TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2024119654
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-03
出願番号2023026709
出願日2023-02-22
発明の名称アライメント方法及び加工装置
出願人株式会社ディスコ
代理人弁理士法人酒井国際特許事務所
主分類H01L 21/301 20060101AFI20240827BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】アライメントエラーを抑制することができること。
【解決手段】アライメント方法は、キーパターンをターゲットパターンとして登録しキーパターンから加工予定ラインまでの距離を登録しておく事前登録ステップと、被加工物の一方側を撮像した一方側撮像画像とターゲットパターンとをパターンマッチングさせてキーパターンを検出し、被加工物の他方側を撮像した他方側撮像画像とターゲットパターンとをパターンマッチングさせてキーパターンを検出するキーパターン検出ステップ1020と、キーパターン検出ステップ1020で検出した一方側と他方側のキーパターンの位置をもとに加工予定ラインと切削ユニットとを整列させる整列ステップとを備え、キーパターン検出ステップ1020では、キーパターンが検出されない場合に照明ユニットの光量を変えて撮像し、撮像画像とターゲットパターンをパターンマッチングさせる。
【選択図】図12
特許請求の範囲【請求項1】
複数のキーパターンが形成されるとともに加工予定ラインが設定された被加工物を保持する保持ユニットと該保持ユニットで保持された被加工物を加工する加工ユニットと該保持ユニットで保持された被加工物を撮像する撮像カメラと該撮像カメラで被加工物を撮像する際に被加工物に光を照射する光照射ユニットとを備えた加工装置において、該保持ユニットで保持された被加工物の該加工予定ラインを該加工送り方向に整列させるアライメント方法であって、
被加工物の加工前にキーパターンをターゲットパターンとして該加工装置に登録するとともに該キーパターンから加工予定ラインまでの距離を該加工装置に登録しておく事前登録ステップと、
該保持ユニットで保持された加工すべき被加工物の一方側を撮像した一方側撮像画像と該ターゲットパターンとをパターンマッチングさせて該キーパターンを検出するとともに、被加工物の他方側を撮像した他方側撮像画像と該ターゲットパターンとをパターンマッチングさせて該キーパターンを検出するキーパターン検出ステップと、
該キーパターン検出ステップで検出した該一方側と該他方側のキーパターンの位置をもとに該加工予定ラインと該加工ユニットとを整列させる整列ステップと、を備え、
該キーパターン検出ステップでは、該キーパターンが検出されない場合に該光照射ユニットの光量を変えて撮像し、撮像画像と該ターゲットパターンをパターンマッチングさせる、アライメント方法。
続きを表示(約 1,300 文字)【請求項2】
該事前登録ステップでは、第1のキーパターンを第1のターゲットパターンとして登録するとともに、該第1のキーパターンと異なる第2のキーパターンを第2のターゲットパターンとして登録し、該第1のキーパターンから加工予定ラインまでの距離と、該第2のキーパターンから加工予定ラインまでの距離と、をそれぞれ登録し、
該キーパターン検出ステップでは、撮像画像と該第1のターゲットパターンをパターンマッチングさせ、該第1のキーパターンが検出されない場合に撮像画像と該第2のターゲットパターンをパターンマッチングさせる、請求項1に記載のアライメント方法。
【請求項3】
加工装置であって、
複数のキーパターンが形成されるとともに加工予定ラインが設定された被加工物を保持する保持ユニットと、
該保持ユニットで保持された被加工物を加工する加工ユニットと、
該保持ユニットで保持された被加工物を撮像する撮像カメラと、
該撮像カメラで被加工物を撮像する際に被加工物に光を照射する光照射ユニットと、
該保持ユニットを該加工ユニットに対して相対移動させる移動ユニットと、
少なくとも該保持ユニットと該撮像カメラと該光照射ユニットとを制御するコントローラと、を備え、
該コントローラは、
キーパターンがターゲットパターンとして登録されるキーパターン登録部と、
該保持ユニットで保持された加工すべき被加工物の一方側を撮像した一方側撮像画像と該ターゲットパターンをパターンマッチングさせるとともに、被加工物の他方側を撮像した他方側撮像画像と該ターゲットパターンをパターンマッチングさせて該一方側と該他方側とでそれぞれキーパターンを検出するキーパターン検出部と、
