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公開番号2024059661
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-05-01
出願番号2024015548,2022522862
出願日2024-02-05,2020-10-08
発明の名称計測光に関する物体の反射率を計測するための方法およびその方法を実行するための計量システム
出願人カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
代理人個人,個人,個人,個人,個人,個人,個人
主分類G03F 1/84 20120101AFI20240423BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】計測光に関する物体の反射率を計測するための方法およびその方法を実行するための計量システムを提供する。
【解決手段】反射率計測装置(2)は、計測光源(3)と、物体を保持するための物体保持具(12a)と、物体(12)によって反射された計測光(1)を捕捉するための空間分解検出器(16)と、を含む。計測光ビームが計測装置(2)の視野(10)内の物体(12)のセクションに照射される。物体(12)の照射されたセクションから到来した反射された計測光(1)が捕捉される。捕捉されるセクションの表面積は最大で50μm×50μmである。検出器(16)によって計測が実行される。次に、捕捉された計測光(1)の強度に基づいて、物体(12)の少なくとも1つの反射率パラメータが求められる。リソグラフィマスクなどの反射率を十分な精度で計測することができる計測方法およびそれを用いて動作する計量システムである。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
構造化リソグラフィマスクの形態で、または非構造化マスクブランクとして具現化される物体（１２）の、計測光（１）に関する反射率を計測するための方法であって、
前記物体（１２）を用意するステップと、
計測光源（３）を有し、
前記物体（１２）を保持するための物体保持具（１２ａ）を有し、
前記物体保持具（１２ａ）内の前記物体（１２）によって反射された計測光（１）を捕捉するための空間分解検出器（１６）を有する、
反射率計測装置（２）を用意するステップと、
前記計測装置（２）の視野（１０）内の前記物体（１２）のセクションへの計測光ビームの照射のステップと、
前記物体（１２）の前記照射されたセクションから到来した前記反射された計測光（１）を前記検出器（１６）で捕捉するステップであって、前記捕捉されるセクションの表面積は最大で５０μｍ×５０μｍである、捕捉するステップと、
前記捕捉された計測光（１）の強度に基づいて前記物体（１２）の少なくとも１つの反射率パラメータを決定するステップと、
を含む、方法。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記空間分解検出器（１６）による、前記物体（１２）のただ１つの捕捉されるセクションから到来した前記計測光（１）の前記捕捉の結果を比較することによって、前記物体（１２）の前記反射率の局所的な変化を決定することを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記空間分解検出器（１６）による、前記物体（１２）の異なるセクションから到来した前記計測光（１）の前記捕捉の結果を比較することによって、前記計測装置（２）の前記視野（１０）よりも大きい前記物体（１２）の表面セクションにわたる前記反射率の変化を決定することを特徴とする、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記空間分解検出器（１６）による、異なる入射角で前記物体（１２）のただ１つの捕捉されるセクションに照射された前記計測光（１）の前記捕捉の結果を比較することによって、前記反射率の角度変化を決定することを特徴とする、請求項１～３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記反射率の前記角度変化は、異なる入射角での前記捕捉されるセクションへの順次的な照射によって決定されることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記反射率の前記角度変化は、異なる入射角での前記捕捉されるセクションへの同時の照射によって決定されることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記物体（１２）に照射された前記計測光（１）の信号強度を正規化することを特徴とする、請求項１～６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
計測光源（３）を有し、
指定された照明設定で、構造化リソグラフィマスクまたは非構造化マスクブランクとして具現化される計測対象の前記物体（１２）を照明するための照明光学ユニット（４ａ）を有し、
