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公開番号2025060859
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-10
出願番号2024229672,2023148083
出願日2024-12-26,2018-09-19
発明の名称リソグラフィ装置において使用される基板ホルダ
出願人エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250403BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】基板の平坦性及び清浄度の観点における基板ホルダの性能と基板の下面に沿った液浸液の移動の低減との間で許容できる妥協点を有する基板ホルダを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置において使用するための、基板を支持するよう構成された基板ホルダ。この基板ホルダは、本体表面を有する本体と、本体表面から突出している複数のメインバールであって、各メインバールは基板を支持するよう構成された遠位端面を有する、メインバールと、本体表面から突出し、上面を有する第1のシール部材であって、複数のメインバールを取り囲み、基板と前記本体表面との間の液体が第1のシール部材を通り過ぎて半径方向内側へ流れるのを抑制するよう構成されている、第1のシール部材と、第1のシール部材の上面から突出している複数のマイナーバールであって、各マイナーバールは基板を支持するよう構成された遠位端面を有する、マイナーバールと、を備えている。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項１】
リソグラフィ装置において使用するための、基板を支持するよう構成された基板ホルダであって、
本体表面を有する本体と、
前記本体表面から突出している複数のメインバールであって、各メインバールは前記基板を支持するよう構成された遠位端面を有する、メインバールと、
前記本体表面から突出し、上面を有する第１のシール部材であって、前記複数のメインバールを取り囲み、前記基板と前記本体表面との間の液体が前記第１のシール部材を通り過ぎて半径方向内側へ流れるのを抑制するよう構成されている、第１のシール部材と、
前記第１のシール部材の前記上面から突出している複数のマイナーバールであって、各マイナーバールは前記基板を支持するよう構成された遠位端面を有する、マイナーバールと、
を備える基板ホルダ。
続きを表示（約 1,200 文字）【請求項２】
前記本体内への流体を前記本体と前記基板との間から抽出するための、前記本体に形成された複数の抽出開口を更に備える、請求項１に記載の基板ホルダ。
【請求項３】
前記複数の抽出開口は前記第１のシール部材の半径方向外側に配置され、及び／又は、前記基板ホルダは前記本体表面から突出している第２のシール部材を更に備え、前記第２のシール部材は、上面を有し、前記複数のメインバールを取り囲み、前記基板と前記本体表面との間の液体が前記第２のシール部材を通り過ぎて半径方向内側へ流れるのを抑制するよう構成されている、請求項２に記載の基板ホルダ。
【請求項４】
前記第２のシール部材は前記第１のシール部材を取り囲み、好ましくは、前記基板ホルダは前記第２のシール部材の前記上面から突出している複数の第２のマイナーバールを更に備え、各第２のマイナーバールは前記基板を支持するよう構成された遠位端面を有し、好ましくは、前記複数の抽出開口は前記第２のシール部材の前記上面にある、請求項３に記載の基板ホルダ。
【請求項５】
各抽出開口は前記第２のシール部材に形成された抽出溝の底面に形成されているか、又は、各抽出開口は前記第２のシール部材の前記上面に形成された対応するくぼみの底面に形成されている、請求項４に記載の基板ホルダ。
【請求項６】
前記複数の抽出開口は前記第１のシール部材の半径方向内側に配置されている、請求項２に記載の基板ホルダ。
【請求項７】
前記本体表面から突出している第２のシール部材を更に備え、前記第２のシール部材は、前記複数のメインバールを取り囲み、前記基板と前記本体表面との間の液体が前記第２のシール部材を通り過ぎて半径方向内側へ流れるのを抑制するよう構成されている、請求項２又は６に記載の基板ホルダ。
【請求項８】
