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公開番号2025013038
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-24
出願番号2023116314
出願日2023-07-14
発明の名称表面処理剤、物品、及び物品の製造方法
出願人AGC株式会社
代理人弁理士法人太陽国際特許事務所
主分類C09D 201/00 20060101AFI20250117BHJP(染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用)
要約【課題】基材に対して、均一性に優れた表面処理層を形成し得る表面処理剤等を提供する。
【解決手段】反応性基を有する化合物と、1-クロロ-2,3,3-トリフルオロ-1-プロペンと、を含む表面処理剤及びその応用。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
反応性基を有する化合物と、１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペンと、を含む表面処理剤。
続きを表示（約 780 文字）【請求項２】
（Ｚ）－１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペンの含有量に対する、（Ｅ）－１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペンの含有量の質量比率は、１未満である、請求項１に記載の表面処理剤。
【請求項３】
前記反応性基を有する化合物の含有量は、前記表面処理剤の全量に対して、０．００１～５０質量％である、請求項１又は２に記載の表面処理剤。
【請求項４】
前記反応性基は、反応性シリル基、イソシアナト基、ヒドロキシ基、アルデヒド基、カルボニル基、４級アンモニウム基、アミノ基、ニトリル基、イミノ基、ジアゾ基、カルボキシ基、酸無水物基、スルホ基、リン酸基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基、エポキシ基、グリシジル基、オキセタニル基、メルカプト基、カルボジイミド基、及びオキサゾリン基からなる群より選択される少なくとも１種である、請求項１又は２に記載の表面処理剤。
【請求項５】
前記反応性基は、反応性シリル基である、請求項１又２に記載の表面処理剤。
【請求項６】
防汚性コーティング剤である、請求項１又は２に記載の表面処理剤。
【請求項７】
基材に対して、請求項１又２に記載の表面処理剤を用いて表面処理を行い、前記基材上に表面処理層が形成された物品を製造する、物品の製造方法。
【請求項８】
基材と、前記基材上に配置され、請求項１又２に記載の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含む物品。
【請求項９】
光学部材である、請求項８に記載の物品。
【請求項１０】
ディスプレイ又はタッチパネルである、請求項８に記載の物品。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、表面処理剤、物品、及び物品の製造方法に関する。
続きを表示（約 2,100 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、外観、視認性等の性能を向上させるために、物品の表面に指紋を付きにくくする技術や、汚れを落としやすくする技術が求められている。具体的な方法として、物品の表面に表面処理剤を用いて表面処理を行う方法が知られている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、ポリジアルキルシロキサン骨格を含み、Ｘ線光電子分光法で測定した炭素原子とケイ素原子の比率（Ｃ／Ｓｉ）が、モル基準で、０．９３以上、１．３８未満である皮膜が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１７－２０１０１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
表面処理剤によって形成される表面処理層において、均一性の向上が求められている。
【０００６】
本開示はこのような事情に鑑みてなされたものであり、本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、基材に対して、均一性に優れた表面処理層を形成し得る表面処理剤を提供することにある。
本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、均一性に優れた表面処理層を有する物品及び物品の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示は以下の態様を含む。
＜１＞
反応性基を有する化合物と、１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペンと、を含む表面処理剤。
＜２＞
（Ｚ）－１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペンの含有量に対する、（Ｅ）－１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペンの含有量の質量比率は、１未満である、＜１＞に記載の表面処理剤。
＜３＞
反応性基を有する化合物の含有量は、表面処理剤の全量に対して、０．００１～５０質量％である、＜１＞又は＜２＞に記載の表面処理剤。
＜４＞
反応性基は、反応性シリル基、イソシアナト基、ヒドロキシ基、アルデヒド基、カルボニル基、４級アンモニウム基、アミノ基、ニトリル基、イミノ基、ジアゾ基、カルボキシ基、酸無水物基、スルホ基、リン酸基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基、エポキシ基、グリシジル基、オキセタニル基、メルカプト基、カルボジイミド基、及びオキサゾリン基からなる群より選択される少なくとも１種である、＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の表面処理剤。
＜５＞
反応性基は、反応性シリル基である、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の表面処理剤。
＜６＞
防汚性コーティング剤である、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の表面処理剤。
＜７＞
基材に対して、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の表面処理剤を用いて表面処理を行い、基材上に表面処理層が形成された物品を製造する、物品の製造方法。
＜８＞
基材と、基材上に配置され、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の表面処理剤で表面処理された表面処理層と、を含む物品。
＜９＞
光学部材である、＜８＞に記載の物品。
＜１０＞
ディスプレイ又はタッチパネルである、＜８＞に記載の物品。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の一実施形態によれば、基材に対して、均一性に優れた表面処理層を形成し得る表面処理剤が提供される。
本発明の一実施形態によれば、均一性に優れた表面処理層を有する物品及び物品の製造方法が提供される。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本開示において「～」を用いて示された数値範囲には、「～」の前後に記載される数値がそれぞれ最小値及び最大値として含まれる。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本明細書中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下
限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において、「表面処理層」とは、基材の表面に、表面処理によって形成される層を意味する。
本開示において、「均一性」とは、表面処理層の表面の平滑性を意味する。
本開示において、化合物又は基が特定の式（Ｘ）で表される場合、当該式（Ｘ）で表される化合物又は基をそれぞれ化合物（Ｘ）若しくは化合物Ｘ、及び基（Ｘ）若しくは基Ｘと記すことがある。
【００１０】
［表面処理剤］
本開示の表面処理剤は、反応性基を有する化合物と、１－クロロ－２，３，３－トリフルオロ－１－プロペン（ＨＣＦＯ－１２３３ｙｄ）と、を含む。
（【００１１】以降は省略されています）

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