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公開番号2025018216
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-06
出願番号2023121730
出願日2023-07-26
発明の名称被膜形成用組成物
出願人サカタインクス株式会社
代理人弁理士法人WisePlus
主分類C09D 183/04 20060101AFI20250130BHJP(染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用)
要約【課題】成膜性に優れ、被膜が低屈折率性、アルカリ溶解性を有し、かつ、重合開始剤と活性エネルギー線により反応する被膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】アルコキシシロキサン、フルオロアルキルアルコキシシロキサン、アルキルアルコキシシロキサン、及びラジカル重合性二重結合を有するアルコキシシロキサンに由来する構成単位を有するシロキサンポリマー、及び有機溶剤を含有し、上記シロキサンポリマーの構成単位の合計を100として、上記アルコキシシロキサンに由来する構成単位の質量比率が35を超え60以下、上記フルオロアルキルアルコキシシロキサンに由来する構成単位の質量比率が5~20、上記アルキルアルコキシシロキサン及び上記ラジカル重合性二重結合を有するアルコキシシロキサンに由来する構成単位が合計で20~60である、被膜形成用組成物。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
下記一般式(1)~(4)に由来する構成単位を有するシロキサンポリマー、及び、有機溶剤を含有し、
前記シロキサンポリマーにおいて、下記一般式(1)に由来する構成単位の質量比率をw

、下記一般式(2)に由来する構成単位の質量比率をw

、下記一般式(3)に由来する構成単位の質量比率をw

、下記一般式(4)に由来する構成単位の質量比率をw

としたときに、


が35を超え60以下、w

が5~20、w

とw

との合計が20~60であり、w

+w

+w

+w

=100である
被膜形成用組成物。
TIFF
2025018216000013.tif
10
156
(前記一般式(1)中、R

は、アルキル基を表す。4個のR

は同一でも異なっていてもよい。)
TIFF
2025018216000014.tif
10
156
(前記一般式(2)中、X

はフッ素原子を3~13個有するフルオロアルキル基、X

はアルキル基、シロキシ基又ラジカル重合性二重結合を有する1価の有機基、R

はアルキル基を表す。複数のR

は同一でも異なっていてもよい。aは0又は1である。)
TIFF
2025018216000015.tif
10
156
(前記一般式(3)中、Y

はアルキル基、Y

はアルキル基又はシロキシ基、R

はアルキル基を表す。複数のR

は同一でも異なっていてもよい。bは0又は1である。)
TIFF
2025018216000016.tif
10
156
(前記一般式(4)中、Z

はラジカル重合性二重結合を有する1価の有機基、Z

はアルキル基又はシロキシ基、R

はアルキル基を表す。複数のR

は同一でも異なっていてもよい。cは0又は1である。)
続きを表示(約 820 文字)【請求項2】
前記シロキサンポリマーは、w

が35を超え55以下、w

が5~20、w

が15~40、かつ、w

が5~25である請求項1に記載の被膜形成用組成物。
【請求項3】
前記シロキサンポリマーは、下記一般式(5)に由来する構成単位を更に含有し、下記一般式(5)に由来する構成単位は、w

、w

、w

及びw

の合計質量100質量部に対して1~10質量部である請求項1又は2に記載の被膜形成用組成物。
TIFF
2025018216000017.tif
10
156
(前記一般式(5)中、V

は酸無水物基で置換されたアルキル基、V

はアルキル基又はシロキシ基、R

はアルキル基を表す。複数のR

は同一でも異なっていてもよい。dは0又は1である。)
【請求項4】
前記一般式(2)中、aは0であり、前記一般式(3)中、bは0であり、前記一般式(4)中、cは0である請求項1又は2に記載の被膜形成用組成物。
【請求項5】
前記一般式(5)中、dは0である請求項3に記載の被膜形成用組成物。
【請求項6】
レベリング剤を含有する請求項1又は2に記載の被膜形成用組成物。
【請求項7】
更に、重合開始剤を含有する請求項1又は2に記載の被膜形成用組成物。
【請求項8】
硬化被膜の屈折率が1.40~1.43である請求項請求項1又は2に記載の被膜形成用組成物。
【請求項9】
硬化被膜の硬度が5H以上である請求項1又は2に記載の被膜形成用組成物。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、被膜形成用組成物に関する。
続きを表示(約 1,300 文字)【背景技術】
【0002】
電荷結合素子:CCD(charge coupled devices)や相補形金属酸化膜半導体:CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)イメージセンサなどの固体撮像素子、或いは、ディスプレイ用基板、各種反射防止膜等においては、各種レンズ材料や平坦化膜等の様々なコーティング材料が用いられている。
【0003】
このようなコーティング材料には、透明性、適切な屈折率などの光学特性に加え、耐熱性、低温加工性など多くの特性が求められる。また、用途に応じては、アルカリ溶解性も求められる。こうした要求に対し、シロキサン化合物を含む樹脂組成物が好適であることが知られている。
【0004】
例えば、特許文献1には、特定の2種以上のシラン化合物を含む混合原料を、加水分解・縮合して得られるシリコーン樹脂を含有することを特徴とする低屈折率膜形成用組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0005】
特開2012-203059号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0006】
近年、上述したコーティング材料には、成膜性に優れ、低屈折率性、アルカリ溶解性を有し、重合開始剤と活性エネルギー線により反応する被膜形成用組成物が要求されるようになってきており、特許文献1で開示された技術には、更なる改善の余地があった。
【0007】
そこで本発明は、成膜性に優れ、被膜が低屈折率性、アルカリ溶解性を有し、かつ、重合開始剤と活性エネルギー線により反応する被膜形成用組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0008】
本発明者らは、下記の被膜形成用組成物を使用することにより、上記課題を解決しうることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0009】
すなわち、本発明は、下記一般式(1)~(4)に由来する構成単位を有するシロキサンポリマー、及び、有機溶剤を含有し、上記シロキサンポリマーにおいて、下記一般式(1)に由来する構成単位の質量比率をw

、下記一般式(2)に由来する構成単位の質量比率をw

、下記一般式(3)に由来する構成単位の質量比率をw

、下記一般式(4)に由来する構成単位の質量比率をw

としたときに、w

が35を超え60以下、w

が5~20、w

とw

との合計が20~60であり、w

+w

+w

+w

=100である被膜形成用組成物。
【0010】
TIFF
2025018216000001.tif
10
156
(上記一般式(1)中、R

は、アルキル基を表す。4個のR

は同一でも異なっていてもよい。)
(【0011】以降は省略されています)

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