TOP
|
特許
|
意匠
|
商標
特許ウォッチ
Twitter
他の特許を見る
10個以上の画像は省略されています。
公開番号
2025036480
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-03-14
出願番号
2024226526,2021522843
出願日
2024-12-23,2020-05-28
発明の名称
アリールアミン化合物およびその利用
出願人
日産化学株式会社
代理人
弁理士法人英明国際特許事務所
主分類
C07D
209/86 20060101AFI20250306BHJP(有機化学)
要約
【課題】 有機溶媒への溶解性が良好であるとともに、保存安定性が良好なワニス、および光学特性が良好な薄膜を与え、この薄膜を正孔注入層等に適用した場合に良好な特性を有する有機EL素子を実現できるアリールアミン化合物を提供すること。
【解決手段】 例えば、式(2)で表されるアリールアミン化合物。
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>TIFF</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2025036480000199.tif</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">34</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">106</com:WidthMeasure> </com:Image> (R
1
は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のハロゲン化アルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、または炭素数6~20のアリール基を表し、R
2
は、それぞれ独立して、置換されていてもよいとともに、ヘテロ原子を含んでいてもよいアリール基を表し、Ar
s
は、フェニレン基等を表し、Xは、フェニレン基等を表す。)
【選択図】 なし
特許請求の範囲
【請求項1】
下記式(2)で表されることを特徴とするアリールアミン化合物。
TIFF
2025036480000193.tif
20
30
[式中、Ar
c
は、同一の基であり、式(Q)で表される基を表し、
TIFF
2025036480000194.tif
30
57
〔式中、R
1
は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のハロゲン化アルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、または炭素数6~20のアリール基を表し、R
2
は、それぞれ独立して、置換されていてもよいとともに、ヘテロ原子を含んでいてもよいアリール基を表し、Ar
s
は、下記式(101A-1)、(101B-1)、(101C-1)、(105A-1)、(107A-1)、(107A-2)、(107A-3)、(107A-4)および(107A-5)のいずれかで表されるアリーレン基を表し、
TIFF
2025036480000195.tif
82
138
(式中、R
4
は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1~20のアルキル基、または炭素数1~20のハロゲン化アルキル基を表し、R
5
は、水素原子、炭素数1~20のアルキル基、または炭素数6~20のアリール基を表す。)〕
Xは、下記式(201A-1)~(208A-1)のいずれかの基を表す。
TIFF
2025036480000196.tif
92
150
TIFF
2025036480000197.tif
98
146
〔式中、R
7
は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1~20のアルキル基、または炭素数1~20のハロゲン化アルキル基を表し、R
8
は、水素原子、炭素数1~20のアルキル基、または炭素数6~20のアリール基を表し、W
3
は、NR
8
(R
8
は、前記と同じ意味を表す。)、SまたはOを表す。〕]
続きを表示(約 520 文字)
【請求項2】
前記R
1
が、水素原子である請求項1記載のアリールアミン化合物。
【請求項3】
前記R
2
が、炭素数6~10のアリール基である請求項1または2記載のアリールアミン化合物。
【請求項4】
前記R
2
が、下記式のいずれかで表される請求項1または2記載のアリールアミン化合物。
TIFF
2025036480000198.tif
67
132
【請求項5】
請求項1~4のいずれか1項記載のアリールアミン化合物と、有機溶媒とを含む電荷輸送性ワニス。
【請求項6】
ドーパント物質を含む請求項5記載の電荷輸送性ワニス。
【請求項7】
請求項5または6の電荷輸送性ワニスを用いて作製される電荷輸送性薄膜。
【請求項8】
請求項7記載の電荷輸送性薄膜を備える電子素子。
【請求項9】
前記電荷輸送性薄膜が、正孔注入層である請求項8記載の電子素子。
【請求項10】
有機EL素子である請求項9記載の電子素子。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、アリールアミン化合物およびその利用に関する。
続きを表示(約 4,400 文字)
【背景技術】
【0002】
