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公開番号2024073372
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-05-29
出願番号2023188703
出願日2023-11-02
発明の名称研磨液組成物
出願人花王株式会社
代理人弁理士法人池内アンドパートナーズ
主分類C09K 3/14 20060101AFI20240522BHJP(染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用)
要約【課題】本開示は、一態様において、研磨後の基板表面のシリカ残り及びスクラッチを低減できる研磨液組成物を提供する。
【解決手段】一態様において、シリカ粒子、及び水系媒体を含有し、前記シリカ粒子は、乾燥重量基準での強熱減量が2%以下であり、前記シリカ粒子は、遠心沈降法により得られる重量換算での粒度分布において小粒径側からの累積頻度が90%となる粒子径をD90としたとき、D90が65nm以下である、研磨液組成物に関する。
【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項１】
シリカ粒子、及び水系媒体を含有し、
前記シリカ粒子は、乾燥重量基準での強熱減量が２％以下であり、
前記シリカ粒子は、遠心沈降法により得られる重量換算での粒度分布において小粒径側からの累積頻度が９０％となる粒子径をＤ９０としたとき、Ｄ９０が６５ｎｍ以下である、研磨液組成物。
続きを表示（約 830 文字）【請求項２】
窒素含有化合物をさらに含有し、
前記窒素含有化合物は、分子内に１０個以下の窒素原子を有する有機アミン化合物である、請求項１に記載の研磨液組成物。
【請求項３】
前記シリカ粒子は、前記シリカ粒子の乾燥重量基準での強熱減量をＷＬとしたとき、下記式（Ｉ）で表される値が５以下である、請求項１又は２に記載の研磨液組成物。
｛（ＷＬ）
3
×Ｄ９０｝/１００（Ｉ）
【請求項４】
前記シリカ粒子は、前記粒度分布において小粒径側からの累積頻度が１０％となる粒子径をＤ１０としたとき、Ｄ１０が５ｎｍ以上３５ｎｍ以下である、請求項１から３のいずれかに記載の研磨液組成物。
【請求項５】
前記シリカ粒子は、前記粒度分布において小粒径側からの累積頻度が５０％となる粒子径をＤ５０としたとき、Ｄ５０が１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下である、請求項１から４のいずれかに記載の研磨液組成物。
【請求項６】
前記研磨液組成物は、磁気ディスク基板用研磨液組成物である、請求項１から５のいずれかに記載の研磨液組成物。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨する研磨工程を含む、磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項８】
被研磨基板が、Ｎｉ－Ｐメッキされたアルミニウム合金基板である、請求項７に記載の磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項９】
前記研磨工程が、仕上げ研磨工程である、請求項７又は８に記載の磁気ディスク基板の製造方法。
【請求項１０】
請求項１から６のいずれかに記載の研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨することを含み、前記被研磨基板は、磁気ディスク基板の製造に用いられる基板である、基板の研磨方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、研磨液組成物、磁気ディスク基板の製造方法、及び、基板の研磨方法に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ディスクドライブは小型化・大容量化が進み、高記録密度化が求められている。高記録密度化のためには、単位記録面積を縮小し、弱くなった磁気信号の検出感度を向上させる必要がある。そのため、磁気ヘッドの浮上高さをより低くするための技術開発が進められている。磁気ディスク基板には、磁気ヘッドの低浮上化と記録面積の確保に対応するため、平滑性及び平坦性の向上（表面粗さ、うねり、端面ダレの低減）や表面欠陥低減（残留砥粒、スクラッチ、突起、ピット等の低減）が厳しく要求されている。
【０００３】
このような要求に対して、より平滑で、傷が少ないといった表面品質向上と生産性の向上を両立させる観点から、磁気ディスク基板の製造方法においては、２段階以上の研磨工程を有する多段研磨方式が採用されることが多い。一般に、平滑性という要求を満たすために、コロイダルシリカ粒子を含む研磨剤が使用され、生産性向上の観点から、アルミナ粒子を砥粒として含む研磨液組成物が使用される。しかしながら、アルミナ粒子を砥粒として使用した場合、アルミナ粒子の基板への突き刺さりによって、磁気ディスク基板や、磁気ディスク基板に磁性層が施された磁気ディスクの欠陥を引き起こすことがある。
【０００４】
そこで、例えば、特許文献１及び２には、アルミナ粒子を含まず、シリカ粒子を砥粒として含有する研磨液組成物が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１７－１９９７８号公報
特開２０２１－１７５７７４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
近年の磁気ディスクドライブの高記録密度化にともない高速回転する基板上の数ｎｍに読取用ヘッドが位置するようになった。読取用ヘッドの低位置化に伴うドライブの故障が発生している。
本発明者らが検討した結果、研磨後の基板表面に残留したシリカ粒子（以下、「シリカ残り」ともいう）が、ドライブの故障の一因であることが見いだされた。なかでも、仕上げ研磨後においては、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）では検出できないレベルのシリカ残りであってもドライブの故障の一因であることが見いだされた。
また、磁気ディスクドライブの大容量化に伴い、基板の表面品質に対する要求特性はさらに厳しくなっており、基板表面のスクラッチをいっそう低減できる研磨液組成物の開発が求められている。
本開示において、「シリカ残り」とは、研磨対象基板上に残るシリカ粒子の総称のことで単位面積当たりの粒子の個数で表すことができる。「シリカ残り」は、一又は複数の実施形態において、単に基板に接触して存在しているシリカ粒子、基板と静電的に結合しているシリカ粒子、及び、一部基板に埋め込まれているシリカ粒子が含まれる。
【０００７】
そこで、本開示は、一態様において、研磨後の基板表面のシリカ残り及びスクラッチを低減できる研磨液組成物を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本開示は、一態様において、シリカ粒子、及び水系媒体を含有し、前記シリカ粒子は、乾燥重量基準での強熱減量が２％以下であり、前記シリカ粒子は、遠心沈降法により得られる重量換算での粒度分布において小粒径側からの累積頻度が９０％となる粒子径をＤ９０としたとき、Ｄ９０が６５ｎｍ以下である、研磨液組成物に関する。
【０００９】
本開示は、一態様において、本開示の研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨する研磨工程を含む、磁気ディスク基板の製造方法に関する。
【００１０】
本開示は、一態様において、本開示の研磨液組成物を用いて被研磨基板を研磨することを含み、被研磨基板が、磁気ディスク基板の製造に用いられる基板である、基板の研磨方法に関する。
（【００１１】以降は省略されています）

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