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公開番号
2025167992
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2025-11-07
出願番号
2024073066
出願日
2024-04-26
発明の名称
静電チャック及びその製造方法、基板固定装置
出願人
新光電気工業株式会社
代理人
個人
,
個人
主分類
H01L
21/683 20060101AFI20251030BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】簡易な構造であり、かつ絶縁性の高い吸着対象物に対する吸着性能を向上させた静電チャックを提供する。
【解決手段】本静電チャックは、吸着対象物が載置される載置面を有する基体と、前記基体に内蔵された静電電極と、を有し、前記基体の前記載置面とは反対側の面は平坦面であり、前記載置面は前記平坦面に対して凸形状又は凹形状である。
【選択図】図1
特許請求の範囲
【請求項1】
吸着対象物が載置される載置面を有する基体と、
前記基体に内蔵された静電電極と、を有し、
前記基体の前記載置面とは反対側の面は平坦面であり、
前記載置面は前記平坦面に対して凸形状又は凹形状である、静電チャック。
続きを表示(約 1,100 文字)
【請求項2】
前記載置面は前記平坦面に対して凸形状であり、
前記載置面の前記平坦面からの高さは、中央が最も高く、外周に行くほど低くなる、請求項1に記載の静電チャック。
【請求項3】
前記載置面は前記平坦面に対して凹形状であり、
前記載置面の前記平坦面からの高さは、中央が最も低く、外周に行くほど高くなる、請求項1に記載の静電チャック。
【請求項4】
前記載置面は、平面視で、中央に位置する円形領域と、前記円形領域の外周に位置する複数の環状領域と、を備え、
平面視で、各々の前記環状領域の外縁は、前記円形領域の中心に対して同心円状に配置され、
前記円形領域及び各々の前記環状領域は、断面視で階段状である、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の静電チャック。
【請求項5】
平面視で、前記円形領域の半径は、各々の前記環状領域の幅よりも広い、請求項4に記載の静電チャック。
【請求項6】
複数の前記環状領域は、幅の異なる前記環状領域を含み、
幅の広い前記環状領域は、幅の狭い前記環状領域よりも前記円形領域に近い位置に配置されている、請求項5に記載の静電チャック。
【請求項7】
ベースプレートと、
前記ベースプレート上に設けられた請求項1乃至3のいずれか一項に記載の静電チャックと、を有する、基板固定装置。
【請求項8】
ベースプレート上に、基体の上面及び下面が平坦面である静電チャックを配置する工程と、
前記上面の全体を被覆するように、平面視で同心円状に形成された複数の切れ込みを有するマスクを配置する工程と、
前記マスクの、前記切れ込みにより区画された最内周又は最外周の領域を剥がす工程と、
前記マスクを介して前記上面にブラスト加工を施す工程と、
前記剥がす工程と前記ブラスト加工を施す工程を繰り返して前記上面を加工し、吸着対象物が載置される載置面を形成する工程と、を有し、
前記載置面は、平面視で、中央に位置する円形領域と、前記円形領域の外側に位置する複数の環状領域と、を備え、各々の前記環状領域の外縁が、前記円形領域の中心に対して同心円状に配置され、前記円形領域及び各々の前記環状領域が断面視で階段状となる、静電チャックの製造方法。
【請求項9】
平面視で、前記円形領域の半径は、各々の前記環状領域の幅よりも広くなる、請求項8に記載の静電チャックの製造方法。
【請求項10】
複数の前記環状領域は、幅の異なる前記環状領域を含み、
幅の広い前記環状領域は、幅の狭い前記環状領域よりも前記円形領域に近い位置に配置される、請求項9に記載の静電チャックの製造方法。
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、静電チャック及びその製造方法、基板固定装置に関する。
続きを表示(約 1,500 文字)
【背景技術】
【0002】
従来、ICやLSI等の半導体装置を製造する際に使用される成膜装置(例えば、CVD装置やPVD装置等)やプラズマエッチング装置は、基板を真空の処理室内に精度良く保持するためのステージを有する。このようなステージとして、例えば、ベースプレートに搭載された静電チャックにより、吸着対象物である基板を吸着保持する基板固定装置が提案されている。このようなステージでは、どのような基板でも静電チャックに安定的に吸着することが求められる。
【0003】
静電チャックの一例としては、基板を静電吸着するための静電チャック本体と、静電チャック本体が載置される載置面を含む支持部材と、静電チャック本体の第1の部分に対して、載置面に垂直な方向への変位を拘束するための拘束手段と、静電チャック本体の第2の部分を載置面に対して載置面に垂直な方向に変位させるための駆動手段と、を備えた静電チャックが挙げられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2020-205349号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
本発明は、簡易な構造であり、かつ絶縁性の高い吸着対象物に対する吸着性能を向上させた静電チャックを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本静電チャックは、吸着対象物が載置される載置面を有する基体と、前記基体に内蔵された静電電極と、を有し、前記基体の前記載置面とは反対側の面は平坦面であり、前記載置面は前記平坦面に対して凸形状又は凹形状である。
【発明の効果】
【0007】
開示の技術によれば、簡易な構造であり、かつ絶縁性の高い吸着対象物に対する吸着性能を向上させた静電チャックを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
第1実施形態に係る基板固定装置を簡略化して例示する図である。
第1実施形態に係る基板固定装置の部分拡大断面図である。
第1実施形態に係る基板固定装置がサファイア基板を吸着保持した状態を簡略化して例示する断面図である。
比較例に係る基板固定装置がサファイア基板を吸着保持した状態を簡略化して例示する断面図である。
基板固定装置1Xの吸着特性を例示する図である。
基板固定装置1の吸着特性を例示する図である。
第1実施形態に係る基板固定装置の製造工程を例示する図(その1)である。
第1実施形態に係る基板固定装置の製造工程を例示する図(その2)である。
第1実施形態の変形例1に係る基板固定装置を簡略化して例示する図である。
第1実施形態の変形例1に係る基板固定装置の部分拡大断面図である。
第1実施形態の変形例1に係る基板固定装置がサファイア基板を吸着保持した状態を簡略化して例示する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0009】
以下、図面を参照して発明を実施するための形態について説明する。なお、各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。
【0010】
〈第1実施形態〉
[基板固定装置の構造]
図1は、第1実施形態に係る基板固定装置を簡略化して例示する図であり、図1(a)は平面図、図1(b)は図1(a)のA-A線に沿う断面図である。
(【0011】以降は省略されています)
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