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公開番号
2025037489
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-03-18
出願番号
2023144445
出願日
2023-09-06
発明の名称
露光装置
出願人
株式会社SCREENホールディングス
代理人
個人
主分類
G03F
7/20 20060101AFI20250311BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約
【課題】ステージの移動により、露光ヘッドの支持部材に歪みが生じた場合であっても、精度良くパターンを描画することができる技術を提供する。
【解決手段】露光装置100は、基台1と、ステージ2と、ステージ移動機構3と、ガントリー4と、露光ヘッド51と、変位センサ6と、制御部9とを有する。ステージ2は、基板Wを保持可能であって、基台1に支持されている。ステージ2を基台1に対してY方向に移動させる。ガントリー4は、基台1に固定されている。露光ヘッド51は、ガントリー4に支持されている。変位センサ6は、Y方向およびX方向における、基台1に対する支持部材4の変位量を測定する。制御部9の補正部は、変位センサ6によって測定された変位量を用いて、露光ヘッド51が露光する露光位置を補正する。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
露光装置であって、
基台と
基板を保持可能であって、前記基台に支持されたステージと、
前記ステージを前記基台に対して第1方向に移動させる移動機構と、
前記基台に固定された支持部材と、
前記支持部材に支持された露光ヘッドと、
前記第1方向または前記第1方向と交差する第2方向の少なくともどちらかの方向における、前記基台に対する前記支持部材の変位量を測定する変位センサと、
前記変位センサによって測定された前記変位量を用いて、前記露光ヘッドが露光する露光位置を補正する補正部と、
を備える、露光装置。
続きを表示(約 890 文字)
【請求項2】
請求項1に記載の露光装置であって、
前記変位センサは、前記支持部材に取り付けられており、
前記変位センサは、前記基台に固定された検出体の位置を検出する、露光装置。
【請求項3】
請求項1に記載の露光装置であって、
前記変位センサは、前記基台に取り付けられており、
前記変位センサは、前記支持部材に固定された検出体の位置を検出する、露光装置。
【請求項4】
請求項1または請求項2に記載の露光装置であって、
前記変位センサは、光学式センサである、露光装置。
【請求項5】
請求項4に記載の露光装置であって、
前記光学式センサは、
前記支持部材または前記基台に固定されたミラーで反射した光を検出する、露光装置。
【請求項6】
請求項1または請求項2に記載の露光装置であって、
前記変位センサは、リニアエンコーダである、露光装置。
【請求項7】
請求項1または請求項2に記載の露光装置であって、
前記変位センサは、触針式センサである、露光装置。
【請求項8】
請求項1または請求項2に記載の露光装置であって、
前記補正部は、前記変位センサによって測定された前記変位量、および、前記支持部材の変位量と前記露光ヘッドの変位量との関係式を用いて、前記露光ヘッドの変位量を算出する、露光装置。
【請求項9】
請求項1または請求項2に記載の露光装置であって、
前記変位センサは、第1変位センサと第2変位センサとを有し、
前記補正部は、前記第1変位センサおよび前記第2変位センサによって測定された変位量に基づいて前記露光位置を補正する、露光装置。
【請求項10】
請求項9に記載の露光装置であって、
前記第1変位センサおよび前記第2変位センサは、前記支持部材の中心に対して、非対称に配置されている、露光装置。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本明細書で開示される主題は、露光装置に関する。
続きを表示(約 1,500 文字)
【背景技術】
【0002】
例えば半導体ウエハやガラス基板などの基板にパターンを形成する方法として、光照射 により直接描画を行う露光装置が知られている。この種の露光装置は、レジストなどの感光層が形成された基板をステージに保持し、ステージを基台に対して主走査方向に移動させる。また、露光装置は、ステージの主走査方向の位置に応じたパターン光を露光ヘッドから出射することにより、感光層に所定のパターンを描画する。
【0003】
露光装置では、一般的に、露光ヘッドは、基台に固定されたガントリーなどの支持部材に支持されている。そして、ステージは、基台に対して移動するように構成されている。この場合、ステージを移動させると、装置全体の荷重分布が変化することによって、支持部材に歪みが起きる場合があった。支持部材に歪みが生じると、露光ヘッドが変位してしまい、露光位置がずれるおそれがあった。
【0004】
例えば、特許文献1では、ガントリー部に対するYステージのヨー角を検出するステージ装置が開示されている。このステージ装置では、ステージの前端中央に、光検出器が取り付けられ、ガントリー部の中間位置にレーザ光を光検出器に照射するレーザ発光器が取り付けられている。光検出器とレーザ発光器とは、Y軸に対する位置ずれを計測する計測手段を構成しており、Yステージが基準位置にあるときレーザ発光器から出射されるレーザ光の光軸がYステージの移動方向(Y方向)と一致するように設けられている。そして、光検出器によって検出された光強度分布から光軸の直交する方向への位置ずれ量が検出される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開2007-115720号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
しかしながら、特許文献1の場合、光検出器がYステージとともに移動するため、光検出器自体が振動等してしまう。このため、ガントリー部の位置を精度良く検出することが困難であった。また、ガントリー部のY方向の位置を検出することができないなどの制約もあった。
【0007】
本発明の目的は、ステージの移動により露光ヘッドの支持部材に歪みが生じた場合であっても、露光を精度良く行うことができる技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【0008】
上記課題を解決するため、第1態様は、露光装置であって、基台と基板を保持可能であって、前記基台に支持されたステージと、前記ステージを前記基台に対して第1方向に移動させる移動機構と、前記基台に固定された支持部材と、前記支持部材に支持された露光ヘッドと、前記第1方向または前記第1方向と交差する第2方向の少なくともどちらかの方向における、前記基台に対する前記支持部材の変位量を測定する変位センサと、前記変位センサによって測定された前記変位量を用いて、前記露光ヘッドが露光する露光位置を補正する補正部と、を備える。
【0009】
第2態様は、第1態様の露光装置であって、前記変位センサは、前記支持部材に取り付けられており、前記変位センサは、前記基台に固定された検出体の位置を検出する。
【0010】
第3態様は、第1態様の露光装置であって、前記変位センサは、前記基台に取り付けられており、前記変位センサは、前記支持部材に固定された検出体の位置を検出する。
(【0011】以降は省略されています)
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