前記第１のシール部材は前記第２のシール部材を取り囲み、及び／又は、前記第２のシール部材は上面を有し、前記基板ホルダは前記第２のシール部材の前記上面から突出している複数の第２のマイナーバールを更に備え、各第２のマイナーバールは前記基板を支持するよう構成された遠位端面を有する、請求項７に記載の基板ホルダ。
【請求項９】
前記複数の抽出開口は前記第１のシール部材と前記第２のシール部材との間の前記本体表面にある、請求項４及び請求項６から８のいずれかに記載の基板ホルダ。
【請求項１０】
前記本体表面から突出している複数の外側バールを更に備え、各外側バールは前記基板を支持するよう構成された遠位端面を有し、前記外側バールは前記第１のシール部材の半径方向外側にあり、好ましくは、前記外側バール及び前記抽出開口は、前記第１のシール部材及び前記複数のメインバールを取り囲むラインにおいて交互に配置されている、請求項２から９のいずれかに記載の基板ホルダ。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
（関連出願の相互参照）
[0001] 本出願は、２０１７年１０月１２日に出願されたＥＰ出願第１７１９６０８６．７号及び２０１８年３月２６日に出願されたＥＰ出願第１８１６３９８５．７号の優先権を主張する。これらは援用により全体が本願に含まれる。
続きを表示（約 3,200 文字）【０００２】
[0002] 本発明は、リソグラフィ装置において使用される基板ホルダに関する。
【背景技術】
【０００３】
[0003] リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に適用するように構築された機械である。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。リソグラフィ装置は例えば、パターニングデバイス（例えばマスク）のパターン（「設計レイアウト」又は「設計」と呼ばれることも多い）を、基板（例えばウェーハ）上に設けられた放射感応性材料（レジスト）の層に投影することができる。
【０００４】
[0004] 半導体製造プロセスが進歩を続けるにつれて、回路要素の寸法は絶えず縮小しており、一方で、１デバイス当たりのトランジスタのような機能要素の量は数十年にわたって着実に増大し、一般に「ムーアの法則」と称される傾向に従っている。ムーアの法則に遅れずついていくため、半導体業界は、ますます小型化するフィーチャを生成できる技術を求めている。基板にパターンを投影するため、リソグラフィ装置は電磁放射を使用することができる。この放射の波長は、基板にパターン形成されるフィーチャの最小サイズを決定する。現在使用されている典型的な波長は、３６５ｎｍ（ｉライン）、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、及び１３．５ｎｍである。４ｎｍ～２０ｎｍの範囲内、例えば６．７ｎｍ又は１３．５ｎｍの波長を有する極端紫外線（ＥＵＶ）放射を用いたリソグラフィ装置を使用すると、例えば１９３ｎｍの波長の放射を使用するリソグラフィ装置よりも小さいフィーチャを基板上に形成することができる。
【０００５】
[0005] 液浸リソグラフィ装置では、装置の投影システムと基板との間の空間に液浸液が存在する。この液浸液は、基板のエッジを超えて基板の下面まで到達する可能性がある。これは、この液浸液による基板の下面の汚染のため、及び／又は、液浸液の蒸発によって基板のエッジ近傍の位置で基板の下面に加わる熱負荷のため、有害である恐れがある。基板を支持するように構成された基板ホルダは、液浸液が基板の下面に沿って半径方向内側へ移動する量及び／又は距離を低減する特徴部（feature）を有し得る。このような特徴部は、基板に達成される平坦性及び清浄度（cleanliness）、並びに除去の容易さに悪影響を及ぼす可能性がある。
【発明の概要】
【０００６】
[0006] 本発明の目的は、基板の平坦性及び清浄度の観点における基板ホルダの性能と基板の下面に沿った液浸液の移動の低減との間で許容できる妥協点を有する基板ホルダを提供することを目的とする。
【０００７】
[0007] 本発明の一実施形態において、リソグラフィ装置において使用するための、基板を支持するよう構成された基板ホルダが提供される。この基板ホルダは、本体表面を有する本体と、本体表面から突出している複数のメインバール（main burl）であって、各メインバールは基板を支持するよう構成された遠位端面を有する、メインバールと、本体表面から突出し、上面を有する第１のシール部材であって、複数のメインバールを取り囲み、基板と本体表面との間の液体が第１のシール部材を通り過ぎて半径方向内側へ流れるのを抑制するよう構成されている第１のシール部材と、第１のシール部材の上面から突出している複数のマイナーバール（minor burl）であって、各マイナーバールは基板を支持するよう構成された遠位端面を有する、マイナーバールと、を備えている。