有機エレクトロルミネッセンス(以下、有機ELという)素子は、ディスプレイや照明といった分野での実用化が期待されており、低電圧駆動、高輝度、高寿命等を目的とし、材料や素子構造に関する様々な開発がなされている。
この有機EL素子では複数の機能性薄膜が用いられるが、その中の1つである正孔注入層は、陽極と正孔輸送層または発光層との電荷の授受を担い、有機EL素子の低電圧駆動および高輝度を達成するために重要な役割を果たす。
【0003】
この正孔注入層の作製方法は、蒸着法に代表されるドライプロセスとスピンコート法に代表されるウェットプロセスとに大別される。これらのプロセスを比べると、ウェットプロセスの方が大面積に平坦性の高い薄膜を効率的に製造できる。
このため、有機ELディスプレイの大面積化が進められている現在、ウェットプロセスで形成可能な正孔注入層が望まれている。
【0004】
このような事情に鑑み、本発明者らは、各種ウェットプロセスに適用可能であるとともに、有機EL素子の正孔注入層に適用した場合に優れたEL素子特性を実現できる薄膜を与える電荷輸送性材料や、それに用いる有機溶媒に対する溶解性の良好な化合物を開発してきている(特許文献1~3参照)。
【0005】
一方、これまで、有機EL素子を高性能化するために様々な取り組みがなされてきているが、光取出し効率を向上させる等の目的で、用いる機能性薄膜の屈折率を調整する取り組みがなされている。具体的には、素子の全体構成や隣接する他の部材の屈折率を考慮して、相対的に高いあるいは低い屈折率の正孔注入層や正孔輸送層を用いることで、素子の高効率化を図る試みがなされている(特許文献4,5参照)。
このように、屈折率は有機EL素子の設計上重要な要素であり、有機EL素子用材料では、屈折率も考慮すべき重要な物性値と考えられている。
【0006】
また、有機EL素子に用いられる電荷輸送性薄膜の着色は、有機EL素子の色純度および色再現性を低下させる等の事情から、近年、有機EL素子用の電荷輸送性薄膜は、可視領域での透過率が高く、高透明性を有することが望まれている(特許文献6参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
国際公開第2008/129947号
国際公開第2015/050253号
国際公開第2017/217457号
特表2007-536718号公報
特表2017-501585号公報
国際公開第2013/042623号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0008】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、有機溶媒への溶解性が良好であるとともに、光学特性が良好な薄膜を与え、この薄膜を正孔注入層等に適用した場合に良好な特性を有する有機EL素子を実現できるアリールアミン化合物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、中心にアリールジアミン骨格を有し、その2つのアミノ基に、所定のアリーレン骨格を有するスペーサを介してアリールカルバゾールが少なくとも1つずつ結合した化合物が、有機溶媒への溶解性が良好であり、これを有機溶媒に溶かして得られるワニスが光学特性に優れた薄膜を与え、この薄膜を正孔注入層等に適用した場合に良好な特性を有する有機EL素子が得られることを見出し、本発明を完成した。
【0010】
すなわち、本発明は、
1. 下記式(1)~(6)のいずれかで表されることを特徴とするアリールアミン化合物(ただし、下記式(P1)~(P4)で表される化合物を除く。)、
TIFF
2025036480000001.tif
100
157
[式中、Ar
c
は、それぞれ独立して、式(Q)で表される基を表し、
Xは、それぞれ独立して、置換されていてもよいとともに、ヘテロ原子を含んでいてもよいアリーレン基を表し、
Yは、それぞれ独立して、置換されていてもよいフェニレン基を表し、
gは、それぞれ独立して、1~10の整数を表す。
TIFF
2025036480000002.tif
33
63
(式中、R
1
は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のハロゲン化アルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、または炭素数6~20のアリール基を表し、R
2
は、それぞれ独立して、置換されていてもよいとともに、ヘテロ原子を含んでいてもよいアリール基を表し、Ar
s
は、それぞれ独立して、置換されていてもよいとともに、ヘテロ原子を含んでいてもよいアリーレン基を表す。)
TIFF
2025036480000003.tif
98
170
2. 前記Ar
s
が、下記式(101)~(118)のいずれかで表される1のアリールアミン化合物、
TIFF
2025036480000004.tif
67
135
TIFF
2025036480000005.tif
77
145
TIFF
2025036480000006.tif
54
129
(式中、R
3
は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭素数1~20のアルキル基、炭素数1~20のハロゲン化アルキル基、炭素数1~20のアルコキシ基、または炭素数6~20のアリール基を表し、V
1
は、それぞれ独立して、C(R
4
)
2
(R
4
