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公開番号2025023499
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-17
出願番号2023127660
出願日2023-08-04
発明の名称アライメント装置、成膜装置、アライメント方法、及び成膜方法
出願人キヤノントッキ株式会社
代理人弁理士法人秀和特許事務所
主分類C23C 14/04 20060101AFI20250207BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】アライメント動作時における基板とマスクとの距離を短くすることのできるアライメント装置、成膜装置、アライメント方法、及び成膜方法を提供する。
【解決手段】ウエハ21の成膜面と平行な第1方向においてウエハ21とマスク12との相対的な位置を調整する調整機構と、前記成膜面と交差する第2方向において、ウエハ21とマスク12とを相対的に移動させる移動機構と、を備えるアライメント装置であって、ウエハ21とマスク12との前記第2方向の距離が、前記移動機構によりウエハ21とマスク12とを接触させた状態から剥離させた際の位置情報に基づいて規定された規定距離に配された状態で、前記調整機構による調整が行われることを特徴とする。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基板の成膜面と平行な第１方向において前記基板とマスクとの相対的な位置を調整する調整機構と、
前記成膜面と交差する第２方向において、前記基板と前記マスクとを相対的に移動させる移動機構と、
を備えるアライメント装置であって、
前記基板と前記マスクとの前記第２方向の距離が、前記移動機構により前記基板と前記マスクとを接触させた状態から剥離させた際の位置情報に基づいて規定された規定距離に配された状態で、前記調整機構による調整が行われることを特徴とするアライメント装置。
続きを表示（約 1,400 文字）【請求項２】
使用される前記マスクに応じて記憶された前記位置情報に基づいて、前記基板と前記マスクとの前記第２方向の距離が前記規定距離となるように、前記移動機構を制御する制御手段を備えることを特徴とする請求項１に記載のアライメント装置。
【請求項３】
前記規定距離は、前記位置情報と、使用される前記マスクの前記第２方向の変形量と、前記基板の前記第２方向の変形量とに基づいて規定されることを特徴とする請求項１または２に記載のアライメント装置。
【請求項４】
前記移動機構は、前記基板と前記マスクのうちのいずれか一方を移動させるための駆動機構を３箇所以上有しており、これら複数の駆動機構によって、前記基板と前記マスクのうちのいずれか一方が、前記第２方向と、前記第２方向に直交する任意の軸を中心に回転する回転方向に移動可能に構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載のアライメント装置。
【請求項５】
前記位置情報は、前記基板と前記マスクとの平行度が所定の範囲内、かつ前記基板と前記マスクとが接触した状態から剥離させた際に得られる情報であることを特徴とする請求項１または２に記載のアライメント装置。
【請求項６】
前記マスクを保持するマスク台と、
前記基板を保持する吸着部材と、
を備え、
前記調整機構及び前記移動機構は、前記マスク台と前記吸着部材のうちの少なくとも一方を移動させる機構であることを特徴とする請求項１または２に記載のアライメント装置。
【請求項７】
前記基板と前記マスクとが離れた状態から接触した状態、及び前記基板と前記マスクとが接触した状態から剥離した状態を検知する検知手段を備えることを特徴とする請求項１または２に記載のアライメント装置。
【請求項８】
前記移動機構は、前記基板と前記マスクのうちのいずれか一方を移動させるための駆動機構を３箇所以上有しており、
前記検知手段は、複数の前記駆動機構をそれぞれ制御する制御電流の測定値によって、前記基板と前記マスクとが離れた状態から接触した状態、及び前記基板と前記マスクとが接触した状態から剥離した状態を検知することを特徴とする請求項７に記載のアライメント装置。
【請求項９】
前記検知手段は、複数の前記駆動機構により前記基板と前記マスクとが近づく方向に移動する過程で前記制御電流が上昇し始めることで、前記基板と前記マスクとが離れた状態
から接触した状態への移行を検知し、複数の前記駆動機構により前記基板と前記マスクとが離れる方向に移動する過程で前記制御電流の下降状態が終了した際に、前記基板と前記マスクとが接触した状態から剥離した状態を検知することを特徴とする請求項８に記載のアライメント装置。
