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公開番号2024121721
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-06
出願番号2023028973
出願日2023-02-27
発明の名称光照射装置
出願人AIメカテック株式会社
代理人個人
主分類H01L 21/027 20060101AFI20240830BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】レジストパターンの形成を効率よく行う。
【解決手段】光照射装置1は、内部に光源52を備え、基板100上に形成されたレジスト膜の上方を移動しつつ光源52からの光をレジスト膜に照射する光照射ユニット5と、光源52からの光の波長を選択するフィルタ200を保持し、フィルタ200を光源52と前記レジスト膜との間に対して進退させるフィルタユニット6と、を備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
内部に光源を備え、基板上に形成されたレジスト膜の上方を移動しつつ前記光源からの光を前記レジスト膜に照射する光照射ユニットと、
前記光源からの光の波長を選択するフィルタを保持し、前記フィルタを前記光源と前記レジスト膜との間に対して進退させるフィルタユニットと、を備える、光照射装置。
続きを表示（約 660 文字）【請求項２】
前記フィルタユニットは、前記光照射ユニットに設けられる、請求項１に記載の光照射装置。
【請求項３】
前記光照射ユニットは、前記光源から基板までの距離を維持しながら移動する、請求項１又は請求項２に記載の光照射装置。
【請求項４】
前記光照射ユニットの移動方向と、前記フィルタユニットの進退方向とが同一である、請求項１又は請求項２に記載の光照射装置。
【請求項５】
前記フィルタユニットは、前記フィルタを装着可能な支持フレームを備え、
前記フィルタは、前記支持フレームに対して交換可能である、請求項１又は請求項２に記載の光照射装置。
【請求項６】
前記支持フレームは、複数枚の前記フィルタを装着可能である、請求項５に記載の光照射装置。
【請求項７】
前記フィルタユニットが複数設けられている、請求項１又は請求項２に記載の光照射装置。
【請求項８】
複数の前記フィルタユニットには、異なる前記フィルタが装着されている、請求項７に記載の光照射装置。
【請求項９】
前記フィルタは、波長３３０ｎｍ以上の領域を減衰させる、請求項１又は請求項２に記載の光照射装置。
【請求項１０】
前記光源は、管状のものが用いられ、
前記光照射ユニットは、前記光源の長手方向と直交する方向に移動する、請求項１又は請求項２に記載の光照射装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、光照射装置、及び光照射方法に関する。
続きを表示（約 2,000 文字）【背景技術】
【０００２】
レジストパターン形成後の製造工程におけるレジストの耐熱性等の性能向上のために、基板に形成したレジスト膜を露光した後、現像により形成したプレパターンを硬化させる工程で、紫外線及び可視光線のうち波長３３０ｎｍ未満の領域を減衰させた光でプレパターンを照射する第１照射工程と、第１照射工程の後、紫外線及び可視光線の両方を含む光でプレパターンを照射する第２照射工程と、を含む方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２２－９３１１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、特許文献１に開示されたような方法では、紫外線及び可視光線のうち波長３３０ｎｍ未満の領域を減衰させる光学フィルタが、光源に対して着脱可能とされている。このため、第１照射工程と第２照射工程との間で、光学フィルタを光源に対して着脱する必要がある。特に、製品を量産するため、一連の工程を繰り返し実行する場合、光学フィルタを光源に対して複数回着脱しなければならず、歩留まりの低下に繋がる。
【０００５】
本発明は、レジストパターンの形成を効率よく行うことが可能な光照射装置、及び光照射方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１態様では、内部に光源を備え、基板上に形成されたレジスト膜の上方を移動しつつ前記光源からの光を前記レジスト膜に照射する光照射ユニットと、前記光源からの光の波長を選択するフィルタを保持し、前記フィルタを前記光源と前記レジスト膜との間に対して進退させるフィルタユニットと、を備える、光照射装置が提供される。
【０００７】
本発明の第２態様では、基板上に形成されたレジスト膜に対して露光及び現像することでパターンを形成することと、前記パターンに対して光照射ユニットの光源を移動させつつ前記光源から光を照射して前記パターンを硬化させることと、を含み、前記光源から光を照射する際、前記光源からの光と、前記光源からの光のうち選択された波長の光とのいずれかを照射するために、前記光源と前記パターンとの間に対してフィルタを進退させることを含む、光照射方法が提供される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の態様によれば、フィルタを光源とレジスト膜との間に対して進退させることにより、光源から光を照射する際、光源からの光と、光源からの光のうち選択された波長の光とを、容易に選択することができる。従って、レジストパターンの形成を効率よく行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
実施形態に係る光照射装置の一例を示す立面図である。
光照射装置の一例を示す平面図である。
光照射装置の一例を示す側面図である。
フィルタユニットを示す平面図である。
フィルタユニットをＹ方向から見た断面図である。
複数枚のフィルタを保持するフィルタユニットを示す断面図である。
フィルタユニットを進退させるフィルタ駆動部の構成を示す図であり、フィルタユニットを光源と基板との間に配置した状態を示す平面図である。
フィルタ駆動部により、フィルタユニットを光源と基板との間の位置から退避させた状態を示す平面図である。
フィルタ駆動部により、フィルタユニットを光源と基板との間に位置させた状態を示す立断面図である。
フィルタ駆動部により、フィルタユニットを光源と基板との間の位置から退避させた状態を示す立断面図である。
実施形態に係る光照射方法の流れを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。ただし、本発明はこの実施形態に限定されない。また、図面においては実施形態の各構成をわかりやすくするために、一部を大きく又は強調して、あるいは一部を簡略化して表しており、実際の構造又は形状、縮尺等が異なっている場合がある。以下の各図において、ＸＹＺ直交座標系を用いて図中の方向を説明する。このＸＹＺ直交座標系においては、水平面に平行な平面をＸＹ平面とする。このＸＹ平面において基板１００に対する光照射ユニット５のスキャン方向に平行な方向をＸ方向とし、Ｘ方向に直交する方向をＹ方向とする。また、ＸＹ平面に垂直な方向をＺ方向（上下方向）と表記する。Ｘ方向、Ｙ方向及びＺ方向のそれぞれは、図中の矢印の指す方向が＋方向であり、矢印の指す方向とは反対の方向が－方向であるとして説明する。
（【００１１】以降は省略されています）

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