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公開番号2024180562
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-12-26
出願番号2024179980,2020545048
出願日2024-10-15,2018-11-16
発明の名称プラズマ処理システムにおける変調供給源の改良された印加
出願人エーイーエスグローバルホールディングス, プライベートリミテッド
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類H05H 1/46 20060101AFI20241219BHJP(他に分類されない電気技術)
要約【課題】プラズマ処理システムにおける変調供給源の改良された印加の提供。
【解決手段】プラズマ処理システムおよび方法が、開示される。本システムは、プラズマ性質を変調する、少なくとも1つの変調供給源を含み得、プラズマ性質の変調は、繰り返し周期Tを有する。同期モジュールが、Tの整数倍である同期信号繰り返し周期を伴う同期信号をプラズマ処理システムに接続される少なくとも1つの機器に送信するように構成される。波形通信モジュールが、特徴付けられる波形の特性をプラズマシステムに接続される少なくとも1つの機器に通信し、プラズマ処理システムに接続される複数の機器の同期を可能にする。特徴付けられる波形は、プラズマの変調についての情報またはプラズマ処理システムに接続される機器の所望の波形についての情報を含有し得る。
【選択図】図12
特許請求の範囲【請求項１】
本明細書に記載の発明。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
（第３５Ｕ．Ｓ．Ｃ． §１１９号に基づく優先権の主張）
特許に関する本願は、「ＩＭＰＲＯＶＥＤＡＰＰＬＩＣＡＴＩＯＮＯＦＡＮＥＶＳＯＵＲＣＥＩＮＰＬＡＳＭＡＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧＥＱＵＩＰＭＥＮＴ」と題され、２０１７年１１月１７日に出願され、本明細書の譲受人に譲渡され、本明細書を参照することによって本明細書に明確に組み込まれる、仮出願第６２／５８８，２５５号の優先権を主張する。
続きを表示（約 4,000 文字）【０００２】
本開示は、概して、プラズマ処理に関する。特に、限定としてではないが、本開示は、プラズマ処理システムに結合される機器の相互動作に関する。
【背景技術】
【０００３】
エッチングおよび堆積のためのプラズマ処理システムは、数十年にわたって利用されているが、処理技法および機器技術の進歩により、ますます複雑なシステムを作成し続けている。同時に、ワークピースで作成される構造の寸法を減少させることは、プラズマ処理機器のますます精密な制御および相互動作を要求する。現在の制御方法論および関連付けられるシステムは、今日および将来の複雑なシステムと関連付けられるいくつかの問題に対処することが可能ではなく、したがって、異種であるが、相互依存するプラズマ処理機器に対する新しい改良された制御の必要性がある。
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００４】
ある側面によると、プラズマ処理システムは、プラズマ性質を変調する、少なくとも１つの変調供給源を含み、プラズマ性質の変調は、繰り返し周期Ｔを有する。プラズマ処理システムは、Ｔの整数倍である同期信号繰り返し周期を伴う同期信号をプラズマ処理システムに接続される少なくとも１つの機器に送信するように構成される、同期モジュールを含む。プラズマ処理システムはまた、繰り返し周期Ｔを伴う特徴付けられる波形の特性をプラズマシステムに接続される少なくとも１つの機器に通信し、プラズマ処理システムに接続される複数の機器の同期を可能にするように構成される、波形通信モジュールを含み、繰り返し周期Ｔを伴う特徴付けられる波形は、プラズマの変調についての情報またはプラズマ処理システムに接続される機器の所望の波形についての情報のうちの少なくとも１つを含有する。
【０００５】
別の側面は、プラズマ処理システムのための制御方法として特徴付けられ得る。本方法は、変調供給源を用いてプラズマ性質を変調するステップを含み、プラズマ性質の変調は、繰り返し周期Ｔを有する。本方法はまた、プラズマの変調またはプラズマ処理システムに接続される機器の所望の波形についての情報のうちの少なくとも１つを含有する、繰り返し周期Ｔを伴う波形を特徴付け、波形データセットを生じるステップを含む。波形データセットは、プラズマシステムに接続される少なくとも１つの機器に送信され、Ｔの整数倍である同期信号繰り返し周期を伴う同期信号は、プラズマシステムに接続される少なくとも１つの機器に送信される。
【０００６】
さらに別の側面は、プラズマシステムに接続される機器の出力波形に関する波形データセットを発生させるように構成される、波形特徴付けモジュールを含む、プラズマ処理制御システムとして特徴付けられ得る。波形繰り返しモジュールが、プラズマシステムに接続される機器に関する繰り返し周期Ｔを決定するために含まれ、波形通信モジュールが、波形データセットをプラズマシステムに接続される機器または別の機器のうちの少なくとも１つに通信するように構成される。プラズマ処理システムはまた、波形通信モジュールと、同期モジュールとを含む。波形通信モジュールは、波形データセットをプラズマシステムに接続される機器または別の機器のうちの少なくとも１つに通信するように構成され、同期モジュールは、Ｔの整数倍である同期パルス繰り返し周期を伴う同期パルスをプラズマシステムに接続される機器に送信するように構成される。
