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公開番号2025056643
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-08
出願番号2023166241
出願日2023-09-27
発明の名称差動排気装置、及び電子デバイスの製造方法
出願人ギガフォトン株式会社
代理人個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250401BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】EUV光生成システムの差動排気装置の提供
【解決手段】差動排気装置は、極端紫外光を出力する第1のチャンバと、第2のチャンバと、を連結する連結管と、第1の開口911と、第1の開口911を囲む第1の仕切り板912と、を含み、極端紫外光が第1の開口911を通るように連結管に配置された第1の隔壁と、第1の開口911より小さい第2の開口921と、第2の開口921を囲む第2の仕切り板922と、を含み、第1の開口911を通った極端紫外光が第2の開口921を通るように連結管に配置された第2の隔壁92と、第1の隔壁91aと第2の隔壁92との間の第1の差動排気室のガスを排気する第1の排気口61と、を備え、第2の仕切り板922の第1の差動排気室側の圧力分布において最も圧力が高い第1の高圧領域より外側の部分に第2の開口921が囲まれるように、第1の隔壁91aが配置される。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
極端紫外光を出力する第１のチャンバと、前記極端紫外光が入力される第２のチャンバであって前記第１のチャンバより圧力の低い前記第２のチャンバと、を連結する連結管と、
第１の開口と、前記第１の開口を囲む第１の仕切り板と、を含み、前記極端紫外光が前記第１の開口を通るように前記連結管に配置された第１の隔壁と、
前記第１の開口より小さい第２の開口と、前記第２の開口を囲む第２の仕切り板と、を含み、前記第１の開口を通った前記極端紫外光が前記第２の開口を通るように前記連結管に配置された第２の隔壁と、
前記第１の隔壁と前記第２の隔壁との間の第１の差動排気室のガスを排気する第１の排気口と、
を備え、
前記第２の仕切り板の前記第１の差動排気室側の圧力分布において最も圧力が高い第１の高圧領域より外側の部分に前記第２の開口が囲まれるように、前記第１の隔壁が配置された、差動排気装置。
続きを表示（約 1,300 文字）【請求項２】
請求項１に記載の差動排気装置であって、
前記第２の開口は、前記第２の仕切り板の前記第１の差動排気室側の圧力分布における中央値の等圧線よりも低圧側の部分に囲まれる、差動排気装置。
【請求項３】
請求項１に記載の差動排気装置であって、
前記第２の開口は、前記第２の仕切り板の前記第１の差動排気室側の圧力分布における閉じた等圧線のうちの最長の等圧線の外側に位置する、差動排気装置。
【請求項４】
請求項１に記載の差動排気装置であって、
前記第１の開口から前記第１の差動排気室に流入するガス流れの中心軸が前記第２の仕切り板と交差する、差動排気装置。
【請求項５】
請求項１に記載の差動排気装置であって、
前記第１の排気口は、前記第１の開口を通る前記極端紫外光の光路軸を含む第１の面であって前記第１の開口から前記第１の差動排気室に流入するガス流れの中心軸と前記光路軸とを含む第２の面に垂直な前記第１の面よりも、前記ガス流れの下流側の空間に位置する、
差動排気装置。
【請求項６】
請求項１に記載の差動排気装置であって、
前記第１の隔壁と前記第１の排気口との距離は、前記第２の隔壁と前記第１の排気口との距離よりも大きい、差動排気装置。
【請求項７】
請求項１に記載の差動排気装置であって、
前記第１の開口を通る前記極端紫外光の光路軸が前記第１の隔壁と非垂直である、差動排気装置。
【請求項８】
請求項７に記載の差動排気装置であって、
前記第１の開口の中心と前記第２の開口の中心との間隔をＤ
１
とし、前記第２の開口の直径をｄ
２
としたとき、前記光路軸と前記第１の隔壁に垂直な垂直軸との角度θ
１
が以下の式を満たす、差動排気装置。
ｔａｎθ
１
＞ｄ
２
／２Ｄ
１
【請求項９】
請求項７に記載の差動排気装置であって、
前記第１の開口の中心と前記第２の開口の中心との間隔をＤ
１
とし、前記第１の開口の直径をｄ
１
とし、前記第２の開口の直径をｄ
２
としたとき、前記光路軸と前記第１の隔壁に垂直な垂直軸との角度θ
１
が以下の式を満たす、差動排気装置。
ｔａｎθ
１
＞（ｄ
１
＋ｄ
２
）／２Ｄ
１
【請求項１０】
請求項７に記載の差動排気装置であって、
前記第１の排気口は、前記光路軸を含む第１の面であって前記第１の隔壁に垂直で前記第１の開口の中心を通る軸である垂直軸と前記光路軸とを含む第２の面に垂直な前記第１の面よりも、前記垂直軸と前記第２の隔壁とが交差する側の空間に位置する、
差動排気装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、差動排気装置、及び電子デバイスの製造方法に関する。
続きを表示（約 3,200 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、半導体プロセスの微細化に伴って、半導体プロセスの光リソグラフィにおける転写パターンの微細化が急速に進展している。次世代においては、１０ｎｍ以下の微細加工が要求されるようになる。このため、波長約１３ｎｍの極端紫外（ＥＵＶ）光を生成するための装置と縮小投影反射光学系とを組み合わせた半導体露光装置の開発が期待されている。
【０００３】
ＥＵＶ光生成装置としては、ターゲット物質にレーザ光を照射することによって生成されるプラズマが用いられるＬＰＰ（Laser Produced Plasma）式の装置の開発が進んでいる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
