TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2025059871
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-10
出願番号2023170228
出願日2023-09-29
発明の名称溶射用スラリーおよびこれを用いた溶射皮膜の製造方法
出願人株式会社フジミインコーポレーテッド
代理人IBC一番町弁理士法人
主分類C23C 4/11 20160101AFI20250403BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】アルミニウムを含む酸化物からなる溶射粒子を含む溶射用スラリーを用いて形成された溶射皮膜のクラックの低減が可能となる。
【解決手段】アルミニウムを含む酸化物からなる溶射粒子と、分散媒とを含む溶射用スラリーであって、前記溶射用スラリーは、式(1)を満たし、式(1)において、Eは、前記酸化物の温度25℃におけるヤング率[単位:GPa]であり、αは、前記酸化物の30℃から600℃までの温度範囲における線熱膨張係数[単位:ppm/K]であり、D90は、前記溶射粒子の体積基準累積90%粒子径[単位:μm]である、溶射用スラリー。
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>JPEG</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2025059871000007.jpg</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">5</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">130</com:WidthMeasure> </com:Image> 【選択図】なし
特許請求の範囲【請求項1】
アルミニウムを含む酸化物からなる溶射粒子と、分散媒とを含む溶射用スラリーであって、
前記溶射用スラリーは、下記式(1):
JPEG
2025059871000006.jpg
5
130
を満たし、
上記式(1)において、
Eは、前記酸化物の温度25℃におけるヤング率[単位:GPa]であり、
αは、前記酸化物の30℃から600℃までの温度範囲における線熱膨張係数[単位:ppm/K]であり、
D90は、前記溶射粒子の体積基準累積90%粒子径[単位:μm]である、
溶射用スラリー。
続きを表示(約 290 文字)【請求項2】
前記溶射用スラリーの固形分濃度が55質量%以下である、請求項1に記載の溶射用スラリー。
【請求項3】
分散剤をさらに含む、請求項1に記載の溶射用スラリー。
【請求項4】
前記酸化物は、アルミニウムおよびイットリウムを含む酸化物である、請求項1に記載の溶射用スラリー。
【請求項5】
溶射ジェットの周囲に向けて水を噴射しながら行われる溶射に用いられる、請求項1に記載の溶射用スラリー。
【請求項6】
請求項1~5のいずれか1項に記載の溶射用スラリーを溶射することを含む、溶射皮膜の製造方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は溶射用スラリーおよびこれを用いた溶射皮膜の製造方法に関する。
続きを表示(約 1,200 文字)【背景技術】
【0002】
セラミック溶射皮膜は、構成セラミックスの特性に応じて種々の用途で使用されている。特許文献1には、アルミニウムおよびイットリウムを含む複合酸化物からなる溶射粉を溶射して得られる溶射皮膜などは、半導体デバイス製造装置用部材の保護皮膜として適することが開示されている。特許文献2には、半導体デバイス製造装置用部材の保護皮膜としてアルミナコーティングなどが用いられており、アルミナコーティングの作製技術の一つとしてプラズマ溶射法が挙げられることが開示されている。
【0003】
セラミック溶射皮膜は、溶射粒子を含むスラリーを溶射することによっても形成されうる。特許文献3には、アルミナなどの絶縁セラミックスと、溶媒とを含む絶縁セラミックススラリーを、固体電解質体にプラズマ溶射することにより、固体電解質体と一体的に絶縁セラミックス体を形成することが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0004】
特開2002-80954号公報
特表2013-531135号公報
