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公開番号2025002259
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-09
出願番号2023102310
出願日2023-06-22
発明の名称洗浄方法、洗浄装置、および塗布装置
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人個人
主分類B05C 11/10 20060101AFI20241226BHJP(霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般)
要約【課題】脱気ユニットから高粘度の処理液を良好に排出できる技術を提供する。
【解決手段】高粘度の処理液を脱気する脱気ユニット16の洗浄時に、まず、処理液よりも低粘度の第1希釈液を、脱気ユニット16へ通液する(第1通液工程)。そして、第1通液工程の後に、第1希釈液よりも低粘度の第2希釈液を、脱気ユニット16へ通液する(第2通液工程)。これにより、脱気ユニット16から処理液を良好に排出できる。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
高粘度の処理液を脱気する脱気ユニットの洗浄方法であって、
前記処理液よりも低粘度の第１希釈液を、前記脱気ユニットへ通液する第１通液工程と、
前記第１通液工程の後に、前記第１希釈液よりも低粘度の第２希釈液を、前記脱気ユニットへ通液する第２通液工程と、
を有する、洗浄方法。
続きを表示（約 1,600 文字）【請求項２】
請求項１に記載の洗浄方法であって、
前記第１通液工程の前に、前記処理液を前記処理液の溶媒で希釈することにより、前記第１希釈液を生成する第１希釈工程と、
前記第１通液工程の後かつ前記第２通液工程の前に、前記第１希釈液を前記溶媒で希釈することにより、前記第２希釈液を生成する第２希釈工程と、
をさらに有する、洗浄方法。
【請求項３】
請求項２に記載の洗浄方法であって、
前記第１希釈工程では、前記脱気ユニットを含む循環ラインに設けられた希釈タンクに貯留された前記処理液に、前記溶媒を供給することにより、前記第１希釈液を生成し、
前記第１通液工程では、前記希釈タンクから前記脱気ユニットへ、前記第１希釈液を供給し、
前記第２希釈工程では、前記脱気ユニットから前記希釈タンクへ戻された前記第１希釈液に、前記溶媒を供給することにより、前記第２希釈液を生成し、
前記第２通液工程では、前記希釈タンクから前記脱気ユニットへ、前記第２希釈液を供給する、洗浄方法。
【請求項４】
請求項３に記載の洗浄方法であって、
前記第１希釈工程では、前記希釈タンクに貯留された前記処理液に、前記希釈タンクに貯留された前記処理液の１５ｗｔ％以下の量の前記溶媒を供給する、洗浄方法。
【請求項５】
請求項４に記載の洗浄方法であって、
前記第１希釈工程では、前記希釈タンクに貯留された前記処理液に、前記希釈タンクに貯留された前記処理液の５ｗｔ％以上の量の前記溶媒を供給する、洗浄方法。
【請求項６】
請求項１から請求項５までのいずれか１項に記載の洗浄方法であって、
前記脱気ユニットは、前記処理液を通す複数の中空糸を有する、洗浄方法。
【請求項７】
高粘度の処理液を脱気する脱気ユニットの洗浄装置であって、
前記脱気ユニットに接続される循環ラインと、
前記循環ラインに設けられた希釈タンクと、
前記希釈タンクと前記脱気ユニットとの間で、前記循環ラインに液流を発生させる循環ポンプと、
前記希釈タンクに、前記処理液の溶媒を供給する溶媒供給部と、
前記循環ポンプおよび前記溶媒供給部を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、
前記溶媒供給部から前記希釈タンクへ前記溶媒を供給することにより、第１希釈液を生成する第１希釈工程と、
前記第１希釈工程の後に、前記循環ポンプの駆動により、前記脱気ユニットへ前記第１希釈液を通液する第１通液工程と、
前記第１通液工程の後に、前記溶媒供給部から前記希釈タンクへ前記溶媒を供給することにより、第２希釈液を生成する第２希釈工程と、
前記第２希釈工程の後に、前記循環ポンプの駆動により、前記脱気ユニットへ前記第２希釈液を通液する第２通液工程と、
を実行する、洗浄装置。
【請求項８】