該キーパターン検出部で検出した該一方側と該他方側のキーパターンの位置をもとに該加工予定ラインと該加工ユニットとを整列させる整列部と、
該キーパターンが検出されない場合に該光照射ユニットの光量を変えて撮像する光量変更部と、を有し、
該キーパターン検出部は、形成された光量違いの撮像画像と該ターゲットパターンをパターンマッチングさせる、加工装置。
【請求項4】
該キーパターン登録部は、第1のキーパターンが第1のターゲットパターンとして登録されるとともに該第1のキーパターンから加工予定ラインまでの距離が登録される第1キーパターン登録部と、
該第1のキーパターンと異なる第2のキーパターンが第2のターゲットパターンとして登録されるとともに該第2のキーパターンから加工予定ラインまでの距離が登録される第2キーパターン登録部と、を含み、
該キーパターン検出部は、該一方側撮像画像と該第1のターゲットパターンをパターンマッチングさせて該第1のキーパターンを検出するとともに、該他方側撮像画像と該第1のターゲットパターンをパターンマッチングさせて該第1のキーパターンを検出し、該第1のキーパターンが検出されない場合に撮像画像と該第2のターゲットパターンをパターンマッチングさせる、請求項3に記載の加工装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は、アライメント方法及び加工装置に関する。
続きを表示(約 2,500 文字)【背景技術】
【0002】
切削装置やレーザ加工装置等の加工装置ではパターンマッチングを利用したアライメントを行い、被加工物の加工予定ラインと加工ユニットとを整列させている。加工装置が自動でアライメントをして被加工物を自動的に加工する所謂フルオートメーションが広く利用されている(例えば、特許文献1及び特許文献2参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2021-068777号公報
特開平7-106405号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
しかし、特許文献1及び特許文献2に記載された加工装置は、被加工物の個体毎に表面状態が異なると、アライメント実施時にアライメントを遂行できないエラー(以下、アライメントエラーと記す)が多発する。アライメントエラーが発生すると作業者が手作業で被加工物の加工予定ラインと加工ユニットを整列させて加工を開始せねばならず、改善が切望されている。
【0005】
本発明の目的は、アライメントエラーを抑制することができるアライメント方法及び加工装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0006】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のアライメント方法は、複数のキーパターンが形成されるとともに加工予定ラインが設定された被加工物を保持する保持ユニットと該保持ユニットで保持された被加工物を加工する加工ユニットと該保持ユニットで保持された被加工物を撮像する撮像カメラと該撮像カメラで被加工物を撮像する際に被加工物に光を照射する光照射ユニットとを備えた加工装置において、該保持ユニットで保持された被加工物の該加工予定ラインを該加工送り方向に整列させるアライメント方法であって、被加工物の加工前にキーパターンをターゲットパターンとして該加工装置に登録するとともに該キーパターンから加工予定ラインまでの距離を該加工装置に登録しておく事前登録ステップと、該保持ユニットで保持された加工すべき被加工物の一方側を撮像した一方側撮像画像と該ターゲットパターンとをパターンマッチングさせて該キーパターンを検出するとともに、被加工物の他方側を撮像した他方側撮像画像と該ターゲットパターンとをパターンマッチングさせて該キーパターンを検出するキーパターン検出ステップと、該キーパターン検出ステップで検出した該一方側と該他方側のキーパターンの位置をもとに該加工予定ラインと該加工ユニットとを整列させる整列ステップと、を備え、該キーパターン検出ステップでは、該キーパターンが検出されない場合に該光照射ユニットの光量を変えて撮像し、撮像画像と該ターゲットパターンをパターンマッチングさせることを特徴とする。
【0007】
前記アライメント方法では、該事前登録ステップでは、第1のキーパターンを第1のターゲットパターンとして登録するとともに、該第1のキーパターンと異なる第2のキーパターンを第2のターゲットパターンとして登録し、該第1のキーパターンから加工予定ラインまでの距離と、該第2のキーパターンから加工予定ラインまでの距離と、をそれぞれ登録し、該キーパターン検出ステップでは、撮像画像と該第1のターゲットパターンをパターンマッチングさせ、該第1のキーパターンが検出されない場合に撮像画像と該第2のターゲットパターンをパターンマッチングさせても良い。
