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公開番号2024049032
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-04-09
出願番号2022155258
出願日2022-09-28
発明の名称基板ホルダ及び基板の製造方法
出願人シチズンファインデバイス株式会社,シチズン時計株式会社
代理人
主分類B05C 1/02 20060101AFI20240402BHJP(霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般)
要約【課題】ローラ体を利用した基板への膜形成において、基板のクラック、破断、気泡の混入等の不具合を抑制できる基板ホルダ及び基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】上面11、下面12及び上面11と下面12とを接続する側面13を有し、上面11に基板20を収容する収容部14を備え、収容部14に収容された基板20の表面にローラ体31を接触させ膜を形成するための基板ホルダ10であって、側面13は、上面11または下面12に向かうにしたがって基板ホルダ10の内方に傾斜した傾斜面15を備える。また、基板ホルダ10の傾斜面15をローラ体31の移動方向上に配置して基板20と基板ホルダ10を相対移動させ、基板20の表面に膜を形成する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
上面、下面及び前記上面と前記下面とを接続する側面を有し、前記上面に基板を収容する収容部を備え、当該収容部に収容された基板の表面にローラ体を接触させ膜を形成するための基板ホルダであって、
前記側面は、前記上面または前記下面に向かうにしたがって前記基板ホルダの内方に傾斜した傾斜面を備えることを特徴とする基板ホルダ。
続きを表示（約 940 文字）【請求項２】
前記収容部は底面と側面とを備える凹部形状であることを特徴とする請求項１に記載の基板ホルダ。
【請求項３】
前記基板ホルダは前記基板より小さいヤング率を有する材料により構成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板ホルダ。
【請求項４】
基板の製造方法において、
上面、下面及び前記上面と前記下面とを接続する側面を有し、前記上面に基板を収容する収容部を備えた基板ホルダを用意する工程と、
前記収容部に基板を収容する工程と、
前記収容部に収容された前記基板の表面に膜を形成する工程と、を有し、
前記基板ホルダの前記側面は、前記上面または前記下面に向かうにしたがって前記基板ホルダの内方に傾斜した傾斜面を備え、
前記膜を形成する工程は、前記膜となる材料を含むローラ体と前記基板ホルダとを相対移動させ、前記基板と前記ローラ体とを接触させて前記基板に前記膜となる材料を付着させる工程であり、
前記傾斜面は、前記基板ホルダと前記ローラ体の移動方向上に配置されている
ことを特徴とする基板の製造方法。
【請求項５】
前記ローラ体は前記傾斜面を経由して前記基板と接触することを特徴とする請求項４に記載の基板の製造方法。
【請求項６】
前記ローラ体はロール状のフィルムレジストであり、前記膜は前記フィルムレジストであることを特徴とする請求項４に記載の基板の製造方法。
【請求項７】
前記ローラ体の下方に配置されたローラを備え、前記膜を形成する工程は、前記ローラ体と前記ローラとの間に前記収容部に収容された前記基板ホルダを通過させることで前記基板に前記膜を形成する工程であることを特徴とする請求項４に記載の基板の製造方法。
【請求項８】
前記ローラ体または前記ローラは、前記基板の前記下面と直交する方向に移動可能である、ことを特徴とする請求項７に記載の基板の製造方法。
【請求項９】
前記基板ホルダは前記基板より小さいヤング率を有する材料により構成されていることを特徴とする請求項４に記載の基板の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の表面にレジスト膜等の膜を形成するために利用される基板ホルダ及びこの基板ホルダを用いて基板表面に膜を形成する基板の製造方法に関する。
続きを表示（約 2,300 文字）【背景技術】
【０００２】
