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公開番号2025061202
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-10
出願番号2025004055,2023517539
出願日2025-01-10,2022-04-26
発明の名称露光装置、及びデバイス製造方法
出願人株式会社ニコン
代理人個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250403BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】可干渉性の高い単パルスレーザを用いてインテグレータで空間光変調素子を照明するとスペックルが生じてしまい、基板に転写される空間光変調素子による回路パターンの品質に影響が現れる場合があった。
【解決手段】露光装置は、第1時間間隔で並んだ複数のパルスを含むパルス光のうち第1パルスが入射する第1空間光変調器と、前記第1空間光変調器からの光を露光対象に照射する第1投影光学系と、前記露光対象を載置可能であり、前記第1投影光学系に対して走査方向に移動可能なステージと、を有し、前記ステージの走査速度と、前記第1パルスの発光時間と、の積が、解像度の1/3以下となるように、前記走査速度または前記発光時間が設定される。
【選択図】図5
特許請求の範囲【請求項１】
第１時間間隔で並んだ複数のパルスを含むパルス光のうち第１パルスが入射する第１空間光変調器と、
前記第１空間光変調器からの光を露光対象に照射する第１投影光学系と、
前記露光対象を載置可能であり、前記第１投影光学系に対して走査方向に移動可能なステージと、を有し、
前記ステージの走査速度と、前記第１パルスの発光時間と、の積が、解像度の１／３以下となるように、前記走査速度または前記発光時間が設定される、
露光装置。
続きを表示（約 670 文字）【請求項２】
前記走査速度と、前記発光時間と、の積が、解像度の１／４以下となるように、前記走査速度または前記発光時間が設定される、
請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記第１パルスは、所定時間間隔で並んだ複数のパルスを含む光である、
請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記パルス光は、複数の光源からそれぞれ出射されるパルス光が合成された群パルス光を含む、
請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
前記パルス光は、前記第１パルスと前記第１時間間隔離れて並んだ第２パルスを含み、
前記第１空間光変調器は、第２時間間隔で個別に制御される複数の素子を含み、
前記第１時間間隔は、前記第２時間間隔よりも短く、
前記第２パルスは、前記第１空間光変調器とは異なる第２空間光変調器に入射する、
請求項１に記載の露光装置。
【請求項６】
複数の光源からそれぞれ出射された光を合成し、合成された前記光を分割して出射する合成分割部と、
分割された前記光の光路を切り替えて、互いに異なる空間光変調器へと導く光路切替部と、を有し、
前記パルス光は、合成された前記光である、
請求項１に記載の露光装置。
【請求項７】
請求項１～６のいずれか一項に記載の露光装置を用いて露光対象を露光することと、
前記露光された露光対象を現像することと、
を含むデバイス製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、及びデバイス製造方法に関する。
本願は、２０２１年４月２７日に出願された日本国特願２０２１－０７５４０８号、２０２１年４月２７日に出願された日本国特願２０２１－０７５４０９号及び２０２１年４月２７日に出願された日本国特願２０２１－０７５４１０号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
続きを表示（約 2,400 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示素子、半導体素子（集積回路等）等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、主として、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆるステッパ）、あるいはステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが用いられている。
【０００３】
この種の露光装置では、露光対象物として表面に感光剤が塗布されたガラスプレート、あるいはウエハなどの基板（以下、基板と総称する）は、基板ステージ装置上に載置される。そして、回路パターンが形成された空間光変調素子にパルス光を照射し、該空間光変調素子を介したパルス光を投影レンズ等の光学系を介して基板に照射することで、回路パターンが基板上に転写される（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２００６－１７１４２６号公報
【発明の概要】
【０００５】
本発明の第１の態様によれば、所定パターンが形成されたマスクを照明する照明光学系において、パルス光を出射する複数の光源と、複数の前記光源からそれぞれ出射される前記パルス光を、第１パルス光と第２パルス光とに分割する分割部と、前記第１パルス光がとおる第１光路よりも長い第２光路へ前記第２パルス光を導く遅延光学系と、前記第１パルス光と前記遅延光学系をとおった前記第２パルス光とを合成し、合成した前記パルス光を分割して出射する合成分割部と、を有する光学系と、前記光学系から出射された前記パルス光のそれぞれを前記マスクへ導き、前記マスクを照明する照明系と、を備える照明光学系が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
本実施形態の露光装置の外観構成の概要を示す図である。
本実施形態の照明モジュール及び投影モジュールの構成の概要を示す図である。
本実施形態の照明モジュールの構成の概要を示す図である。
本実施形態の光変調部の構成の概要を示す図である。
本実施形態の光源ユニットの構成の概要を示す図である。
本実施形態の光源ユニットの構成の詳細を示す図である。
本実施形態の偏光ビームスプリッタの一例を示す図である。
本実施形態の分配部の構成の一例を示す図である。
本実施形態の光源部が出射するパルス光の状態の一例を示す図である。
本実施形態のパルス光が光ファイバに入射する位置の一例を示す図である。
本実施形態のリターダの構成の概要を示す図である。
本実施形態のリターダの構成の第１変形例を示す図である。
本実施形態のリターダの構成の第２変形例を示す図である。
本実施形態のリターダの構成の第３変形例を示す図である。
本実施形態のリターダの構成の第４変形例を示す図である。
本実施形態のリターダの構成の第５変形例を示す図である。
本実施形態のリターダの構成の第６変形例を示す図である。
本実施形態の分配部の変形例を示す図である。
本実施形態の光源ユニットと照明モジュールとの対応関係の変形例を示す図である。
本実施形態の光源ユニットの第１変形例を示す図である。
本実施形態の光源ユニットの第２変形例を示す図である。
本実施形態の光源ユニットの第３変形例を示す図である。
本実施形態の光源ユニットの第４変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。本発明の以下の詳細な説明は、例示的なものに過ぎず、限定するものではない。図面及び以下の詳細な説明の全体にわたって、同じ又は同様の参照符号が使用される。
【０００８】
［露光装置の構成］
図１は、本実施形態の露光装置１の外観構成の概要を示す図である。露光装置１は、露光対象物に変調光を照射する装置である。特定の実施形態において、露光装置１は、液晶表示装置（フラットパネルディスプレイ）などに用いられる矩形（角型）のガラス基板を露光対象物とするステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。露光対象物であるガラス基板は、少なくとも一辺の長さ、または対角長が５００ｍｍ以上であり、フラットパネルディスプレイ用の基板であってもよい。露光装置１によって露光された露光対象物（例えば、フラットパネルディスプレイ用の基板）は、現像されることによって製品に供される。
露光装置１の装置本体は、例えば、米国特許出願公開第２００８／００３０７０２号明細書に開示される装置本体と同様に構成されている。
【０００９】
露光装置１は、ベース１１、防振台１２、メインコラム１３、ステージ１４、光学定盤１５、照明モジュール１６、投影モジュール１７、光源ユニット１８、光ファイバ１９、及び光変調部２０（不図示）を備える。
以下において、光変調部２０で変調された光を露光対象物に照射する投影モジュール１７の光軸方向に平行な方向をＺ軸方向とし、Ｚ軸に直交する所定平面の方向をＸ軸方向、Ｙ軸方向とする三次元直交座標系を必要に応じて用いて説明する。Ｘ軸方向とＹ軸方向とは互いに直交（交差）する方向である。
【００１０】
ベース１１は、露光装置１の基台であり、防振台１２の上に設置される。ベース１１は、露光対象物が載置されるステージ１４を、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に移動可能に支持する。
（【００１１】以降は省略されています）

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