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公開番号2024042987
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-03-29
出願番号2022147948
出願日2022-09-16
発明の名称露光装置、露光方法、及び物品の製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人個人,個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20240322BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】間欠的な露光を行う露光処理のスループットを向上する露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、光源からの光の遮断と通過を切り替えるシャッタと、基板を保持して移動する移動部と、第1露光期間において第1領域を露光して、第1露光期間の後の中断期間においてシャッタが光源からの光を通過させる状態で光源の照度を第1露光期間における光源の照度よりも低くすることにより第1領域の露光を中断して、中断期間の後の第2露光期間においてシャッタが光源からの光を通過させる状態で光源の照度を中断期間における光源の照度よりも高くすることにより第1領域を露光して、第2露光期間の後の移動期間においてシャッタが光源からの光を遮断する状態で第1領域の後に露光される第2領域を露光するために移動部により基板を移動させるように制御する制御部と、を有する。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
基板上の複数の領域を露光する露光装置であって、
光源からの光の遮断と通過を切り替えるシャッタと、
前記基板を保持して移動する移動部と、
第１露光期間において前記複数の領域に含まれる第１領域を露光して、前記第１露光期間の後の中断期間において前記第１領域の露光を中断して、前記中断期間の後の第２露光期間において前記第１領域を露光して、前記第２露光期間の後の移動期間において前記第１領域の後に露光される、前記複数の領域に含まれる第２領域を露光するために前記移動部により前記基板を移動させるように制御する制御部と、を有し、
前記制御部は、前記中断期間において前記シャッタが前記光源からの光を通過させる状態で前記光源の照度が前記第１露光期間における前記光源の照度よりも低くなるように前記光源及び前記シャッタを制御して、
前記第２露光期間において前記シャッタが前記光源からの光を通過させる状態で前記光源の照度が前記中断期間における前記光源の照度よりも高くなるように前記光源及び前記シャッタを制御して、
前記移動期間において前記シャッタが前記光源からの光を遮断する状態で前記基板を移動させるように前記移動部及び前記シャッタを制御する、
ことを特徴とする露光装置。
続きを表示（約 1,800 文字）【請求項２】
前記制御部は、前記移動期間において前記光源の照度を前記第２露光期間における前記光源の照度を維持するように前記光源を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記制御部は、前記中断期間において、前記光源の照度が０になるように前記光源を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記第１露光期間における前記第１領域を露光するための光の照度と前記第２露光期間における前記第１領域を露光するための光の照度とを異ならせるように前記光源を制御することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
基板上の複数の領域を露光する露光装置であって、
光源からの第１光の遮断と通過を切り替える第１シャッタと、
前記第１シャッタを通過した第２光の遮断と通過を切り替える第２シャッタと、
前記基板を保持して移動する移動部と、
第１露光期間において前記複数の領域に含まれる第１領域を露光して、前記第１露光期間の後の中断期間において前記第１領域の露光を中断して、前記中断期間の後の第２露光期間において前記第１領域を露光して、前記第２露光期間の後の移動期間において前記第１領域の後に露光される、前記複数の領域に含まれる第２領域を露光するために前記移動部により前記基板を移動させるように制御する制御部と、を有し
前記制御部は、
前記中断期間において前記第２シャッタが前記第２光を通過させる状態で前記第１シャッタが前記第１光を遮断することにより前記第１領域の露光を中断するように前記第１シャッタと前記第２シャッタを制御し、
前記第２露光期間において前記第２シャッタが前記第２光を通過させる状態で前記第１シャッタが前記第１光を通過させることにより前記第１領域を露光するように前記第１シャッタと前記第２シャッタを制御し、
前記移動期間において、前記第２シャッタが前記第２光を遮断する状態で前記基板を移動させるように前記第２シャッタと前記移動部を制御する、
ことを特徴とする露光装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記移動期間において前記第１シャッタが前記第１光を通過させるように前記第１シャッタを制御することを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記第１シャッタは前記第１光の遮断と通過を切り替えるための第１遮光部材を有し、前記第２シャッタは前記第２光の遮断と通過を切り替えるための第２遮光部材を有し、前記制御部は、前記中断期間において前記第１シャッタが前記第１遮光部材を移動させる速度が、前記第２シャッタが前記第２遮光部材を移動させる速度より大きくなるように前記第１シャッタと前記第２シャッタを制御することを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
【請求項８】
前記制御部は、前記第１露光期間の長さと前記第２露光期間の長さとを異ならせるように制御することを特徴とする請求項１又は５に記載の露光装置。
