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公開番号2025089807
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-06-16
出願番号2023204688
出願日2023-12-04
発明の名称成膜装置
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人弁理士法人酒井国際特許事務所
主分類C23C 14/12 20060101AFI20250609BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】基板に形成される有機膜の厚さの均一性を向上させる。
【解決手段】成膜装置であって、処理容器と、ステージと、遮熱部材と、ガス供給部と、第1のヒータと、第2のヒータとを備える。ステージは、処理容器内に収容され、基板が載せられる。遮熱部材は、複数の貫通孔を有し、ステージ上に載せられた基板を覆うようにステージの上に配置される。ガス供給部は、処理容器内に、第1のモノマーのガスおよび第2のモノマーのガスを供給し、第1のモノマーおよび第2のモノマーの重合反応により、基板に重合体の有機膜を形成する。第1のヒータは、処理容器の側壁を第1の温度に加熱する。第2のヒータは、ステージを第1の温度よりも低い第2の温度に加熱する。遮熱部材は、基板に重合体の有機膜が形成される際に、ステージに接触し、処理容器に接触しない。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
処理容器と、
前記処理容器内に収容され、基板が載せられるステージと、
複数の貫通孔を有し、前記ステージ上に載せられた前記基板を覆うように前記ステージの上に配置される遮熱部材と
前記処理容器内に、第１のモノマーのガスおよび第２のモノマーのガスを供給し、前記第１のモノマーおよび前記第２のモノマーの重合反応により、前記基板に重合体の有機膜を形成するガス供給部と、
前記処理容器の側壁を第１の温度に加熱する第１のヒータと、
前記ステージを前記第１の温度よりも低い第２の温度に加熱する第２のヒータと
を備え、
前記遮熱部材は、前記基板に重合体の有機膜が形成される際に、前記ステージに接触し、前記処理容器に接触しない成膜装置。
続きを表示（約 930 文字）【請求項２】
前記遮熱部材は、
複数の前記貫通孔が形成され、前記基板に対向する位置に配置される板状部と、
前記板状部と前記ステージとの間に配置される筒状部と
を有する請求項１に記載の成膜装置。
【請求項３】
前記板状部における前記貫通孔の開口率は、１０％以上かつ２０％以下である請求項２に記載の成膜装置。
【請求項４】
前記筒状部は、複数の貫通孔を有する請求項２または３に記載の成膜装置。
【請求項５】
前記筒状部が有する複数の貫通孔は、前記筒状部の上端よりも下端に近い位置に形成される請求項４に記載の成膜装置。
【請求項６】
前記ステージを昇降させるリフト機構をさらに備え、
前記遮熱部材は、前記基板が載せられる前記ステージの面に沿って、前記筒状部から前記ステージの外側まで延在するフランジ部を有し、
前記処理容器は、内側壁に設けられた段差部を有し、
前記リフト機構は、前記基板の搬入および搬出時に前記ステージを下降させ、前記遮熱部材の前記フランジ部を前記段差部に載せることにより、前記遮熱部材と前記ステージとを離間させる請求項２に記載の成膜装置。
【請求項７】
前記フランジ部は、前記筒状部の下端に設けられる請求項６に記載の成膜装置。
【請求項８】
前記リフト機構は、前記処理容器内のクリーニング時に前記ステージを下降させ、前記遮熱部材の前記フランジ部を前記段差部に載せることにより、前記遮熱部材を前記段差部を介して前記第１の温度に加熱する請求項６または７に記載の成膜装置。
【請求項９】
前記リフト機構は、前記処理容器内のクリーニング時に前記ステージの高さが、前記基板の処理を行う際の第１の位置よりも低く、かつ、前記基板の搬入および搬出を行う際の第２の位置よりも高い第３の位置となるように前記ステージの位置を制御する請求項８に記載の成膜装置。
【請求項１０】
前記遮熱部材は、アルミニウムで形成される請求項１に記載の成膜装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示の種々の側面および実施形態は、成膜装置に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
例えば下記特許文献１には、「蒸着重合により被処理基板に重合体の膜を成膜する成膜装置であって、ステージと、ステージヒータと、天板ヒータと、制御装置とを備える。ステージは、被処理基板を収容する処理容器内に設けられ、被処理基板が載置される。ステージヒータは、ステージ内に設けられ、ステージ上に載置された被処理基板を加熱する。天板ヒータは、ステージに対向する処理容器の天板に設けられる。制御装置は、ステージヒータおよび天板ヒータの温度を制御する。また、制御装置は、ステージヒータの温度を第１の温度単位で制御することにより、被処理基板の温度を第１の温度単位で制御する。また、制御装置は、天板ヒータの温度を第２の温度単位で制御することにより、天板を介して放射される輻射熱によって被処理基板の温度を第１の温度単位より細かい温度単位で制御する。」ことが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０１８－１８１９５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、基板に形成される有機膜の厚さの均一性を向上させることができる成膜装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本開示の一側面は、成膜装置であって、処理容器と、ステージと、遮熱部材と、ガス供給部と、第１のヒータと、第２のヒータとを備える。ステージは、処理容器内に収容され、基板が載せられる。遮熱部材は、複数の貫通孔を有し、ステージ上に載せられた基板を覆うようにステージの上に配置される。ガス供給部は、処理容器内に、第１のモノマーのガスおよび第２のモノマーのガスを供給し、第１のモノマーおよび第２のモノマーの重合反応により、基板に重合体の有機膜を形成する。第１のヒータは、処理容器の側壁を第１の温度に加熱する。第２のヒータは、ステージを第１の温度よりも低い第２の温度に加熱する。遮熱部材は、基板に重合体の有機膜が形成される際に、ステージに接触し、処理容器に接触しない。
【発明の効果】
【０００６】
本開示の種々の側面および実施形態によれば、基板に形成される有機膜の厚さの均一性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
図１は、本開示の一実施形態における成膜装置の一例を示す概略断面図である。
図２は、天板の処理空間側の面の一例を示す図である。
図３は、遮熱部材の構造の一例を示す断面図である。
図４は、遮熱部材の構造の一例を示す平面図である。
図５は、基板の搬送時のステージの位置の一例を示す図である。
図６は、クリーニング時のステージの位置の一例を示す図である。
図７は、遮熱部材の構造の他の例を示す断面図である。
図８は、遮熱部材の構造の他の例を示す断面図である。
図９は、遮熱部材の構造の他の例を示す側面図である。
図１０は、遮熱部材の構造の他の例を示す断面図である。
図１１は、遮熱部材の構造の他の例を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下に、開示される成膜装置の実施形態について、図面に基づいて詳細に説明する。なお、以下の実施形態により、開示される成膜装置が限定されるものではない。
【０００９】
ところで、蒸着重合では、基板の温度によって成膜速度が大きく変化する。そのため、成膜される重合体の膜厚を均一にするためには、基板の温度分布をより均一にすることが求められる。
【００１０】
そこで、本開示は、基板に形成される有機膜の厚さの均一性を向上させることができる技術を提供する。
（【００１１】以降は省略されています）

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