【請求項１０】
前記位置情報は、
全ての前記駆動機構に対する前記制御電流の値が予め定めた範囲内になった後に前記基板と前記マスクとが離れるように複数の前記駆動機構が制御され、前記検知手段によって、前記基板と前記マスクとが接触した状態から剥離した状態に移行したと検知された際の情報であることを特徴とする請求項９に記載のアライメント装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、アライメント装置、成膜装置、アライメント方法、及び成膜方法に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬディスプレイ等の製造においては、マスクを用いて基板上に蒸着物質が成膜される。成膜の前処理としてマスクと基板とのアライメントが行われ、重ね合わされる。アライメントの動作時に、マスクと基板との距離が離れていると、重ね合わせる際にアライメント精度が低下する場合がある。そこで、アライメントの動作に先立って、マスクと基板との相対的な距離を検出して、アライメント動作時のマスクと基板との距離を短くする技術が知られている（特許文献１，２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特許０６８１４８７９号公報
特開２０２２-５７６７５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、マスク及び基板には撓みが生じるため、撓み量を踏まえて、マスクと基板との相対的な距離を短くするのは難しい。特許文献２では、基板とマスクが接触した際の位置情報に基づいて、基板とマスクとを離間させて、これら基板とマスクとの距離を短くした状態でアライメントを行う技術が開示されている。このような技術を採用した場合、アライメント動作時に、基板とマスクとの距離を短くすることができるものの、基板とマスクとが接触した状態では、マスクにおける基板に接触する部分は基板に押されて撓んだ状態となる。この時のマスクの撓み量は検出できないため、この状態から基板とマスクとを確実に離間させるために、予め定めた距離だけ基板とマスクを離間させると、基板とマスクの距離が十分短くならないこともある。従って、未だ、改善の余地がある。
【０００５】
本発明は、アライメント動作時における基板とマスクとの距離を短くすることのできるアライメント装置、成膜装置、アライメント方法、及び成膜方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のアライメント装置は、
基板の成膜面と平行な第１方向において前記基板とマスクとの相対的な位置を調整する調整機構と、
前記成膜面と交差する第２方向において、前記基板と前記マスクとを相対的に移動させる移動機構と、
を備えるアライメント装置であって、
前記基板と前記マスクとの前記第２方向の距離が、前記移動機構により前記基板と前記マスクとを接触させた状態から剥離させた際の位置情報に基づいて規定された規定距離に配された状態で、前記調整機構による調整が行われることを特徴とする。
【０００７】
また、本発明の成膜装置は、
上記のアライメント装置と、
前記基板の成膜面に薄膜を形成するための成膜源と、
を備えることを特徴とする。
【０００８】
また、本発明のアライメント方法は、
調整機構を用いて、基板の成膜面と平行な第１方向において前記基板とマスクとの相対的な位置を調整するアライメント方法であって、
前記成膜面と交差する第２方向において、前記基板と前記マスクとを相対的に移動させる移動機構を用いて、前記基板と前記マスクとの前記第２方向の距離が、前記移動機構により前記基板と前記マスクとを接触させた状態から剥離させた際の位置情報に基づいて規定された規定距離となるように、前記基板と前記マスクとを相対的に移動させる第１工程と、
前記基板と前記マスクとの前記第２方向の距離が前記規定距離の状態で、前記調整機構によって、前記基板と前記マスクとの相対的な位置を調整する第２工程と、
を有することを特徴とする。
【０００９】
更に、本発明の成膜方法は、
上記のアライメント方法により、前記基板と前記マスクとの相対的な位置が調整された後に、成膜源を用いて、前記基板の成膜面に薄膜を形成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
以上説明したように、本発明によれば、アライメント動作時における基板とマスクとの距離を短くすることができる。
【図面の簡単な説明】
（【００１１】以降は省略されています）

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