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公開番号2024134991
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-04
出願番号2023045469
出願日2023-03-22
発明の名称基板洗浄方法および基板洗浄装置
出願人ウシオ電機株式会社
代理人個人,個人
主分類B08B 3/02 20060101AFI20240927BHJP(清掃)
要約【課題】有機溶剤を使用することなく高い洗浄力により基板表面を洗浄する。
【解決手段】基板洗浄方法は、基板を準備する準備工程と、基板を洗浄する洗浄工程と、洗浄工程において洗浄された後の基板を乾燥する乾燥工程と、を含む。洗浄工程は、基板の表面に紫外線(VUV光)を照射する第1の洗浄工程と、紫外線を照射した後の基板の表面に超純水を散布する第2の洗浄工程と、を含む。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基板を洗浄する基板洗浄方法であって、
前記基板を準備する準備工程と、
前記基板を洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄工程において洗浄された後の前記基板を乾燥する乾燥工程と、を含み、
前記洗浄工程は、
前記基板の表面に紫外線を照射する第１の洗浄工程と、
前記紫外線を照射した後の前記基板の表面に超純水を散布する第２の洗浄工程と、を含むことを特徴とする基板洗浄方法。
続きを表示（約 760 文字）【請求項２】
前記超純水を生成する生成工程をさらに含み、
前記第２の洗浄工程では、前記生成工程において生成された前記超純水を、直接、前記基板の表面に散布することを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄方法。
【請求項３】
前記乾燥工程では、前記洗浄工程において洗浄された後の前記基板の表面に、大気圧プラズマを照射することを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄方法。
【請求項４】
前記乾燥工程は、
前記洗浄工程において洗浄された後の前記基板の表面に、エアーナイフから噴出される圧縮空気を吹き付ける第１の乾燥工程と、
前記第１の乾燥工程の後に、前記基板の表面に大気圧プラズマを照射する第２の乾燥工程と、を含む
ことを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄方法。
【請求項５】
前記第２の洗浄工程では、オゾンが含有された前記超純水を散布することを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄方法。
【請求項６】
前記第２の洗浄工程では、ナノバブルが含有された前記超純水を散布することを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄方法。
【請求項７】
基板を洗浄する基板洗浄装置であって、
前記基板を洗浄する基板洗浄部と、
前記基板洗浄部において洗浄された後の前記基板を乾燥する基板乾燥部と、を備え、
前記基板洗浄部は、
紫外線光源を有し、当該紫外線光源から放射される紫外線を前記基板の表面に照射する紫外線照射部と、
スプレーヘッドを有し、前記紫外線照射部において紫外線が照射された後の前記基板の表面に、前記スプレーヘッドから超純水を散布する超純水散布部と、を備えることを特徴とする基板洗浄装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板洗浄方法および基板洗浄装置に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
例えばガラスなどの基板の表面を洗浄する基板洗浄工程は、基板上に塗布液を塗布して成膜する成膜工程などの前工程として重要な工程である。
基板洗浄工程では、湿式洗浄（ウェット洗浄）や乾式洗浄（ドライ洗浄）が行われる。湿式洗浄では、洗浄液に基板を浸漬し、超音波洗浄機などにより基板を洗浄する。乾式洗浄では、紫外線オゾン洗浄などが行われる。
例えば特許文献１は、有機溶媒が含有された洗浄組成物に基板を浸漬して洗浄する基板洗浄方法を開示する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１２－２２７２９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記従来の基板洗浄方法は、有機溶媒が含有された有機溶剤を大量に使用する方法であるため、昨今の環境保全に配慮した洗浄方法とはいえない。また、処理槽の大型化や排水処理の保守、メンテナンスなどの課題もある。
そこで、本発明は、有機溶剤を使用することなく高い洗浄力により基板表面を洗浄することができる基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明に係る基板洗浄方法の一態様は、基板を洗浄する基板洗浄方法であって、前記基板を準備する準備工程と、前記基板を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程において洗浄された後の前記基板を乾燥する乾燥工程と、を含み、前記洗浄工程は、前記基板の表面に紫外線を照射する第１の洗浄工程と、前記紫外線を照射した後の前記基板の表面に超純水を散布する第２の洗浄工程と、を含む。
【０００６】
このように、紫外線照射により基板の表面を洗浄した後に、超純水による洗浄を行う。紫外線を照射して基板表面の有機物を分解除去（気化）させたり除去しやすくしたりしたうえで、超純水の高い溶解能力により基板表面の不純物を除去するので、有機溶剤を使用することなく、基板表面を適切に洗浄することができる。また、紫外線照射により基板表面の濡れ性（親水性）を向上させることができるので、超純水を基板表面全体に均一に塗布することができ、洗浄ムラを抑制することができる。また、基板表面の濡れ性が向上されることで、ピンニング現象を抑制し、乾燥痕（ウォーターマーク）の発生を抑制することができる。
【０００７】
また、上記の基板洗浄方法は、前記超純水を生成する生成工程をさらに含み、前記第２の洗浄工程では、前記生成工程において生成された前記超純水を、直接、前記基板の表面に散布してよい。
この場合、生成された超純水をタンク等に溜めることなく直ちに洗浄工程で使用することができる。そのため、超純水の劣化を抑制し、高い洗浄効果を維持したまま使用することができる。
【０００８】
さらに、上記の基板洗浄方法において、前記乾燥工程では、前記洗浄工程において洗浄された後の前記基板の表面に、大気圧プラズマを照射してよい。
この場合、洗浄工程で除去しきれなかった不純物や、洗浄工程後に再吸着した不純物などを適切に除去しつつ、基板表面を乾燥させることができる。したがって、乾燥痕（ウォーターマーク）の発生を効果的に抑制することができる。
【０００９】
また、上記の基板洗浄方法において、前記乾燥工程は、前記洗浄工程において洗浄された後の前記基板の表面に、エアーナイフから噴出される圧縮空気を吹き付ける第１の乾燥工程と、前記第１の乾燥工程の後に、前記基板の表面に大気圧プラズマを照射する第２の乾燥工程と、を含んでよい。
この場合、エアーナイフによって基板表面の水分を効率的に除去することができるので、乾燥に要する時間を短縮することができる。また、大気圧プラズマのみを利用した乾燥と比較して、コストを削減することができる。
【００１０】
さらに、上記の基板洗浄方法において、前記第２の洗浄工程では、オゾンが含有された前記超純水を散布してもよいし、ナノバブルが含有された前記超純水を散布してもよい。
この場合、さらに洗浄効率を上げることができる。
（【００１１】以降は省略されています）

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