【請求項９】
前記制御部は、前記第１露光期間における前記第１領域を露光する露光量と前記第２露光期間における前記第１領域を露光する露光量とを異ならせるように制御することを特徴とする請求項１又は５に記載の露光装置。
【請求項１０】
基板上の複数の領域を露光する露光方法であって、
前記複数の領域に含まれる第１領域を露光する第１露光工程と、
前記第１露光工程の後に、前記第１領域の露光を中断する中断工程と、
前記中断工程の後に、前記第１領域を露光する第２露光工程と、
前記第１領域の後に露光される、前記複数の領域に含まれる第２領域を露光するために前記基板を移動する移動工程と、を有し、
前記中断工程において、光源からの光の遮断と通過を切り替えるシャッタが前記光源からの光を遮断する状態で前記光源の照度を前記第１露光工程における前記光源の照度よりも低くして、
前記第２露光工程において前記シャッタが前記光源からの光を通過させる状態で前記光源の照度を前記中断工程における前記光源の照度よりも高くして、
前記移動工程において前記シャッタが前記光源からの光を遮断する状態で前記基板を移動する、
ことを特徴とする露光方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、露光方法、及び物品の製造方法に関する。
続きを表示（約 2,000 文字）【背景技術】
【０００２】
デバイス（半導体デバイス、磁気記憶媒体、液晶表示素子等）、カラーフィルタ、又はハードディスク等の製造において、基板（ガラスプレート、ウエハなど）を露光する露光装置が使用される。露光装置は、例えば、パターンが形成された原版（レチクル、マスク）に光を照射して、投影光学系を介して原版からの光を基板に照射することにより、基板を露光する。
【０００３】
特許文献１には、露光によるレンズの温度上昇により露光装置の光学系に生じる影響を防止するために、基板上の露光されるべき領域（露光領域）に対して露光を間欠的に行う露光方法が開示されている。ここで、露光領域に対して露光を間欠的に行うとは、露光領域に対する露光と中断を繰り返し行うことである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特許第２８４４６００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
基板上の露光領域に対して露光を間欠的に行う場合、露光を中断する期間があるため、露光処理の期間が長くなり、スループットの向上が抑制される可能性がある。そのため、間欠的な露光を行う露光処理において露光を中断する期間を短縮してスループットを向上することが望まれている。
【０００６】
そこで、本発明は、間欠的な露光を行う露光処理のスループットを向上する露光装置、露光方法、及び物品の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決する本発明の一側面としての露光装置は、基板上の複数の領域を露光する露光装置であって、光源からの光の遮断と通過を切り替えるシャッタと、前記基板を保持して移動する移動部と、第１露光期間において前記複数の領域に含まれる第１領域を露光して、前記第１露光期間の後の中断期間において前記第１領域の露光を中断して、前記中断期間の後の第２露光期間において前記第１領域を露光して、前記第２露光期間の後の移動期間において前記第１領域の後に露光される、前記複数の領域に含まれる第２領域を露光するために前記移動部により前記基板を移動させるように制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記中断期間において前記シャッタが前記光源からの光を通過させる状態で前記光源の照度が前記第１露光期間における前記光源の照度よりも低くなるように前記光源及び前記シャッタを制御して、前記第２露光期間において前記シャッタが前記光源からの光を通過させる状態で前記光源の照度が前記中断期間における前記光源の照度よりも高くなるように前記光源及び前記シャッタを制御して、前記移動期間において前記シャッタが前記光源からの光を遮断する状態で前記基板を移動させるように前記移動部及び前記シャッタを制御する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、間欠的な露光を行う露光処理のスループットを向上する露光装置、露光方法、及び物品の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
第１実施形態に係る露光装置を示す図である。
第１実施形態に係る遮光部材と光束の位置関係を示す図である。
基板上の露光領域を示す図である。
比較例１に係る露光処理を示す図である。
比較例２に係る露光処理を示す図である。
比較例２に係る他の露光処理を示す図である。
第１実施形態に係る露光処理を示す図である。
第１実施形態に係る他の露光処理を示す図である。
第２実施形態に係る露光装置を示す図である。
第２実施形態に係る遮光部材と光束の位置関係を示す図である。
第２実施形態に係る第１の露光処理を示す図である。
第２実施形態に係る第２の露光処理を示す図である。
第２実施形態に係る第２遮光部材を示す図である。
第２実施形態に係る第３の露光処理を示す図である。
露光装置を使用したデバイスの製造を説明するためのフローチャートである。
図１５に示すフローチャートのステップ４のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して実施形態を詳しく説明する。なお、以下の実施形態は特許請求の範囲に係る発明を限定するものではない。実施形態には複数の特徴が記載されているが、これらの複数の特徴の全てが発明に必須のものとは限らず、また、複数の特徴は任意に組み合わせられてもよい。さらに、添付図面においては、同一若しくは同様の構成に同一の参照番号を付し、重複した説明は省略する。
（【００１１】以降は省略されています）

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