は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1~20のアルキル基、または炭素数1~20のハロゲン化アルキル基を表す。)、NR
5
(R
5
は、水素原子、炭素数1~20のアルキル基、または炭素数6~20のアリール基を表す。)、S、O、またはSO
2
を表し、V
2
は、NR
5
(R
5
は、前記と同じ意味を表す。)、SまたはOを表す。)
3. 前記Ar
s
が、下記式(101A)~(118A)のいずれかで表される1のアリールアミン化合物、
TIFF
2025036480000007.tif
90
134
TIFF
2025036480000008.tif
59
124
TIFF
2025036480000009.tif
77
140
TIFF
2025036480000010.tif
68
150
TIFF
2025036480000011.tif
67
147
TIFF
2025036480000012.tif
69
150
TIFF
2025036480000013.tif
51
130
TIFF
2025036480000014.tif
47
104
(式中、R
3
、V
1
およびV
2
は、前記と同じ意味を表す。)
4. 前記Ar
s
が、下記式(101A-1)~(118A-3)のいずれかで表される3のアリールアミン化合物、
TIFF
2025036480000015.tif
59
133
TIFF
2025036480000016.tif
56
134
TIFF
2025036480000017.tif
60
142
TIFF
2025036480000018.tif
31
149
TIFF
2025036480000019.tif
59
147
TIFF
2025036480000020.tif
59
143
TIFF
2025036480000021.tif
57
143
TIFF
2025036480000022.tif
59
147
TIFF
2025036480000023.tif
60
148
TIFF
2025036480000024.tif
59
148
TIFF
2025036480000025.tif
78
150
TIFF
2025036480000026.tif
75
147
TIFF
2025036480000027.tif
75
149
TIFF
2025036480000028.tif
63
149
TIFF
2025036480000029.tif
69
150
TIFF
2025036480000030.tif
69
150
TIFF
2025036480000031.tif
60
143
TIFF
2025036480000032.tif
67
140
TIFF
2025036480000033.tif
59
144
TIFF
2025036480000034.tif
38
126
【発明の効果】
(【0011】以降は省略されています)
この特許をJ-PlatPatで参照する
関連特許
日産化学株式会社
水性除草剤組成物
10日前
日産化学株式会社
4-ケトベンズアミド誘導体及び4-ケト安息香酸誘導体の製造方法
3日前
株式会社Stratoimmune
筋炎治療薬のスクリーニング方法
4日前
日産化学株式会社
造影剤を含有する細胞凝集塊の製造方法及びそれにより得られる細胞凝集塊
4日前
日産化学株式会社
レジスト下層膜形成組成物
12日前
日産化学株式会社
レジスト下層膜形成組成物
1か月前
日産化学株式会社
アリールアミン化合物およびその利用
3日前
日産化学株式会社
シリコン含有ポリマー組成物の製造方法
17日前
日産化学株式会社
レジストパターンメタル化プロセス用組成物
17日前
日産化学株式会社
液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子及びジアミン
19日前
高砂香料工業株式会社
香料組成物
1か月前
トヨタ自動車株式会社
メタン製造装置
1か月前
日産化学株式会社
ピリジン化合物の製造方法
1か月前
ダイキン工業株式会社
シラン化合物
1か月前
日本化薬株式会社
シアノ複素環化合物の製造方法
1か月前
個人
メタンガス生成装置およびメタンガス生成方法
1か月前
個人
メタンガス生成装置およびメタンガス生成方法
1か月前
JNC株式会社
ジアミンおよびこれを用いた重合体
1か月前
東ソー株式会社
1,2-ジクロロエタンの製造方法
1か月前
株式会社トクヤマ
結晶形Iのリオシグアトの製造方法
10日前
株式会社クラレ
メタクリル酸メチルの製造方法
1か月前
ダイキン工業株式会社
分離方法
10日前
日本曹達株式会社
エチルメチルスルホンの製造方法
1か月前
株式会社半導体エネルギー研究所
有機化合物、発光デバイス
3日前
三井金属鉱業株式会社
金属化合物含有物
1か月前
住友化学株式会社
芳香族複素環化合物の製造方法
1か月前
大正製薬株式会社
MMP9阻害作用を有するインドール化合物
1か月前
石原産業株式会社
シクラニリプロールの製造中間体の製造方法
4日前
株式会社アイティー技研
炭化水素の合成方法及び合成装置
17日前
日本化薬株式会社
イソシアヌレート環を有する多官能アミン化合物
1か月前
公立大学法人大阪
尿素化合物の製造方法
2か月前
株式会社フラスク
含ホウ素化合物および有機EL素子
1か月前
国立大学法人九州大学
重水素化化合物の製造方法
10日前
ユニマテック株式会社
フェノチアジン誘導体化合物の精製方法
1か月前
株式会社レゾナック
C2化合物の製造方法
4日前
国立大学法人 東京大学
アシルヒドラゾン誘導体
24日前
続きを見る
他の特許を見る