特開2007-298490号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
しかしながら、本発明者らは、アルミニウムを含む酸化物からなる溶射粒子を含む溶射用スラリーを用いて形成された溶射皮膜の研究を進める過程で、溶射皮膜にクラックが発生する場合があることを見出した。
【0006】
そこで本発明は、アルミニウムを含む酸化物からなる溶射粒子を含む溶射用スラリーを用いて形成された溶射皮膜のクラックを低減することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0007】
本発明者らは、アルミニウムを含む酸化物の特性と、溶射皮膜におけるクラックの発生とが関係する場合があることを見出した。また、本発明者らは、驚くべきことに、アルミニウムを含む酸化物からなる溶射粒子の特定の粒子径と、溶射皮膜におけるクラックの発生とが関係することを見出した。
【0008】
よって、本発明の一態様は、アルミニウムを含む酸化物からなる溶射粒子と、分散媒とを含む溶射用スラリーであって、
前記溶射用スラリーは、下記式(1):
【0009】
JPEG
2025059871000001.jpg
5
130
【0010】
を満たし、
上記式(1)において、
Eは、前記酸化物の温度25℃におけるヤング率[単位:GPa]であり、
αは、前記酸化物の30℃から600℃までの温度範囲における線熱膨張係数[単位:ppm/K]であり、
D90は、前記溶射粒子の体積基準累積90%粒子径[単位:μm]である、
溶射用スラリーに関する。
【発明の効果】
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
5日前
日本製鉄株式会社
スナウト装置
25日前
株式会社スリーボンド
洗浄剤組成物
5日前
芝浦メカトロニクス株式会社
成膜装置
4日前
日新電機株式会社
密閉処理装置
17日前
芝浦メカトロニクス株式会社
成膜装置
4日前
大陽日酸株式会社
薄膜製造方法
4日前
東ソー株式会社
ホウ化クロム含有クロム焼結体及びその製造方法
5日前
福田金属箔粉工業株式会社
銅系複合体膜及びその製造方法
23日前
国立大学法人島根大学
透明導電膜形成方法および粉末ターゲット
16日前
東京エレクトロン株式会社
クリーニング方法及び成膜装置
6日前
株式会社SCREENホールディングス
スパッタリング装置
20日前
株式会社SCREENホールディングス
スパッタリング装置
19日前
大日本塗料株式会社
鋼構造物の洗浄方法
6日前
矢崎総業株式会社
めっき付き炭素材料及びその製造方法
5日前
キヤノントッキ株式会社
成膜装置及び成膜方法
10日前
キヤノントッキ株式会社
成膜装置及び成膜方法
10日前
キヤノントッキ株式会社
成膜装置及び成膜方法
10日前
株式会社SCREENホールディングス
反応性スパッタリング方法
11日前
スズカファイン株式会社
既設鋼材の錆の除去方法
13日前
株式会社堀場エステック
気化器および液体材料気化装置
9日前
株式会社仲田コーティング
被覆金属成形品及び被覆金属成形品の製造方法
26日前
デンカ株式会社
電気化学的防食工法用電解液、電気化学的防食工法
6日前
株式会社片山化学工業研究所
水処理用組成物及び水処理方法
25日前
日本製鉄株式会社
ドロス位置推定装置、及びドロス位置推定方法
17日前
日亜化学工業株式会社
光学薄膜の製造方法及び光学部材
6日前
エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー
ガスインジェクタ
5日前
株式会社神戸製鋼所
被覆金型
9日前
学校法人早稲田大学
金属又は合金薄膜付与アニオン交換膜の製造方法
23日前
株式会社荏原製作所
溶射装置および溶射方法
25日前
大日本印刷株式会社
金属板及びその製造方法、並びに、メタルマスクの製造方法
18日前
JX金属株式会社
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲット組立品
9日前
Patentix株式会社
製造方法、結晶、積層構造体、半導体装置、電子機器及びシステム
17日前
関西ペイント株式会社
防食積層被覆構造及び当該防食積層被覆構造の製造方法
4日前
株式会社日立ビルシステム
電子部品の製造方法および電子部品の再生方法
12日前
株式会社フジミインコーポレーテッド
溶射用スラリーおよびこれを用いた溶射皮膜の製造方法
3日前
続きを見る