率が５％以下である。
透磁率の変化率（％）＝｜μ９－μ１０｜／μ９×１００
【請求項６】
前記マークは、前記磁性層の厚み方向を貫通する貫通孔である
ことを特徴とする、請求項１に記載のマーク付きインダクタ。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、マーク付きインダクタおよびマーク付き積層シートに関する。
続きを表示（約 1,100 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、シート状のインダクタは、電子機器に搭載されることが知られている。例えば、配線と、配線を被覆する磁性層とを備えるインダクタが提案されている（例えば、下記特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１９－２２０６１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかるに、磁性層に、配線が電子機器と電気的に接続するためのビアを形成する場合がある。その際、平面視における配線の位置を正確に認識するために、インダクタをアライメントする必要がある。しかし、特許文献１では、インダクタを精度よくアライメントできないという不具合がある。
【０００５】
また、電子機器に搭載すべきインダクタは、それに関する情報を搭載前にユーザーが取得したい要求がある。しかし、特許文献１のインダクタは、上記した情報を備えない。そのため、ユーザーがインダクタの情報を事前に取得できないという不具合がある。
【０００６】
本発明は、精度よくアライメントして、ビアを形成でき、または、製品に関する情報を確実に取得できるマーク付きインダクタおよびマーク付き積層シートを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明（１）は、複数の配線、および、前記複数の配線を埋設する磁性層を備えるシート状のインダクタと、前記インダクタの厚み方向一方側に配置され、および／または、前記磁性層に形成されるマークとを備える、マーク付きインダクタを含む。
【０００８】
このマーク付きインダクタは、マークを備えるので、マークに基づいて、マーク付きインダクタをアライメントして、ビアを形成したり、または、マークに基づいて、製品に関する情報を認識して、かかる情報を確実に取得できる。
【０００９】
本発明（２）は、前記マークは、厚み方向に投影したときに、前記配線と間隔が隔てられている、（１）に記載のマーク付きインダクタを含む。
【００１０】
このマーク付きインダクタでは、マークは、配線と間隔が隔てられている。つまり、マークは、配線の厚み方向一方側に対向配置されていない。そのため、マークは、配線の存在に基づく位置ずれがなく形成される。そのため、マーク付きインダクタをより一層正確にアライメントでき、また、製品に関する情報をより確実に取得できる。
（【００１１】以降は省略されています）

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