従来から、基板の表面にレジスト膜等の膜を形成する方法として、スクリーン印刷法、カーテンコーテイング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法等が利用されている。ロールコーティング法においては、基板と基板に形成される膜材料を表面に含むローラとを相対移動して基板表面にローラ表面を接触させ、ローラ表面の膜材料を基板表面に付着させることで基板表面に膜を形成する（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０００－１３５４６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ロールコーティング法による基板への膜形成では、基板の表面とローラの表面とを確実に密着させるため、ローラから基板に向かって所定の圧力を印加した状態で基板とローラとを相対移動させる。しかしながら、このローラから基板への圧力が大きいと、基板にクラックや破断といった不具合を生じることがある。このクラックや破断は、特に基板とローラとの接触が開始または終了する基板の端部において生じやすい。ここで、ローラから基板への圧力を小さくすることでこのクラックや破断を防止することは可能であるが、ローラから基板への圧力が小さいと基板とローラとの密着が不十分となり、基板表面と基板に付着される膜材料との間への気泡の混入や、形成された膜の厚みが均一でない等の不具合が生じる。
【０００５】
本発明は、上記課題を鑑みてなされたものであり、ローラ体を利用した基板への膜形成において、基板のクラック、破断、気泡の混入等の不具合を抑制できる基板ホルダ及び基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上面、下面及び前記上面と前記下面とを接続する側面を有し、前記上面に基板を収容する収容部を備え、当該収容部に収容された基板の表面にローラ体を接触させ膜を形成するための基板ホルダであって、前記側面は、前記上面または前記下面に向かうにしたがって前記基板ホルダの内方に傾斜した傾斜面を備える基板ホルダとする。
前記収容部は底面と側面とを備える凹部形状としてもよく、前記基板ホルダは前記基板より小さいヤング率を有する材料により構成してもよい。
また、基板の製造方法において、上面、下面及び前記上面と前記下面とを接続する側面を有し、前記上面に基板を収容する収容部を備えた基板ホルダを用意する工程と、前記収容部に基板を収容する工程と、前記収容部に収容された前記基板の表面に膜を形成する工程と、を有し、前記基板ホルダの前記側面は、前記上面または前記下面に向かうにしたがって前記基板ホルダの内方に傾斜した傾斜面を備え、前記膜を形成する工程は、前記膜となる材料を含むローラ体と前記基板ホルダとを相対移動させ、前記基板と前記ローラ体とを接触させて前記基板に前記膜となる材料を付着させる工程であり、前記傾斜面は、前記基板ホルダと前記ローラ体の移動方向上に配置されている基板の製造方法とする。
前記ローラ体は前記傾斜面を経由して前記基板と接触させてもよい。
また、前記ローラ体はロール状のフィルムレジストであり、前記膜は前記フィルムレジストとしてもよい。
また、前記ローラ体の下方に配置されたローラを備え、前記膜を形成する工程は、前記ローラ体と前記ローラとの間に前記収容部に収容された前記基板ホルダを通過させることで前記基板に前記膜を形成する工程としてもよい。
さらにまた、前記ローラ体または前記ローラは、前記基板の前記下面と直交する方向に移動可能としてもよい。
さらにまた、前記基板ホルダは前記基板より小さいヤング率を有する材料により構成してもよい。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の基板ホルダ及び基板の製造方法によれば、ローラ体を利用した基板への膜形成において生じる前述する不具合を抑制することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本発明の一実施例による基板ホルダを示す図である。
本発明の一実施例による基板の製造方法を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に本発明を実施するための形態を、図面を用いて説明する。図面においては各構成をわかりやすくするために実際の形状や実際の構造と各構造における縮尺や数等を異ならせる場合がある。
【００１０】
図１は本発明の一実施例による基板ホルダを示す図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）はＡ－Ａ断面における正面断面図である。基板ホルダ１０は平面視が矩形形状の板状部材であり、例えば、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）やポリエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリテロラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ナイロン等の樹脂材料によって構成することができ、本実施例ではナイロンである。基板ホルダ１０の上面１１には、底面１４ａと側面１４ｂとを備え、開口が矩形形状の凹部からなる収容部１４が形成されている。なお、底面１４ａは上面１１と平行であり、側面１４ｂは上面１１と直交する面である。また、基板ホルダ１０は、上面１１と下面１２とを接続する側面１３の一部に上面１１に向かうにしたがって基板ホルダ１０の内方に傾斜した傾斜面１５を備える。
（【００１１】以降は省略されています）

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