特許ウォッチ

公開番号2025153356
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-10
出願番号2024055799
出願日2024-03-29
発明の名称フィルム及び光学モジュール、並びに成形体の製造方法
出願人日東電工株式会社
代理人個人,個人
主分類G02B 5/22 20060101AFI20251002BHJP(光学)
要約【課題】反りを抑制したフィルムを提供すること。
【解決手段】基材上にエラストマー層を有し、前記エラストマー層の少なくとも一方向の、下記式1より算出される応力緩和率が70%以上であるフィルムである。
[式1]応力緩和率(%)=(A-B)/A×100
エラストマー層の少なくとも一方向を長さ方向とし、長さ10mm×幅30mmに切り出して短冊状の試験片を得る。この短冊状の試験片を、引張試験機を用いて温度25℃、相対湿度45%の環境下にて引張速度200mm/分で長さ方向に引っ張り、伸び率50%まで延伸させて停止する。エラストマー層の応力値は、引っ張り開始時から、伸張停止から30秒間後までの間、連続的に測定する。その測定時間内で最も高い応力を示した応力値を「A」(N)とし、伸張停止から30秒間後の応力値を「B」(N)として、式1に基づき前記エラストマー層の応力緩和率(%)を算出する。
【選択図】図5A
特許請求の範囲【請求項１】
基材上にエラストマー層を有し、
前記エラストマー層の少なくとも一方向の、下記式１より算出される応力緩和率が７０％以上であることを特徴とするフィルム。
［応力緩和率の測定方法］
前記エラストマー層の少なくとも一方向を長さ方向とし、長さ１０ｍｍ×幅３０ｍｍに切り出して短冊状の試験片を得る。この短冊状の試験片を、引張試験機を用いて温度２５℃、相対湿度４５％の環境下にて引張速度２００ｍｍ／分で長さ方向に引っ張り、伸び率５０％まで延伸させて停止する。前記エラストマー層の応力値は、引っ張り開始時から、伸張停止から３０秒間後までの間、連続的に測定する。そして、その測定時間内で最も高い応力を示した応力値を「Ａ」（Ｎ）とし、伸張停止から３０秒間後の応力値を「Ｂ」（Ｎ）として、下記式１に基づき前記エラストマー層の応力緩和率（％）を算出する。［式１］
応力緩和率（％）＝（Ａ－Ｂ）／Ａ×１００
続きを表示（約 600 文字）【請求項２】
前記基材と前記エラストマー層との間に更に粘着層を有する、請求項１に記載のフィルム。
【請求項３】
光学フィルタである、請求項１に記載のフィルム。
【請求項４】
前記エラストマー層の近赤外線に対する直線透過率が４５％以上である、請求項１に記載のフィルム。
【請求項５】
前記エラストマー層の分光測色計を用いてＳＣＥ方式で測定したＬ
＊
の値が６０以上である、請求項１に記載のフィルム。
【請求項６】
前記エラストマー層が、マトリクスと、前記マトリクス中に分散された微粒子とを含有する、請求項１に記載のフィルム。
【請求項７】
前記微粒子は、少なくともコロイドアモルファス集合体を構成する、請求項６に記載のフィルム。
【請求項８】
近赤外線受光部を備えたデバイスと、
前記デバイスの前記近赤外線受光部の前面に配置された、請求項１に記載のフィルムと、
を有することを特徴とする光学モジュール。
【請求項９】
前記デバイスは、センシングデバイス、通信デバイス、太陽電池、ヒーター、又は給電デバイスである、請求項８に記載の光学モジュール。
【請求項１０】
請求項１に記載のフィルムを所定の形状の加工することを特徴とする成形体の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルム及び光学モジュール、並びに成形体の製造方法に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
近赤外線を利用した、センサ技術又は通信技術が開発又は実用化されている。近赤外線を受光する素子は、可視光にも感度を有するため、近赤外線だけを選択的に透過させる近赤外線透過フィルタが用いられている。
【０００３】
従来の近赤外線透過フィルタは、可視光を吸収するために黒色を呈するものが主流であった。そのため、従来の近赤外線透過フィルタは、意匠性が低いという問題がある。そこで、例えば、特許文献１には、赤外線の直線透過率の高い赤外線透過フィルタを実現することが可能で、概ね白色を呈する光学フィルタが開示されている。
【０００４】
一方、近赤外線透過フィルタは、反りの小さい均一なフィルムとすることが望まれている。例えば、半導体ウエハの反りを抑制するための表面保護用シートとして、無機導電性フィラーと硬化性樹脂の硬化物とを含む帯電防止コート層及び硬化性樹脂の硬化物を含む支持フィルムからなる基材と、粘着剤層とを有し、１０％伸張時の１分経過後における基材の応力緩和率が６０％以上であり、基材のヤング率が１００～２０００ＭＰａである表面保護用シートが提案されている（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０２２－６９６７８号公報
特許第６５５９１５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
フィルムを積層構造とした場合、反りが生じる問題がある。一方、フィルムの用途、特に成形加工して用いる用途において、反りの軽減が求められている。
【０００７】
特許文献１に記載の光学フィルタは、曲げると折れてしまい、成形加工できないという問題がある。
【０００８】
特許文献２に記載の表面保護用シートは、半導体ウエハの剥離帯電による静電気を防止し、表面保護用シートを剥離後のウエハの反りを抑制するものであり、表面保護用シート自体の反りを抑制するものではなく、成形加工の用途は開示されていない。
【０００９】
本発明の実施形態は、従来における前記諸問題を解決し、反りを抑制したフィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の実施形態のフィルムとしては、基材上にエラストマー層を有し、前記エラストマー層の少なくとも一方向の、下記式１より算出される応力緩和率が７０％以上である。
［応力緩和率の測定方法］
前記エラストマー層の少なくとも一方向を長さ方向とし、長さ１０ｍｍ×幅３０ｍｍに切り出して短冊状の試験片を得る。この短冊状の試験片を、引張試験機を用いて温度２５℃、相対湿度４５％の環境下にて引張速度２００ｍｍ／分で長さ方向に引っ張り、伸び率５０％まで延伸させて停止する。前記エラストマー層の応力値は、引っ張り開始時から、伸張停止から３０秒間後までの間、連続的に測定する。そして、その測定時間内で最も高い応力を示した応力値を「Ａ」（Ｎ）とし、伸張停止から３０秒間後の応力値を「Ｂ」（Ｎ）として、下記式１に基づき前記エラストマー層の応力緩和率（％）を算出する。
［式１］
応力緩和率（％）＝（Ａ－Ｂ）／Ａ×１００
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許