本発明は、例えば、以下の項目を提供する。
（項目１）
プラズマ処理システムであって、
プラズマ性質を変調する少なくとも１つの変調供給源であって、前記プラズマ性質の変調は、繰り返し周期Ｔを有する、少なくとも１つの変調供給源と、
同期モジュールであって、前記同期モジュールは、Ｔの整数倍である同期信号繰り返し周期を伴う同期信号を前記プラズマ処理システムに接続される少なくとも１つの機器に送信するように構成される、同期モジュールと、
波形通信モジュールであって、前記波形通信モジュールは、前記繰り返し周期Ｔを伴う特徴付けられる波形の特性をプラズマシステムに接続される前記少なくとも１つの機器に通信し、前記プラズマ処理システムに接続される複数の機器の同期を可能にするように構成され、前記繰り返し周期Ｔを伴う前記特徴付けられる波形は、前記プラズマの変調についての情報または前記プラズマ処理システムに接続される機器の所望の波形についての情報のうちの少なくとも１つを含有する、波形通信モジュールと
を備える、プラズマ処理システム。
（項目２）
Ｔは、前記プラズマ処理システムのプラズマ性質を変調する全ての複数の機器の波形が周期Ｔで周期的である最も短い時間長である、項目１に記載のプラズマ処理システム。
（項目３）
前記変調供給源は、前記プラズマに影響を及ぼす電磁場を変調することによって前記プラズマ性質を変調するように構成される、項目１に記載のプラズマ処理システム。
（項目４）
前記変調供給源は、遠隔プラズマ源である、項目１に記載のプラズマ処理システム。
（項目５）
前記変調供給源は、前記プラズマシステム内のガスの性質を変調することによって前記プラズマ性質を変調するように構成される、項目１に記載のプラズマ処理システム。
（項目６）
前記変調供給源は、２つ以上の明確に異なるレベルの間で前記プラズマ中のワークピースの表面電位を交互にするように構成される、項目１に記載のプラズマ処理システム。
（項目７）
繰り返し周期Ｔを伴う前記波形の特性は、前記変調供給源によって発生される出力波形の特性を含む、項目１に記載のプラズマ処理システム。
（項目８）
繰り返し周期Ｔを伴う前記波形の特性は、前記プラズマ性質の特性を含む、項目１に記載のプラズマ処理システム。
（項目９）
繰り返し周期Ｔを伴う前記波形の特性は、前記プラズマ中のワークピースの表面電位の特性を含む、項目１に記載のプラズマ処理システム。
（項目１０）
繰り返し周期Ｔを伴う前記波形の特性は、前記プラズマ処理システムに接続される前記少なくとも１つの機器の出力の所望の特性を含む、項目１に記載のプラズマ処理システム。
（項目１１）
前記少なくとも１つの機器は、発生器である、項目１に記載のプラズマ処理システム。
（項目１２）
前記発生器は、前記発生器の出力の性質を、繰り返し周期Ｔを伴う前記特徴付けられる波形と同期させる、項目１１に記載のプラズマ処理システム。
（項目１３）
前記同期は、繰り返し周期Ｔを伴う前記特徴付けられる波形の変化に関して前記発生器の出力の性質の変化を早めるかまたは遅らせることを含む、項目１２に記載のプラズマ処理システム。
（項目１４）
前記出力の性質は、電圧、電流、電力、周波数、または発生器源インピーダンスのうちの少なくとも１つである、項目１２に記載のプラズマ処理システム。
（項目１５）
前記発生器は、ＲＦ発生器またはＤＣ発生器のうちの１つである、項目１１に記載のプラズマ処理システム。
（項目１６）
前記発生器は、前記プラズマ処理システムからの電力を吸収することが可能である、項目１５に記載のプラズマ処理システム。
（項目１７）
前記発生器は、前記プラズマシステムからの電力のみを吸収し得る負荷である、項目１６に記載のプラズマ処理システム。
（項目１８）
前記少なくとも１つの機器は、前記プラズマ処理システムの性質を測定するように構成される、項目１に記載のプラズマ処理システム。
（項目１９）
前記測定は、プラズマ性質の測定、前記プラズマシステムに送達される電力の性質、または前記プラズマシステムに送達されるガスの性質のうちの少なくとも１つを含む、項目１８に記載のプラズマ処理システム。
（項目２０）
前記測定は、前記繰り返し周期Ｔを伴う前記特徴付けられる波形と同期される、項目１８に記載のプラズマ処理システム。
（項目２１）
前記同期は、前記繰り返し周期Ｔを伴う前記特徴付けられる波形の変化に関して前記プラズマシステム性質の測定を早めるかまたは遅らせることを含む、項目２０に記載のプラズマ処理システム。
（項目２２）
前記少なくとも１つの機器は、インピーダンス整合ネットワークである、項目１に記載のプラズマ処理システム。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
図１は、プラズマ性質に対する制御を達成するように設計される、プラズマ処理システムの実施形態を描写する。
【０００８】
図２は、源発生器または複数の源発生器ではなく、遠隔プラズマ源を使用してプラズマ性質に対する制御を達成するように設計される、プラズマ処理システムの別の実施形態を描写する。
【０００９】
図３は、遠隔プラズマ源および統合バイアス電力送達システムを使用してプラズマ性質に対する制御を達成するように設計される、プラズマ処理システムのさらに別の実施形態を描写する。
【００１０】
図４は、バイアス供給源を含む、プラズマ処理システムを描写する。
（【００１１】以降は省略されています）

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