【０００８】
[0008] 本発明の一実施形態において、リソグラフィ装置において使用するための、基板を支持するよう構成された基板ホルダが提供される。この基板ホルダは、本体表面を有する本体と、本体表面から突出している複数のメインバールであって、各メインバールは基板を支持するよう構成された遠位端面を有する、メインバールと、本体表面から突出し、上面を有する第１のシール部材であって、複数のメインバールを取り囲み、基板と本体表面との間の液体が第１のシール部材を通り過ぎて半径方向内側へ流れるのを抑制するよう構成されている第１のシール部材と、本体表面から突出している第２のシール部材であって、第１のシール部材を取り囲み、基板と本体表面との間の液体が第２のシール部材を通り過ぎて半径方向内側へ流れるのを抑制するために構成されている第２のシール部材と、本体内への流体を本体と基板との間から抽出するための、第１のシール部材と第２のシール部材との間で本体に形成された複数の抽出開口と、第１のシール部材と第２のシール部材との間で本体表面から突出している複数の外側バールであって、各外側バールは基板を支持するよう構成された遠位端面を有する、外側バールと、を備えている。複数の外側バール及び複数の抽出開口は、第１のシール部材及び複数のメインバールを取り囲むラインにおいて交互に配置されている。
【０００９】
[0009] 本発明の一実施形態において、リソグラフィ装置において使用するための、基板を支持するよう構成された基板ホルダが提供される。この基板ホルダは、本体表面を有する本体と、本体表面から突出している複数のメインバールであって、各メインバールは基板を支持するよう構成された遠位端面を有する、メインバールと、本体表面から突出し、上面を有する第１のシール部材であって、複数のメインバールを取り囲み、基板と本体表面との間の液体が第１のシール部材を通り過ぎて半径方向内側へ流れるのを抑制するよう構成されている第１のシール部材と、第１のシール部材の上面から突出している複数のマイナーバールであって、各マイナーバールは基板を支持するよう構成された遠位端面を有する、マイナーバールと、本体表面から突出している第２のシール部材であって、第１のシール部材を取り囲み、基板と本体表面との間の液体が第２のシール部材を通り過ぎて半径方向内側へ流れるのを抑制するために構成されている第２のシール部材と、本体表面から突出している第３のシール部材であって、第１のシール部材及び第２のシール部材を取り囲み、基板と本体表面との間の液体が第３のシール部材を通り過ぎて半径方向内側へ流れるのを抑制するために構成されている第３のシール部材と、第１のシール部材と第２のシール部材との間で本体に形成された複数の入口開口と、本体内への流体を本体と基板との間から抽出するための、第２のシール部材と第３のシール部材との間で本体に形成された複数の抽出開口と、を備えている。本発明の一実施形態において、リソグラフィ装置において使用するための、基板を支持するよう構成された基板ホルダが提供される。この基板ホルダは、本体表面を有する本体と、本体表面から突出している複数のメインバールであって、各メインバールは基板を支持するよう構成された遠位端面を有する、メインバールと、本体表面から突出し、上面を有するシール部材であって、複数のメインバールを取り囲むシール部材と、シール部材の上面において１つ以上の第１のくぼみに形成された複数の抽出開口と、シール部材の上面において１つ以上の第２のくぼみに形成された複数の入口開口と、１つ以上の第１のくぼみと１つ以上の第２のくぼみとの間のバリアであって、基板と本体表面との間の液体がバリアを通り過ぎて半径方向内側へ流れるのを抑制するよう構成されているバリアと、を備えている。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
[00010] これより、添付の概略図面を参照して単に一例として本発明の実施形態を説明する。
（【００１１】以降は省略されています）

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