請求項７に記載の洗浄装置であって、
前記第１希釈工程では、前記希釈タンクに貯留された前記処理液に、前記希釈タンクに貯留された前記処理液の１５ｗｔ％以下の量の前記溶媒を供給する、洗浄装置。
【請求項９】
請求項８に記載の洗浄装置であって、
前記第１希釈工程では、前記希釈タンクに貯留された前記処理液に、前記希釈タンクに貯留された前記処理液の５ｗｔ％以上の量の前記溶媒を供給する、洗浄装置。
【請求項１０】
請求項７から請求項９までのいずれか１項に記載の洗浄装置であって、
前記脱気ユニットは、前記処理液を通す複数の中空糸を有する、洗浄装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、高粘度の処理液を脱気する脱気ユニットの洗浄技術に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、フレキシブルディスプレイに使用されるポリイミドフィルムの製造工程では、ポリイミド前駆体（ポリアミック酸）を含む高粘度の処理液を、キャリア基板に塗布する。その際、処理液中の気泡や溶存気体を除去するために、脱気ユニットが使用される。
【０００３】
脱気ユニットを備えた従来の塗布装置については、例えば、特許文献１に記載されている。特許文献１の塗布装置では、脱気ユニットとして、中空糸脱気モジュールを使用している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０２０－０４４４６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
この種の塗布装置では、処理液を他の種類の処理液に交換する時、定期メンテナンス時、または一定時間処理液が滞留した時などに、脱気ユニットを洗浄する必要がある。脱気ユニットの洗浄方法としては、例えば、脱気ユニット内に高圧の空気を供給して、脱気ユニットから大部分の処理液を排出した後に、脱気ユニットに溶媒を通液して、脱気ユニットに残留する処理液を洗い流すことが考えられる。
【０００６】
しかしながら、処理液が高粘度であるため、上記の洗浄方法では、脱気ユニットから処理液を十分に排出することが困難であった。特に、脱気ユニットとして中空糸脱気モジュールを用いる場合、複数の微細な管状の中空糸の中に、高粘度の処理液が保持されている。この場合、複数の中空糸に高圧の空気を均等に供給することが難しい。このため、先に処理液が排出された中空糸に空気および溶媒が集中してしまい、他の中空糸から処理液を排出することができないという問題があった。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みなされたものであり、脱気ユニットから高粘度の処理液を良好に排出できる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本願の第１発明は、高粘度の処理液を脱気する脱気ユニットの洗浄方法であって、前記処理液よりも低粘度の第１希釈液を、前記脱気ユニットへ通液する第１通液工程と、前記第１通液工程の後に、前記第１希釈液よりも低粘度の第２希釈液を、前記脱気ユニットへ通液する第２通液工程と、を有する。
【０００９】
本願の第２発明は、第１発明の洗浄方法であって、前記第１通液工程の前に、前記処理液を前記処理液の溶媒で希釈することにより、前記第１希釈液を生成する第１希釈工程と、前記第１通液工程の後かつ前記第２通液工程の前に、前記第１希釈液を前記溶媒で希釈することにより、前記第２希釈液を生成する第２希釈工程と、をさらに有する。
【００１０】
本願の第３発明は、第２発明の洗浄方法であって、前記第１希釈工程では、前記脱気ユニットを含む循環ラインに設けられた希釈タンクに貯留された前記処理液に、前記溶媒を供給することにより、前記第１希釈液を生成し、前記第１通液工程では、前記希釈タンクから前記脱気ユニットへ、前記第１希釈液を供給し、前記第２希釈工程では、前記脱気ユニットから前記希釈タンクへ戻された前記第１希釈液に、前記溶媒を供給することにより、前記第２希釈液を生成し、前記第２通液工程では、前記希釈タンクから前記脱気ユニットへ、前記第２希釈液を供給する。
（【００１１】以降は省略されています）

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