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公開番号2024136075
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-10-04
出願番号2023047044
出願日2023-03-23
発明の名称洗浄パッド、及び洗浄方法
出願人富士紡ホールディングス株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類B08B 1/00 20240101AFI20240927BHJP(清掃)
要約【課題】ガラス層を含む基板の表面を洗浄するための新規の洗浄パッド、及び洗浄方法を提供すること。
【解決手段】平均粒子径D50が1.0μm以上6.0μm以下であり、モース硬度が2.0以上7.0以下である粒子を含む発泡樹脂シートを備え、前記発泡樹脂シートは、ショアA硬度が25度以上であり、ショアD硬度が60度以下であり、前記粒子の前記発泡樹脂シートに対する含有量が、5.0質量%以上25質量%以下である、ガラス層を含む基板の表面を洗浄するための洗浄パッド。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
平均粒子径Ｄ５０が１．０μｍ以上６．０μｍ以下であり、モース硬度が２．０以上７．０以下である粒子を含む発泡樹脂シートを備え、
前記発泡樹脂シートは、ショアＡ硬度が２５度以上であり、ショアＤ硬度が６０度以下であり、
前記粒子の前記発泡樹脂シートに対する含有量が、５．０質量％以上２５質量％以下である、
ガラス層を含む基板の表面を洗浄するための洗浄パッド。
続きを表示（約 680 文字）【請求項２】
前記発泡樹脂シートが、実質的に繊維を含有しない、請求項１に記載の洗浄パッド。
【請求項３】
前記発泡樹脂シートが、ポリウレア樹脂を含む、請求項１に記載の洗浄パッド。
【請求項４】
前記発泡樹脂シートの平均発泡径が、４０μｍ以上１８０μｍ以下である、請求項１に記載の洗浄パッド。
【請求項５】
前記発泡樹脂シートの密度が、０．３０ｇ／ｃｍ
3
以上０．８０ｇ／ｃｍ
3
以下である、請求項１に記載の洗浄パッド。
【請求項６】
前記粒子が、酸化セリウム粒子、炭酸カルシウム粒子、又はこれらの混合物である、請求項１に記載の洗浄パッド。
【請求項７】
前記基板が、ガラス板、ガラス層上に導電層を備えるガラス電極、又はこれらの表面にレジスト膜を備えるレジスト膜付き基板である、請求項１に記載の洗浄パッド。
【請求項８】
前記洗浄が、研磨砥粒を用いずに、前記洗浄パッドを前記基板の表面に接触させたまま前記洗浄パッドと前記基板とを相対的に移動させる工程を含む、請求項１～７のいずれか１項に記載の洗浄パッド。
【請求項９】
前記洗浄が、実質的に水からなる洗浄液の存在下で実施される、請求項１～７のいずれか１項に記載の洗浄パッド。
【請求項１０】
研磨砥粒を含まない洗浄液の存在下、請求項１～７のいずれか１項に記載の洗浄パッドを用いて、ガラス層を含む基板の表面を洗浄する工程を含む、基板の洗浄方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄パッド、及び洗浄方法に関する。
続きを表示（約 2,200 文字）【背景技術】
【０００２】
タッチパネル及びディスプレイパネルのようなガラス層を含む基板製品の製造方法は、通常ガラス層の洗浄工程を有する。例えば特許文献１には、ガラス基板に透明電導膜を成膜した後に、ガラス基板表面の異物を除去するための洗浄工程を含む、導電基板の製造方法が開示されている。また、特許文献２には、ガラス基板上に配設された電極用膜をエッチング処理した後に洗浄を実施すること、及び必要に応じてレジスト膜の除去工程時に発生したレーザー光照射による飛散物の洗浄を実施することが開示されている。
【０００３】
上記のような洗浄工程は、前段工程において基板上に残留したガラス屑（カレットとも呼ばれる）、薬剤、油膜、その他の飛散物のような異物を除去する。このような洗浄工程は、基板と他の部材（例えば、偏光板）とを積層する際の接合不良、及び透明電導膜の機能不良等を抑制することを目的とする。
【０００４】
洗浄工程で用いられる洗浄部材について、形状としてはシート状、及びローラー状等が用いられており、材質としては樹脂スポンジ、不織布、及びブラシ等が用いられている（特許文献３、４）。また、特許文献５には、ガラス研磨工程が異物除去を兼ねる方法が開示されている。特許文献６には、ガラス基板の表面に付着した異物を除去するために、シリコンカーバイド、ダイヤモンド、及びアルミナのような研磨砥粒とバインダーとを含む固定砥粒層を備える異物除去パッドを用いることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０２１－８２５８０号公報
特許第４２２０２５４号公報
特許第７０８１３５１号公報
特開２０１２－２１３７４６号公報
特開２０１６－２８９８８号公報
国際公開第２０１１／１２６０２８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、ガラス層を含む基板の洗浄方法の開発は未だ限定的であり、ガラス層を含む基板を洗浄するための新たな方法、及びこれに用いられる洗浄部材が求められている。
【０００７】
そこで、本発明は、ガラス層を含む基板の表面を洗浄するための新規の洗浄パッド、及び洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、粒子を含む発泡樹脂シートを備えるパッドにおいて、発泡樹脂シートの硬度、並びに粒子の硬度及び含有量を調整することにより、有用な洗浄パッドが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明は以下のとおりである。
［１］
平均粒子径Ｄ５０が１．０μｍ以上６．０μｍ以下であり、モース硬度が２．０以上７．０以下である粒子を含む発泡樹脂シートを備え、
前記発泡樹脂シートは、ショアＡ硬度が２５度以上であり、ショアＤ硬度が６０度以下であり、
前記粒子の前記発泡樹脂シートに対する含有量が、５．０質量％以上２５質量％以下である、
ガラス層を含む基板の表面を洗浄するための洗浄パッド。
［２］
前記発泡樹脂シートが、実質的に繊維を含有しない、［１］に記載の洗浄パッド。
［３］
前記発泡樹脂シートが、ポリウレア樹脂を含む、［１］又は［２］に記載の洗浄パッド。
［４］
前記発泡樹脂シートの平均発泡径が、４０μｍ以上１８０μｍ以下である、［１］～［３］のいずれか１つに記載の洗浄パッド。
［５］
前記発泡樹脂シートの密度が、０．３０ｇ／ｃｍ
3
以上０．８０ｇ／ｃｍ
3
以下である、［１］～［４］のいずれか１つに記載の洗浄パッド。
［６］
前記粒子が、酸化セリウム粒子、炭酸カルシウム粒子、又はこれらの混合物である、［１］～［５］のいずれか１つに記載の洗浄パッド。
［７］
前記基板が、ガラス板、ガラス層上に導電層を備えるガラス電極、又はこれらの表面にレジスト膜を備えるレジスト膜付き基板である、［１］～［６］のいずれか１つに記載の洗浄パッド。
［８］
前記洗浄が、研磨砥粒を用いずに、前記洗浄パッドを前記基板の表面に接触させたまま前記洗浄パッドと前記基板とを相対的に移動させる工程を含む、［１］～［７］のいずれか１つに記載の洗浄パッド。
［９］
前記洗浄が、実質的に水からなる洗浄液の存在下で実施される、［１］～［７］のいずれか１つに記載の洗浄パッド。
［１０］
研磨砥粒を含まない洗浄液の存在下、［１］～［７］のいずれか１つに記載の洗浄パッドを用いて、ガラス層を含む基板の表面を洗浄する工程を含む、基板の洗浄方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、ガラス層を含む基板の表面を洗浄するための新規の洗浄パッド、及び洗浄方法を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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