【0008】
本発明の加工装置は、加工装置であって、複数のキーパターンが形成されるとともに加工予定ラインが設定された被加工物を保持する保持ユニットと、該保持ユニットで保持された被加工物を加工する加工ユニットと、該保持ユニットで保持された被加工物を撮像する撮像カメラと、該撮像カメラで被加工物を撮像する際に被加工物に光を照射する光照射ユニットと、該保持ユニットを該加工ユニットに対して相対移動させる移動ユニットと、少なくとも該保持ユニットと該撮像カメラと該光照射ユニットとを制御するコントローラと、を備え、該コントローラは、キーパターンがターゲットパターンとして登録されるキーパターン登録部と、該保持ユニットで保持された加工すべき被加工物の一方側を撮像した一方側撮像画像と該ターゲットパターンをパターンマッチングさせるとともに、被加工物の他方側を撮像した他方側撮像画像と該ターゲットパターンをパターンマッチングさせて該一方側と該他方側とでそれぞれキーパターンを検出するキーパターン検出部と、該キーパターン検出部で検出した該一方側と該他方側のキーパターンの位置をもとに該加工予定ラインと該加工ユニットとを整列させる整列部と、該キーパターンが検出されない場合に該光照射ユニットの光量を変えて撮像する光量変更部と、を有し、該キーパターン検出部は、形成された光量違いの撮像画像と該ターゲットパターンをパターンマッチングさせることを特徴とする。
【0009】
前記加工装置では、該キーパターン登録部は、第1のキーパターンが第1のターゲットパターンとして登録されるとともに該第1のキーパターンから加工予定ラインまでの距離が登録される第1キーパターン登録部と、該第1のキーパターンと異なる第2のキーパターンが第2のターゲットパターンとして登録されるとともに該第2のキーパターンから加工予定ラインまでの距離が登録される第2キーパターン登録部と、を含み、該キーパターン検出部は、該一方側撮像画像と該第1のターゲットパターンをパターンマッチングさせて該第1のキーパターンを検出するとともに、該他方側撮像画像と該第1のターゲットパターンをパターンマッチングさせて該第1のキーパターンを検出し、該第1のキーパターンが検出されない場合に撮像画像と該第2のターゲットパターンをパターンマッチングさせても良い。
【発明の効果】
【0010】
本発明は、アライメントエラーを抑制することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
(【0011】以降は省略されています)

特許ウォッチbot のツイートを見る
この特許をJ-PlatPatで参照する

関連特許

東レ株式会社
二次電池
8日前
個人
安全なNAS電池
8日前
ユニチカ株式会社
負極集電材
8日前
サンケン電気株式会社
半導体装置
23日前
エイブリック株式会社
半導体装置
23日前
東京パーツ工業株式会社
コイル装置
1か月前
オリオン機械株式会社
電源装置
1か月前
トヨタ自動車株式会社
二次電池
1か月前
東京応化工業株式会社
基板支持体
18日前
住友電装株式会社
コネクタ
1か月前
株式会社東京精密
シート剥離装置
18日前
TDK株式会社
コイル部品
15日前
光森科技有限公司
光源モジュール
24日前
株式会社ドクター中松創研
V3D半導体
17日前
株式会社CTK
アンテナ取付装置
15日前
ローム株式会社
半導体装置
22日前
株式会社東京精密
シート剥離装置
28日前
株式会社ミクニ
電磁アクチュエータ
15日前
三菱電機株式会社
半導体装置
1か月前
日本航空電子工業株式会社
コネクタ
8日前
富士電機株式会社
電磁接触器
8日前
矢崎総業株式会社
端子
18日前
ミクロエース株式会社
基板処理方法
11日前
マクセル株式会社
扁平形電池
22日前
株式会社半導体エネルギー研究所
二次電池
14日前
AIメカテック株式会社
光照射装置
14日前
株式会社日本触媒
被覆負極活物質の製造方法
14日前
株式会社ディスコ
ウェーハの加工方法
17日前
日亜化学工業株式会社
配線基板
11日前
FDK株式会社
二次電池
8日前
TDK株式会社
電子部品
1か月前
グンゼ株式会社
導電性フィルム
1か月前
TDK株式会社
電子部品
1か月前
ミクロン電気株式会社
セメント抵抗器
25日前
グンゼ株式会社
導電性フィルム
1か月前
旭化成株式会社
紫外線発光装置
1か月前
続きを見る