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公開番号2025150959
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-10-09
出願番号2024052135
出願日2024-03-27
発明の名称プラズマ処理装置
出願人日新電機株式会社
代理人弁理士法人 HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
主分類H05H 1/46 20060101AFI20251002BHJP(他に分類されない電気技術)
要約【課題】アンテナの内部から液体が漏洩した場合に、漏洩した液体が処理室に進入する可能性を低減できる。
【解決手段】プラズマ処理装置(100)は、処理室筐体(1)を貫通し、複数のアンテナ素子(30)を備えるアンテナ(3)と、アンテナに沿って複数のアンテナ素子のそれぞれを貫通し、冷却水(CL)が流れる流路(32)と、アンテナの外面を覆い、かつ、アンテナの外面との間に空間(S)を有するように、アンテナに沿って配置され、処理室筐体を気密に貫通する中空の第1絶縁体(8)と、を備える。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
処理室と、
軸に沿って接続された複数のアンテナ素子を備え、前記処理室の筐体を貫通するアンテナであって、高周波電流を流すことにより前記処理室においてプラズマを発生させるアンテナと、
前記アンテナに沿って前記複数のアンテナ素子のそれぞれを貫通し、流体が流れる流路と、
前記アンテナの外面を覆い、かつ、前記アンテナの外面との間に空間を有するように、前記アンテナに沿って配置され、前記処理室の筐体を気密に貫通する中空の第１絶縁体と、を備える、プラズマ処理装置。
続きを表示（約 790 文字）【請求項２】
前記第１絶縁体の、前記処理室の外部に延伸した端部が開放されている内部空間を有する空間部を備える、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記内部空間が真空引きされている、請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記内部空間が大気開放されている、請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記処理室において前記第１絶縁体の外面を覆うように、前記第１絶縁体の軸に沿って配置された第２絶縁体を備える、請求項１から４の何れか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記アンテナは、隣接する２つのアンテナ素子に接続され、前記流路が貫通する絶縁素子を備える、請求項１から４の何れか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記アンテナを複数備え、
複数の前記アンテナのそれぞれに対して、前記第１絶縁体が配置されている、請求項１から４の何れか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記アンテナは直線状である、請求項１から４の何れか１項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項９】
前記内部空間の圧力を測定する圧力計と、
前記圧力計が測定した圧力の変化に基づき、前記内部空間への流体の進入を検出する検出部と、を備える、請求項３に記載のプラズマ処理装置。
【請求項１０】
前記内部空間の圧力を測定する圧力計と、
前記内部空間にガスを導入するガス導入部と、
前記内部空間に前記ガスが導入された状態において前記圧力計が測定した圧力の変化に基づき、前記第１絶縁体およびその周囲の状態にどのような変化が生じたかを判定する判定部と、を備える、請求項３に記載のプラズマ処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、プラズマ処理装置に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
プラズマ処理装置の一例が、特許文献１，２に開示されている。特許文献１には、プラズマ処理装置に用いられるアンテナが開示されている。特許文献１のアンテナは、少なくとも一対の筒状の導体要素と、互いに隣り合う導体要素の間に設けられて、これらの導体要素の内部空間と連通する中空絶縁体と、一対の導体要素および中空絶縁体の間それぞれに設けられたメタルシールとを備えている。特許文献２には、アンテナを冷却する冷却液が流通するアンテナ用冷却流路と、アンテナ用冷却流路からの冷却液の漏洩を検知するアンテナ用漏洩センサと、を備えるプラズマ処理装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１９－１６４８９６号公報
特開２０２１－６４４５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１のアンテナでは、導体要素と絶縁体との間にメタルシールを設けることにより、アンテナの内部において流通する冷却液が導体要素と絶縁体との間から漏洩する可能性を低減しているが、冷却液の漏洩の可能性は多少なりとも存在する。また、特許文献２は、アンテナからの冷却液の漏洩後の被害を低減する技術を開示するものである。
【０００５】
本発明の一態様は、アンテナの内部から液体が漏洩した場合に、漏洩した液体が処理室に進入する可能性を低減できるプラズマ処理装置を実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係るプラズマ処理装置は、処理室と、軸に沿って接続された複数のアンテナ素子を備え、前記処理室の筐体を貫通するアンテナであって、高周波電流を流すことにより前記処理室においてプラズマを発生させるアンテナと、前記アンテナに沿って前記複数のアンテナ素子のそれぞれを貫通し、流体が流れる流路と、前記アンテナの外面を覆い、かつ、前記アンテナの外面との間に空間を有するように、前記アンテナに沿って配置され、前記処理室の筐体を気密に貫通する中空の第１絶縁体と、を備える。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の一態様によれば、アンテナの内部から液体が漏洩した場合に、漏洩した液体が処理室に進入する可能性を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本発明の一実施形態に係るプラズマ処理装置の概略的な断面を示す断面図である。
図１に示したプラズマ処理装置をアンテナの軸方向から見たときの、プラズマ処理装置の概略的な断面を示す断面図である。
本発明の別の実施形態に係るプラズマ処理装置の概略的な断面を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
〔実施形態１〕
以下、本発明の一実施形態について、図１および図２を用いて詳細に説明する。図１は、本開示の一実施形態に係るプラズマ処理装置１００の概略的な断面を示す断面図である。図１において、アンテナ３が延伸する方向をＸ軸方向、保持部６からアンテナ３に向かう方向をＺ軸方向、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の両方の方向に直交する方向をＹ軸方向とする。他の図面においても同様である。
【００１０】
プラズマ処理装置１００は、誘導結合型のプラズマＰを用いて基板Ｗに処理を行うものである。基板Ｗは、例えば、液晶ディスプレイまたは有機ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）用のガラス基板、または、フレキシブルディスプレイ用のフレキシブル基板等である。プラズマ処理装置１００は、基板Ｗに対し、例えば、プラズマＣＶＤ法もしくはスパッタ法による膜形成、プラズマによるエッチング、アッシングまたは被覆膜除去等を行う。
（【００１１】以降は省略されています）

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