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公開番号2025042467
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-03-27
出願番号2023149504
出願日2023-09-14
発明の名称製造方法、結晶、積層構造体、半導体装置、電子機器及びシステム
出願人Patentix株式会社,学校法人立命館
代理人
主分類C23C 16/40 20060101AFI20250319BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】半導体装置等に有用な優れた結晶性を有する結晶を提供する。
【解決手段】結晶基板上に原料を供給して、前記結晶基板上に直接又は他の層を介してGeO₂を主成分として含む結晶とアモルファス相とを含む膜を製膜する製膜工程を含む前記結晶の製造方法であって、前記膜中のアモルファス相を除去した後、前記結晶に前記原料を再度供給し、前記結晶を再成長させる再成長工程を含む製造方法は、例えば、半導体装置などに好適に用いられる結晶膜などを製造する際に用いられる。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
結晶基板上に原料を供給して、前記結晶基板上に直接又は他の層を介してＧｅＯ
２
を主成分として含む結晶とアモルファス相とを含む膜を製膜する製膜工程を含む前記結晶の製造方法であって、前記膜中のアモルファス相を除去した後、前記結晶に前記原料を再度供給し、前記結晶を再成長させる再成長工程を含むことを特徴とする製造方法。
続きを表示（約 490 文字）【請求項２】
前記結晶が、正方晶の結晶構造を有している請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
再成長工程が、前記結晶を１００μｍ
２
以上の面積まで再度成長させる請求項１記載の製造方法。
【請求項４】
前記原料が、ミスト状又はガス状である請求項１記載の製造方法。
【請求項５】
前記原料が、Ｇｅを含むミスト又はガスである請求項１記載の製造方法。
【請求項６】
前記アモルファス相の除去を、水を含む液体を用いて行う請求項１記載の製造方法。
【請求項７】
前記アモルファス相の除去を、ｐＨ８以下の溶液を用いて行う請求項１記載の製造方法。
【請求項８】
前記アモルファス相の除去を超音波照射下にて行う請求項１記載の製造方法。
【請求項９】
前記再成長を、５００℃から９００℃にて行う請求項１記載の製造方法。
【請求項１０】
請求項１から請求項９のいずれかに記載の製造方法で得られた結晶。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置に有用な結晶及び積層構造体に関する。
続きを表示（約 3,400 文字）【背景技術】
【０００２】
従来、Ｇａ
２
Ｏ
３
は、将来のパワーエレクトロニクス・デバイスに有望な超ワイドバンドギャップ（ＵＷＢＧ）半導体として注目されている。
【０００３】
しかしながら、Ｇａ
２
Ｏ
３
は、Ｐ型半導体が作製困難であるという課題があり、また、安価にすることが容易ではなく、普及するにはまだまだ課題が数多くあった。
近年においては、新規なＵＷＢＧ半導体（バンドギャップが４．４４－４．６８ｅＶ）としてルチル型二酸化ゲルマニウム（ｒ－ＧｅＯ
２
）が研究されており、ルチル型二酸化ゲルマニウムは、ｎ型及びｐ型半導体が実現可能であり、安価に作製することも実現可能であるため、Ｇａ
２
Ｏ
３
に代わるＵＷＢＧ半導体として期待されており、例えば、ｒ－ＴｉＯ
２
（００１）基板上にｒ－ＧｅＯ
２
結晶膜を積層した積層構造体が検討されている（非特許文献１、特許文献１）。しかしながら、非特許文献１は、非特許文献１の査読後に非特許文献２がＥｒｒａｔｕｍとして提出されており（非特許文献２）、非特許文献１及び特許文献１に記載の結晶粒（異常粒）が、ルチル型二酸化ゲルマニウム結晶であることが判明し、他の部分はアモルファス相であった。すなわち、アモルファス相が大部分に形成されるだけで、また結晶相ができても、結晶粒が一部に形成されるにすぎなかった。そのため、そのため、基板表面に大面積な結晶を製造することができるような方策が待ち望まれていた。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
Ｔａｋａｎｅ，Ｋ．Ｋａｎｅｋｏ， “ＥｓｔａｂｌｉｓｈｍｅｎｔｏｆａｇｒｏｗｔｈｒｏｕｔｅｏｆｃｒｙｓｔａｌｌｉｚｅｄｒｕｔｉｌｅＧｅＯ２ｔｈｉｎｆｉｌｍ（≧ １ｍｍ／ｈ）ａｎｄｉｔｓｓｔｒｕｃｔｕｒａｌｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ” ＡｐｐｌｉｅｄＰｈｙｓｉｃｓＬｅｔｔｅｒｓＶｏｌ．１１９，ｐｐ．０６２１０４（１－６）（２０２１）．
Ｔａｋａｎｅ，Ｋ．Ｋａｎｅｋｏ，Ｅｒｒａｔｕｍ： “ＥｓｔａｂｌｉｓｈｍｅｎｔｏｆａｇｒｏｗｔｈｒｏｕｔｅｏｆｃｒｙｓｔａｌｌｉｚｅｄｒｕｔｉｌｅＧｅＯ２ｔｈｉｎｆｉｌｍ（≧１ μｍ／ｈ）ａｎｄｉｔｓｓｔｒｕｃｔｕｒａｌｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ” ＡｐｐｌｉｅｄＰｈｙｓｉｃｓＬｅｔｔｅｒｓＶｏｌ．１２０，０９９９０３（１－３）（２０２２）．
