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公開番号2024137424
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-07
出願番号2023048946
出願日2023-03-24
発明の名称ガス浄化装置および粉粒体処理装置
出願人株式会社カワタ
代理人個人
主分類F26B 21/00 20060101AFI20240927BHJP(乾燥)
要約【課題】浄化対象ガスから除去対象成分を除去する除去処理が無駄に実行されることを抑制できる、ガス浄化装置および粉粒体処理装置を提供する。
【解決手段】脱湿乾燥機2の運転が開始されると、乾燥ブロワ23および乾燥ヒータ25が作動し、乾燥ガスライン16を流れる乾燥ガスの温度が上昇する。脱湿乾燥機2の運転が開始されても、温度センサ137により検出される温度が第1所定値未満から第1所定値以上に上昇するまでは、ガス浄化装置3(触媒ヒータ122)の運転が開始されず、浄化対象ガスから処理対象成分であるVOCを除去する除去処理が開始されない。脱湿乾燥機2の運転の開始後、温度センサ137により検出される温度が第1所定値未満から第1所定値以上に上昇すると、ガス浄化装置3の運転が開始されて、浄化対象ガスからVOCを除去する除去処理が開始される。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
除去対象成分を含む浄化対象ガスを排出するガス排出装置に接続されて、前記ガス排出装置から排出される前記浄化対象ガスを浄化するガス浄化装置であって、
前記ガス排出装置の運転により上昇する温度を検出する検出器と、
前記浄化対象ガスから前記除去対象成分を除去する除去処理を実行する除去処理部と、
前記検出器により検出される温度が第１所定値未満から前記第１所定値以上に上昇したことに応じて、前記除去処理部による前記除去処理を開始させる制御部と、を含む、ガス浄化装置。
続きを表示（約 1,600 文字）【請求項２】
前記除去処理部は、
前記浄化対象ガスを昇温させる昇温器と、
前記昇温器による昇温後の前記浄化対象ガスが通過する領域に配置されて、前記浄化対象ガスに含まれる前記除去対象成分を分解する触媒と、を備え、
前記制御部は、前記検出器により検出される温度が前記第１所定値未満から前記第１所定値以上に上昇したことに応じて、前記昇温器による前記浄化対象ガスの昇温を開始させる、請求項１に記載のガス浄化装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記検出器により検出される温度が第２所定値以上から前記第２所定値未満に低下したことに応じて、前記除去処理部による前記除去処理を停止させる、請求項１に記載のガス浄化装置。
【請求項４】
前記除去処理部は、
前記浄化対象ガスを昇温させる昇温器と、
前記昇温器による昇温後の前記浄化対象ガスが通過する領域に配置されて、前記浄化対象ガスに含まれる前記除去対象成分を分解する触媒と、を備え、
前記制御部は、前記検出器により検出される温度が前記第２所定値以上から前記第２所定値未満に低下したことに応じて、前記昇温器による前記浄化対象ガスの昇温を停止させる、請求項３に記載のガス浄化装置。
【請求項５】
前記検出器は、前記除去処理部に入る前記浄化対象ガスの温度を検出する、請求項１～４のいずれか一項に記載のガス浄化装置。
【請求項６】
粉粒体を処理して、除去対象成分を含む浄化対象ガスを排出するガス排出部と、
前記ガス排出部から排出される前記浄化対象ガスを浄化するガス浄化部と、を含み、
前記ガス浄化部は、
前記ガス排出部の運転により上昇する温度を検出する検出器と、
前記浄化対象ガスから前記除去対象成分を除去する除去処理を実行する除去処理部と、
前記検出器により検出される温度が第１所定値未満から前記第１所定値以上に上昇したことに応じて、前記除去処理部による前記除去処理を開始させる制御部と、を備える、粉粒体処理装置。
【請求項７】
前記除去処理部は、
前記浄化対象ガスを昇温させる昇温器と、
前記昇温器による昇温後の前記浄化対象ガスが通過する領域に配置されて、前記浄化対象ガスに含まれる前記除去対象成分を分解する触媒と、を備え、
前記制御部は、前記検出器により検出される温度が前記第１所定値未満から前記第１所定値以上に上昇したことに応じて、前記昇温器による前記浄化対象ガスの昇温を開始させる、請求項６に記載の粉粒体処理装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記検出器により検出される温度が第２所定値以上から前記第２所定値未満に低下したことに応じて、前記除去処理部による前記除去処理を停止させる、請求項６に記載の粉粒体処理装置。
【請求項９】
前記除去処理部は、
前記浄化対象ガスを昇温させる昇温器と、
