特許ウォッチ

公開番号2025014403
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-30
出願番号2023116923
出願日2023-07-18
発明の名称支持機構、光学系、露光装置および物品製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類G02B 7/00 20210101AFI20250123BHJP(光学)
要約【課題】支持対象の物体の位置の変動を抑制するための有利な技術を提供する。
【解決手段】支持機構は、物体を支持する第1支持部材と、第1弾性部材を介して前記第1支持部材を支持する第2支持部材と、前記第1支持部材に力を加えるように配置された送りねじと、前記送りねじに接続されたウォームホイール、および、前記ウォームホイールに螺合したウォーム、を含むウォームギアと、前記送りねじが前記第1弾性部材の復元力によって受けるトルクの少なくとも一部を相殺するように前記ウォームを介して前記ウォームホイールに対して保持力を加え、前記送りねじの位置を保持する第2弾性部材とを備える。
【選択図】図1A
特許請求の範囲【請求項１】
物体を支持する第１支持部材と、
第１弾性部材を介して前記第１支持部材を支持する第２支持部材と、
前記第１支持部材に力を加えるように配置された送りねじと、
前記送りねじに接続されたウォームホイール、および、前記ウォームホイールに螺合したウォーム、を含むウォームギアと、
前記送りねじが前記第１弾性部材の復元力によって受けるトルクの少なくとも一部を相殺するように前記ウォームを介して前記ウォームホイールに対して保持力を加え、前記送りねじの位置を保持する第２弾性部材と、
を備えることを特徴とする支持機構。
続きを表示（約 880 文字）【請求項２】
前記保持力は、前記ウォームホイールを回転させるために要する力より小さい、
ことを特徴とする請求項１に記載の支持機構。
【請求項３】
前記保持力は、前記ウォームのスラスト方向の力を前記第２弾性部材が前記ウォームに加えることによって、前記ウォームホイールに対して加えられる、
ことを特徴とする請求項２に記載の支持機構。
【請求項４】
前記保持力は、前記ウォームホイールのラジアル方向の力を前記第２弾性部材が前記ウォームに加えることによって、前記ウォームホイールに対して加えられる、
ことを特徴とする請求項２に記載の支持機構。
【請求項５】
前記保持力は、前記ウォームホイールのスラスト方向の力を前記第２弾性部材が前記ウォームに加えることによって、前記ウォームホイールに対して加えられる、
ことを特徴とする請求項２に記載の支持機構。
【請求項６】
前記物体は、円形状を有し、前記第１支持部材は、前記物体の側面を取り囲むリング形状を有し、前記第２支持部材は、前記第１弾性部材を介して前記第１支持部材の側面を取り囲むリング形状を有する、
ことを特徴とする請求項１に記載の支持機構。
【請求項７】
前記ウォームを支持する軸受を更に備える、
ことを特徴とする請求項６に記載の支持機構。
【請求項８】
前記軸受は、前記第２支持部材によって支持される、
ことを特徴とする請求項７に記載の支持機構。
【請求項９】
前記第２弾性部材は、前記軸受を介して前記ウォームに力を加える、
ことを特徴とする請求項８に記載の支持機構。
【請求項１０】
前記ウォームギアおよび前記送りねじを介して前記第１支持部材に力が加えられるように前記ウォームを回転駆動するアクチュエータを更に備える、
ことを特徴とする請求項７に記載の支持機構。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、支持機構、光学系、露光装置および物品製造方法に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス等に代表されるマイクロデバイス等の物品を製造するためにリソグラフィ工程で使用される露光装置は、原版の微細なパターンを基板に転写する装置である。微細なパターンを正確に基板に転写するためには、露光装置の投影光学系の収差の低減が重要である。投影光学系の収差は、投影光学系を構成する複数の光学素子の屈折率および面形状に依存し、投影光学系の組立段階では、複数の光学素子の位置を正確に組み立てることが求められる。投影光学系の組立後は、投影光学系の性能を計測し、その計測の結果に基づいて光学素子の位置が調整されうる。投影光学系の組立後は、輸送時に投影光学系が受ける衝撃、露光装置の温度変化および振動等の外乱により生じる変動を補正するため、複数の光学素子の全部または一部の位置が調整されうる。
【０００３】
特許文献１には、弾性変形する複数の弾性部材と、弾性部材に力を加える押圧部材（例えば、マイクロメータ）とを備える光学素子の支持機構が記載されている。支持機構は、押圧部材が弾性部材に力を加えることによって光学素子の位置を調整する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特許第３８０５３２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
光学素子のような支持対象の物体の位置をマイクロメータ等の押圧部材によって調整可能な支持機構では、衝撃、温度変化、振動等の外乱によって物体の位置が変動しうる。
【０００６】
本発明は、支持対象の物体の位置の変動を抑制するための有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の１つの側面は、支持機構に係り、前記支持機構は、物体を支持する第１支持部材と、第１弾性部材を介して前記第１支持部材を支持する第２支持部材と、前記第１支持部材に力を加えるように配置された送りねじと、前記送りねじに接続されたウォームホイール、および、前記ウォームホイールに螺合したウォーム、を含むウォームギアと、前記送りねじが前記第１弾性部材の復元力によって受けるトルクの少なくとも一部を相殺するように前記ウォームを介して前記ウォームホイールに対して保持力を加え、前記送りねじの位置を保持する第２弾性部材とを備える。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、支持対象の物体の位置の変動を抑制するための有利な技術が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
第１実施形態の支持機構の構成を示す模式的な斜視図。
図１Ａの支持機構をＡ－Ａ線で切断した断面図。
図１Ａの支持機構をＢ－Ｂ線で切断した断面図。
第１実施形態の第１構成例における支持機構の構成を示す模式的な斜視図。
図２Ａの支持機構をＡ－Ａ線で切断した断面図。
第１実施形態の第２構成例における支持機構５０の構成を示す模式的な斜視図。
第１実施形態の第３構成例における支持機構の構成を示す模式的な斜視図。
第１実施形態の第４構成例における支持機構の構成を示す模式的な斜視図。
第２実施形態の支持機構の構成を示す模式的な斜視図。
図６Ａの支持機構をＡ－Ａ線で切断した断面図。
第３実施形態の支持機構の構成を示す模式的な斜視図。
第２弾性部材によって提供される機能を説明するための図。
第２弾性部材によって提供される機能を説明するための図。
第４実施形態の露光装置の構成を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
（【００１１】以降は省略されています）

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