米国特許出願公開第２００９／３１４９６７号明細書
米国特許出願公開第２００４／０４６９４９号明細書
【概要】
【０００５】
本開示の１つの観点に係る差動排気装置は、極端紫外光を出力する第１のチャンバと、極端紫外光が入力される第２のチャンバであって第１のチャンバより圧力の低い第２のチャンバと、を連結する連結管と、第１の開口と、第１の開口を囲む第１の仕切り板と、を含み、極端紫外光が第１の開口を通るように連結管に配置された第１の隔壁と、第１の開口より小さい第２の開口と、第２の開口を囲む第２の仕切り板と、を含み、第１の開口を通った極端紫外光が第２の開口を通るように連結管に配置された第２の隔壁と、第１の隔壁と第２の隔壁との間の第１の差動排気室のガスを排気する第１の排気口と、を備え、第２の仕切り板の第１の差動排気室側の圧力分布において最も圧力が高い第１の高圧領域より外側の部分に第２の開口が囲まれるように、第１の隔壁が配置される。
【０００６】
本開示の１つの観点に係る電子デバイスの製造方法は、差動排気装置であって極端紫外光を出力する第１のチャンバと、極端紫外光が入力される第２のチャンバであって第１のチャンバより圧力の低い第２のチャンバと、を連結する連結管と、第１の開口と、第１の開口を囲む第１の仕切り板と、を含み、極端紫外光が第１の開口を通るように連結管に配置された第１の隔壁と、第１の開口より小さい第２の開口と、第２の開口を囲む第２の仕切り板と、を含み、第１の開口を通った極端紫外光が第２の開口を通るように連結管に配置された第２の隔壁と、第１の隔壁と第２の隔壁との間の第１の差動排気室のガスを排気する第１の排気口と、を備え、第２の仕切り板の第１の差動排気室側の圧力分布において最も圧力が高い第１の高圧領域より外側の部分に第２の開口が囲まれるように、第１の隔壁が配置された、差動排気装置と、第１のチャンバと、を備える極端紫外光生成システムによって極端紫外光を生成し、極端紫外光を第２のチャンバを含む露光装置に出力し、電子デバイスを製造するために、露光装置内で感光基板上に極端紫外光を露光することを含む。
【０００７】
本開示の１つの観点に係る電子デバイスの製造方法は、差動排気装置であって極端紫外光を出力する第１のチャンバと、極端紫外光が入力される第２のチャンバであって第１のチャンバより圧力の低い第２のチャンバと、を連結する連結管と、第１の開口と、第１の開口を囲む第１の仕切り板と、を含み、極端紫外光が第１の開口を通るように連結管に配置された第１の隔壁と、第１の開口より小さい第２の開口と、第２の開口を囲む第２の仕切り板と、を含み、第１の開口を通った極端紫外光が第２の開口を通るように連結管に配置された第２の隔壁と、第１の隔壁と第２の隔壁との間の第１の差動排気室のガスを排気する第１の排気口と、を備え、第２の仕切り板の第１の差動排気室側の圧力分布において最も圧力が高い第１の高圧領域より外側の部分に第２の開口が囲まれるように、第１の隔壁が配置された、差動排気装置と、第１のチャンバと、を備える極端紫外光生成システムによって生成した極端紫外光をマスクに照射してマスクの欠陥を検査し、検査の結果を用いてマスクを選定し、選定したマスクに形成されたパターンを感光基板上に露光転写することを含む。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、比較例に係るＬＰＰ式のＥＵＶ光生成システムの構成を示す。
図２は、図１に示されるＥＵＶ光生成装置の構成を示す。
図３は、図１に示される差動排気装置の構成を示す。
図４は、第１の実施形態に係る差動排気装置の構成を示す。
図５は、図４に示される差動排気装置の各部の寸法を示す。
図６は、比較例における第２の仕切り板の第１の差動排気室側の圧力分布のシミュレーション結果を示す。
図７は、第１の実施形態における第２の仕切り板の第１の差動排気室側の圧力分布のシミュレーション結果を示す。
図８は、図４に示される差動排気装置における第１の排気口の位置を示す。
図９は、第２の実施形態に係る差動排気装置の構成を示す。
図１０は、図９に示される差動排気装置の各部の寸法を示す。
図１１は、図９に示される差動排気装置における第１の排気口の位置を示す。
図１２は、第２の実施形態の変形例に係る差動排気装置の構成を示す。
図１３は、第３の実施形態に係る差動排気装置の構成を示す。
図１４は、図１３に示される第１の隔壁の斜視図である。
図１５は、第３の実施形態の変形例に係る差動排気装置の構成を示す。
図１６は、図１５に示される第１の隔壁の斜視図である。
図１７は、第４の実施形態に係る差動排気装置の構成を示す。
図１８は、ＥＵＶ光生成システムに接続された露光装置の構成を概略的に示す。
図１９は、ＥＵＶ光生成システムに接続された検査装置の構成を概略的に示す。
【実施形態】
【０００９】
＜内容＞
１．比較例
１．１構成
１．２動作
２．比較例の課題
３．第１の隔壁９１ａが斜めに配置された差動排気装置９０ａ
３．１構成
３．２第２の仕切り板９２２の第１の差動排気室９１０側の圧力分布
３．３第１の排気口６１の位置
３．４作用
４．第１の開口９１１が斜めに形成された差動排気装置９０ｂ及び９０ｃ
４．１構成
４．２第１の排気口６１の位置
４．３変形例
４．４作用
５．第１の仕切り板９１２の厚さが部分的に異なる差動排気装置９０ｄ及び９０ｅ
５．１構成
５．２変形例
５．３作用
６．複数の差動排気室９１０、９２０、及び９３０を含む差動排気装置９０ｆ
６．１構成
６．２第２及び第３の排気口６２及び６３の位置
６．３作用
７．その他
７．１ＥＵＶ光利用装置６の例
７．２補足
【００１０】
以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
（【００１１】以降は省略されています）

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