前記昇温器による昇温後の前記浄化対象ガスが通過する領域に配置されて、前記浄化対象ガスに含まれる前記除去対象成分を分解する触媒と、を備え、
前記制御部は、前記検出器により検出される温度が前記第２所定値以上から前記第２所定値未満に低下したことに応じて、前記昇温器による前記浄化対象ガスの昇温を停止させる、請求項８に記載の粉粒体処理装置。
【請求項１０】
前記ガス排出部は、
乾燥ガスの乾燥ガス入口および乾燥ガス出口を有し、乾燥処理対象の前記粉粒体を収容する乾燥容器と、
前記乾燥ガス入口から前記乾燥容器内に前記乾燥ガスを供給する乾燥ブロワと、
前記乾燥ガス入口に向けて流れる前記乾燥ガスを昇温させる乾燥ヒータと、を備える、請求項６～９のいずれか一項に記載の粉粒体処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス浄化装置および粉粒体処理装置に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
たとえば、プラスチック製品の製造工程では、プラスチック材料が成形機に投入されるまでに、プラスチック材料から水分を除去するための予備乾燥が行われる。
【０００３】
プラスチック材料には、多くの場合、紫外線防止剤や難燃剤などの種々の添加剤が混合されている。添加剤には、ＶＯＣ（Volatile Organic Compounds：揮発性有機化合物）を含むものがある。ＶＯＣを含む添加剤がプラスチック材料に混合されていると、予備乾燥の工程で、プラスチック材料からＶＯＣが揮発する。ＶＯＣは、臭気を発するだけでなく、そのＶＯＣを含むガスが通過する管路内に析出して付着し、管路内を汚染することもある。
【０００４】
被乾燥物の乾燥時にＶＯＣを含むガスが発生する乾燥機と、乾燥機から排出されるガスを脱臭する脱臭装置とを備える乾燥設備が提案されている（たとえば、特許文献１参照）。乾燥設備の運転時には、乾燥機および脱臭装置が作動し、乾燥機から排出されるガスが脱臭装置に供給される。脱臭装置には、予熱炉および触媒ユニットが設けられている。乾燥機から脱臭装置に供給されたガスは、予熱炉で加熱により昇温した後、触媒ユニット内を通過する。触媒ユニット内には、ＶＯＣを酸化分解する触媒が備えられている。ＶＯＣを含むガスが触媒ユニット内を通過する際に、ＶＯＣが触媒作用によって酸化分解され、そのガスからＶＯＣが除去される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特許第６０６８９６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
その乾燥設備では、乾燥機の作動中は、脱臭装置が常に作動している。ところが、乾燥機の作動中であっても、乾燥機でＶＯＣを含むガスが発生していないときがあり、そのときに脱臭装置が作動するのは無駄である。
【０００７】
本発明の目的は、浄化対象ガスから除去対象成分を除去する除去処理が無駄に実行されることを抑制できる、ガス浄化装置および粉粒体処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記の目的を達成するため、本発明の一の局面に係るガス浄化装置は、除去対象成分を含む浄化対象ガスを排出するガス排出装置に接続されて、ガス排出装置から排出される浄化対象ガスを浄化するガス浄化装置であって、ガス排出装置の運転により上昇する温度を検出する検出器と、浄化対象ガスから除去対象成分を除去する除去処理を実行する除去処理部と、検出器により検出される温度が第１所定値未満から第１所定値以上に上昇したことに応じて、除去処理部による除去処理を開始させる制御部とを含む。
【０００９】
本発明の他の局面に係る粉粒体処理装置は、粉粒体を処理して、除去対象成分を含む浄化対象ガスを排出するガス排出部と、ガス排出部から排出される浄化対象ガスを浄化するガス浄化部とを含み、ガス浄化部は、ガス排出部の運転により上昇する温度を検出する検出器と、浄化対象ガスから除去対象成分を除去する除去処理を実行する除去処理部と、検出器により検出される温度が第１所定値未満から第１所定値以上に上昇したことに応じて、除去処理部による除去処理を開始させる制御部とを備える。
【００１０】
これらの構成によれば、ガス排出装置またはガス排出部の運転が開始されると、検出器により検出される温度が上昇する。ガス排出装置またはガス排出部の運転の開始後、検出器により検出される温度が第１所定値未満から第１所定値以上に上昇するまでは、除去処理部による除去処理が開始されない。そして、検出器により検出される温度が第１所定値未満から第１所定値以上に上昇すると、除去処理部による除去処理が開始される。
（【００１１】以降は省略されています）

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