検査対象の前記物体（１２）のセクションで反射された計測光（１）を計測面（１５）に送るための結像光学ユニット（８）を有し、
前記計測面（１５）に配置された空間分解検出デバイス（１６）を有する、
請求項１～７のいずれか１項に記載の方法を実行するための計量システム（２）。
【請求項９】
前記計測光源（３）は、ＥＵＶ計測光源の形態で設計されることを特徴とする、請求項８に記載の計量システム。
【請求項１０】
前記照明光学ユニット（４ａ）の構成部品としてのピンホール絞り（６、２２）を特徴とする、請求項８または９に記載の計量システム。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本特許出願は、ドイツ特許出願第ＤＥ１０２０１９２１５９７２．９号の優先権を主張し、その内容は引用により本明細書に組み込まれている。
続きを表示（約 1,800 文字）【０００２】
本発明は、計測光に関する物体の反射率を計測するための方法に関する。本発明はさらに、この方法を実行するための計量システムに関する。
【背景技術】
【０００３】
物体の反射率を計測するために、反射率に関する決定対象となる物体の拡張された（ｅｘｔｅｎｄｅｄ）セクションを照明する反射率計が知られている。様々な用途向けの種々の設計の反射率計が知られている。ドイツ物理工学研究所（Ｐｈｙｓｉｋａｌｉｓｃｈ－ＴｅｃｈｎｉｓｃｈｅＢｕｎｄｅｓａｎｓｔａｌｔ）（ドイツの計量標準機関：ＮａｔｉｏｎａｌＭｅｔｒｏｌｏｇｙＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＧｅｒｍａｎｙ）によって発行されたＰＴＢニュースエディション０３．１、２００３から、ＥＵＶリソグラフィ用の反射率計が知られている。
【発明の概要】
【０００４】
本発明の目的は、計測光に関する物体の反射率を計測するための方法を開発することによって、特に非常に微細な構造化物体の、たとえばリソグラフィマスクなどの反射率を十分な精度で計測できるようにすることである。
【０００５】
この目的は、本発明によれば、請求項１に記載した特徴を有する計測方法によって達成される。
【０００６】
本発明によれば、反射率パラメータを十分に正確に決定するには、５０μｍ×５０μｍ以下の非常に小さい範囲の物体表面セクションを計測する必要があるということを見出した。このようにして、特に、計測対象の物体の機能にとって決定的に重要であり得る局所的な反射率の変化を正確に決定することができる。
【０００７】
反射率計測装置による反射された計測光の捕捉（キャプチャ）領域は、視野とも呼ばれる。捕捉の視野は５０μｍ×５０μｍより小さくすることができ、たとえば、４０μｍ×４０μｍ、３０μｍ×３０μｍ、２５μｍ×２５μｍ、２０μｍ×２０μｍ、１５μｍ×１５μｍ、または１０μｍ×１０μｍ、あるいはさらに小さくすることができる。視野は通常、１μｍ×１μｍより大きい。物体セクションに照射される（ｉｍｐｉｎｇｅ：当たる）計測光ビームは、それに応じて１μｍ～１００μｍの範囲のより大きい直径を有することができる。視野は通常、計測光ビームの直径内にある。計測光が照射される物体セクションは、視野と一致するか、または視野内にすることができる。
【０００８】
計測光ビームが物体セクションに照射される前に、処理対象となる物体セクションの選択を、その物体の構造の詳細に基づいて行うことができ、たとえば、吸収性セクションも有する物体の反射性セクションへのターゲットを絞った照射、または特定の、場合によっては繰り返しの物体構造のターゲットを絞った選択などである。物体は、構造化リソグラフィマスク、または未構造化マスク（マスクブランク）である。リソグラフィマスクが物体として使用される場合、ペリクルがある場合とない場合とがある。特に、ＥＵＶ投影露光リソグラフィに使用されるリソグラフィマスクを計測することができる。
【０００９】
検出器はフィールド面に配置され得る。この場合、視野は検出面または計測面に結像される（ｉｍａｇｅｄ）。
【００１０】
反射率パラメータは、ただ１つの物体に対して、特に、ただ１つの物体の１つまたは複数の規定のセクションに対して個別に決定することができる。あるいは、異なる物体の、特に、異なるリソグラフィマスクまたはレチクルの反射率パラメータの比較を行うこともできる。この目的で、計測対象の物体を事前に較正された較正物体と比較することができる。決定される反射率パラメータは、たとえば、絶対物体反射率とすることができる。この目的で、較正物体または正規化物体の対応する反射率パラメータとの比較を行うことができる。リソグラフィマスクを計測する場合、マスクのペリクルの透過率を、とりわけ局所的に決定することもできる。ペリクルがある場合およびない場合での物体の対応する反射計測値の比較を、１つまたは複数の物体のペリクルのセクションでとりわけ局所的に行うことができる。物体セクションの反射率へのペリクルの影響を決定することができる。
（【００１１】以降は省略されています）

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