【特許文献】
【０００５】
国際公開第２０２３／００８４５４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、半導体装置等に有用な優れた結晶性を有する結晶を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、結晶基板上に原料を供給して、前記結晶基板上に直接又は他の層を介してＧｅＯ
２
を主成分として含む結晶とアモルファス相とを含む膜を製膜する製膜工程を含む前記結晶の製造方法であって、前記膜中のアモルファス相を除去した後、前記結晶に前記原料を再度供給し、前記結晶を再成長させる再成長工程を含むことを特徴とする製造方法により得られる結晶が、優れた結晶性等を持ち、半導体装置等に有用であることを知見し、このような結晶が、上記した従来の問題を一挙に解決できるものであることを見出した。
また、本発明者らは、上記知見を得た後、さらに検討を重ねて、本発明を完成させるに至った。
【０００８】
すなわち、本発明は、以下の発明に関する。
［１］結晶基板上に原料を供給して、前記結晶基板上に直接又は他の層を介してＧｅＯ
２
を主成分として含む結晶とアモルファス相とを含む膜を製膜する製膜工程を含む前記結晶の製造方法であって、前記膜中のアモルファス相を除去した後、前記結晶に前記原料を再度供給し、前記結晶を再成長させる再成長工程を含むことを特徴とする製造方法。
［２］前記結晶が、正方晶の結晶構造を有している前記［１］記載の製造方法。
［３］再成長工程が、前記結晶を１００μｍ
２
以上の面積まで再度成長させる前記［１］記載の製造方法。
［４］前記原料が、ミスト状又はガス状である前記［１］記載の製造方法。
［５］前記原料が、Ｇｅを含むミスト又はガスである前記［１］記載の製造方法。
［６］前記アモルファス相の除去を、水を含む液体を用いて行う前記［１］記載の製造方法。
［７］前記アモルファス相の除去を、ｐＨ８以下の溶液を用いて行う前記［１］記載の製造方法。
［８］前記アモルファス相の除去を超音波照射下にて行う前記［１］記載の製造方法。
［９］前記再成長を、５００℃から９００℃にて行う前記［１］記載の製造方法。
［１０］前記［１］から前記［１０］のいずれかに記載の製造方法で得られた結晶。
［１１］結晶基板上に直接又は他の層を介して結晶が積層されている積層構造体であって、前記結晶が前記［１０］記載の結晶であることを特徴とする積層構造体。
［１２］結晶又は積層構造体を含む半導体装置であって、前記結晶が、前記［１０］記載の結晶であり、前記積層構造体が前記［１１］記載の積層構造体であることを特徴とする半導体装置。
［１３］パワーデバイスである前記［１２］記載の半導体装置。
［１４］ショットキーバリアダイオード（ＳＢＤ）、ジャンクションバリアショットキーダイオード（ＪＢＳ）、高電子移動度トランジスタ（ＨＥＭＴ）、金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）、接合電界効果トランジスタ（ＪＦＥＴ）、絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ（ＩＧＢＴ）または発光ダイオード（ＬＥＤ）である前記［１２］記載の半導体装置。
［１５］半導体装置を含む電子機器であって、前記半導体装置が前記［１２］記載の半導体装置であることを特徴とする電子機器。
［１６］電子機器を含むシステムであって、前記電子機器が、前記［１５］記載の電子機器であることを特徴とするシステム。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の製造方法は、半導体装置等に有用であり、結晶性に優れた結晶を製造する。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本発明において好適に用いられる製膜装置の概略構成図の一例である。
実施例１におけるＸＲＤ解析結果を示す図である。
実施例１におけるＳＥＭ像を示す図である。
実施例１におけるＥＤＳ像を示す図である。
参考例１におけるＸＲＤ解析結果を示す図である。
参考例１におけるＳＥＭ像を示す図である。
参考例１におけるＥＤＳ像を示す図である。
本発明のショットキーバリアダイオード（ＳＢＤ）の好適な一例を模式的に示す図である。
本発明の高電子移動度トランジスタ（ＨＥＭＴ）の好適な一例を模式的に示す図である。
本発明の金属酸化膜半導体電界効果トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）の好適な一例を模式的に示す図である。
本発明の接合電界効果トランジスタ（ＪＦＥＴ）の好適な一例を模式的に示す図である。
本発明の絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ（ＩＧＢＴ）の好適な一例を模式的に示す図である。
本発明の発光素子（ＬＥＤ）の好適な一例を模式的に示す図である。
本発明のジャンクションバリアショットキーダイオード（ＪＢＳ）の好適な一例を模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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