特許ウォッチ

公開番号2025005535
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-17
出願番号2023105737
出願日2023-06-28
発明の名称フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト組成物および硬化物
出願人日油株式会社
代理人弁理士法人柳野国際特許事務所
主分類C08F 220/18 20060101AFI20250109BHJP(有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物)
要約【課題】銅配線などの金属基板に対し硬化後に良好な密着力を示し、レジスト剥離時には室温下で一般的な有機溶剤を用いて剥離でき、且つ例えば露光量100mJ/cm²のような低露光量で硬化するフォトレジスト用樹脂を提供すること。
【解決手段】所定の一般式で示されるモノマー(a)に由来する構成単位を3～40質量%、(メタ)アクリル酸(b)に由来する構成単位を5～40質量%、所定の一般式で示されるモノマー(c)に由来する構成単位を30～92質量%含有し、重量平均分子量が3,000～300,000であることを特徴とするフォトレジスト用樹脂。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
下記式（１）で示されるモノマー（ａ）に由来する構成単位を３～４０質量％、（メタ）アクリル酸（ｂ）に由来する構成単位を５～４０質量％、下記式（２）で示されるモノマー（ｃ）に由来する構成単位を３０～９２質量％含有し、重量平均分子量が３，０００～３００，０００であることを特徴とするフォトレジスト用樹脂。
TIFF
2025005535000010.tif
35
162
（式（１）中、Ｒ
１
は、水素原子またはメチル基を示し、Ｒ
２
は、炭素数１～６の直鎖のアルキレン基を示し、Ｒ
３
は、水素原子又はメチル基を示し、Ｒ
４
は、炭素数１～２３のアルキル基を示す。）
TIFF
2025005535000011.tif
26
162
（式（２）中、Ｒ
５
は水素原子またはメチル基を示し、Ｘは、単結合又はエステル結合を示し、Ｒ
６
は、炭素数１～１８の炭化水素基を示す。）
続きを表示（約 100 文字）【請求項２】
請求項１に記載のフォトレジスト用樹脂、光重合開始剤及び多官能モノマーを含むフォトレジスト組成物。
【請求項３】
請求項２に記載のフォトレジスト組成物から形成される硬化物。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト組成物および硬化物に関するものである。
ここで、本明細書において、「フォトレジスト」とは、現像液に対する溶解性が光照射によって変化する組成物を意味し、フォトレジスト組成物とも称する。「フォトレジスト用樹脂」とは、フォトレジストを製造するために用いられる樹脂を意味する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
フォトレジストは、各種部品の製造に広く応用されており、例えばテレビ等の画像表示装置やデジタルカメラ等に使用される撮像素子をはじめとする電子部品等の製造工程又は加工工程に不可欠な微細加工材料となっている。
【０００３】
近年、電子製品の小型化に伴い、モジュールや回路基板の小型化がより一層求められている。回路基板の小型化にはさらなる配線の微細化が必要であり、従来以上にエッチング用フォトレジストの細線のパターニングの形成が必要不可欠となる。そのためフォトレジスト用樹脂は露光光源に対して、低い露光量で硬化する低露光量化が要求されている。
【０００４】
また配線の微細化に伴い、硬化したフォトレジストのレジストパターンが現像時やエッチング時に剥離するといった問題がある。これは、銅基板に対して密着力が足りないためにおこると考えられており、レジスト硬化膜に対してさらなる密着性向上が要求されている。しかし密着性を単純に上げると硬化膜剥離時に剥離時間が極端に伸びたり、剥離時未剥離部分が生じるといった問題が発生する。その解決策として剥離離時の温度を上げることが知られているが、温度を上げた場合、剥離液中の有機溶剤が揮発しやすくなり臭気問題や作業環境に悪影響を及ぼす可能性がある。そのため硬化物が剥離液に対し、低温で溶解することも要求されている。
【０００５】
特許文献１には、アルカリ可溶性高分子、光重合開始剤、エチレン性二重結合を有する化合物を所定の比率で含有する感光性樹脂組成物であって、所定の条件でダイレクトイメージング露光及び現像を行って得られるレジストパターンのレジスト裾幅が所定範囲になるものが開示されている。そして、このような感光性樹脂組成物は、メッキ後の銅配線などの導体の密着性に優れるなどされている。
【０００６】
特許文献２には、アルカリに可溶であるフェノール性水酸基を有する樹脂或いはアルカリ可溶性アクリル樹脂、感放射線性ラジカル重合開始剤、酸発生剤、エチレン性不飽和二重結合を２個以上有し、所定の連結基を有する化合物を含有するネガ型感放射線性樹脂組成物が開示されている。そして、このようなネガ型感放射線性樹脂組成物を用いると、アルカリ条件下でもメッキできるだけでなく、レジストのパターニングを剥離する際も一般的な有機溶剤で剥離可能とされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
特開２０１７-２２３９９３号公報
国際公開第２００８／０９３５０７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、特許文献１に具体的に開示されているアルカリ可溶性高分子を用いた場合、剥離工程において強アルカリ性の剥離液を使用する必要があり銅配線などを腐食するリスクがあった。また、特許文献２に開示されているネガ型感放射線性樹脂組成物は、銅配線などの金属板に対する密着性を上げるため長時間の硬化が必要であった。また剥離時は、５０～７０度と高温で剥離する必要があった。
【０００９】
本発明の目的は、銅配線などの金属基板に対し硬化後に良好な密着力を示し、レジスト剥離時には室温下で一般的な有機溶剤を用いて剥離でき、且つ例えば露光量１００ｍＪ／ｃｍ
２
のような低露光量で硬化するフォトレジスト用樹脂を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、前述の課題を解決するために鋭意検討を行った。その結果、上記目的を達成し得るフォトレジスト用樹脂を見出し、本発明を完成するに至った。本発明の要旨は、以下の通りである。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許