特許ウォッチ

公開番号2025054303
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-08
出願番号2023163347
出願日2023-09-26
発明の名称加熱処理装置
出願人芝浦メカトロニクス株式会社
代理人弁理士法人iX
主分類F27B 9/30 20060101AFI20250331BHJP(炉,キルン,窯;レトルト)
要約【課題】異物を除去することができ、且つ、製造時間が長くなるのを抑制することができる加熱処理装置を提供することである。
【解決手段】実施形態に係る加熱処理装置は、ワークを加熱処理する処理部と、前記加熱処理が施された前記ワークを一時的に収納する集積部と、前記処理部と、前記集積部と、の間に設けられ、前記ワークの受け渡しを行う搬送部と、前記処理部と、前記集積部と、の間の領域に設けられ、前記加熱処理が施された前記ワークに付着している異物の除去と、前記ワークの冷却と、を行う集塵冷却部と、を備えている。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
ワークを加熱処理する処理部と、
前記加熱処理が施された前記ワークを一時的に収納する集積部と、
前記処理部と、前記集積部と、の間に設けられ、前記ワークの受け渡しを行う搬送部と、
前記処理部と、前記集積部と、の間の領域に設けられ、前記加熱処理が施された前記ワークに付着している異物の除去と、前記ワークの冷却と、を行う集塵冷却部と、
を備えた加熱処理装置。
続きを表示（約 930 文字）【請求項２】
前記集積部の内部には、前記搬送部に保持された、前記加熱処理が施された前記ワークが侵入可能なスペースが設けられ、
前記集塵冷却部は、前記スペースよりも上方に設けられている請求項１記載の加熱処理装置。
【請求項３】
前記集積部の内部には、前記加熱処理が施された前記ワークが一時的に収納されるエリアが設けられ、
前記スペースは、前記エリアよりも下方に位置している請求項２記載の加熱処理装置。
【請求項４】
前記集塵冷却部は、前記搬送部により、前記加熱処理が施された前記ワークが前記スペースに侵入する際、および、前記加熱処理が施された前記ワークが前記スペースから退出する際の少なくともいずれかにおいて、前記異物の除去と、前記ワークの冷却と、を行う請求項２または３に記載の加熱処理装置。
【請求項５】
前記集積部は、前記エリアに外気を導入する排気部を有する請求項３記載の加熱処理装置。
【請求項６】
前記集積部は、
前記加熱処理が施された前記ワークが一時的に収納される筐体と、
前記筐体の開口に設けられ、昇降可能な第１の開閉扉と、
を有し、
前記集塵冷却部は、前記第１の開閉扉の外面に設けられている請求項１記載の加熱処理装置。
【請求項７】
前記処理部は、
前記ワークが加熱処理されるチャンバと、
前記チャンバの開口に設けられ、昇降可能な第２の開閉扉と、
を有し、
前記集塵冷却部は、前記第２の開閉扉の下端外面に設けられている請求項１記載の加熱処理装置。
【請求項８】
前記集塵冷却部は、前記ワークが前記搬送部によって前記処理部から前記集積部に搬送される経路の途中に、配置されている請求項１記載の加熱処理装置。
【請求項９】
前記集塵冷却部は、前記処理部の手前の位置、前記集積部の手前の位置の少なくとも一箇所に配置されている請求項８記載の加熱処理装置。
【請求項１０】
前記集塵冷却部を昇降動させる昇降部を有する請求項９記載の加熱処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、加熱処理装置に関する。
続きを表示（約 1,700 文字）【背景技術】
【０００２】
ワークを加熱して、ワークの表面に膜などを形成したり、ワークの表面を処理したりする加熱処理装置がある。
ここで、加熱処理が施されたワークの面に、パーティクルなどの異物が付着している場合がある。ワークの面に異物が付着していると、ワークに形成された膜や処理部分の品質が低下するおそれがある。
【０００３】
一般的には、ワークに付着している異物は、液体洗浄装置などを用いて除去される。しかしながら、液体洗浄装置などを用いて異物を除去すると、加熱処理装置と液体洗浄装置との間の受け渡しなどが必要となるので、製造時間が長くなる。また、加熱処理装置と液体洗浄装置とが必要となるので、設備の設置スペースが大きくなったり、設備のコストが増大したりするという問題もある。
そこで、異物を除去することができ、且つ、製造時間が長くなるのを抑制することができる加熱処理装置の開発が望まれていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０１９－１８４２２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明が解決しようとする課題は、異物を除去することができ、且つ、製造時間が長くなるのを抑制することができる加熱処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
実施形態に係る加熱処理装置は、ワークを加熱処理する処理部と、前記加熱処理が施された前記ワークを一時的に収納する集積部と、前記処理部と、前記集積部と、の間に設けられ、前記ワークの受け渡しを行う搬送部と、前記処理部と、前記集積部と、の間の領域に設けられ、前記加熱処理が施された前記ワークに付着している異物の除去と、前記ワークの冷却と、を行う集塵冷却部と、を備えている。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の実施形態によれば、異物を除去することができ、且つ、製造時間が長くなるのを抑制することができる加熱処理装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
本実施の形態に係る加熱処理装置を例示するための模式平面図である。
図１に示す加熱処理装置の模式側面図である。
図１における処理部をＡ－Ａ線方向から見た場合の模式図である。
図３における処理部のＢ－Ｂ線方向の模式断面図である。
図２における集積部および集塵冷却部をＣ－Ｃ線方向から見た場合の模式図である。
集塵冷却部を例示するための模式断面図である。
集塵冷却部を、集積部の筐体に設ける場合を例示するために模式図である。
集塵冷却部を、集積部（筐体）の開閉扉に設ける場合を例示するために模式図である。
集塵冷却部を、処理部（チャンバ）の開閉扉に設ける場合を例示するために模式図である。
他の実施形態に係る集塵冷却部を例示するための模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、図面を参照しつつ、実施の形態について例示をする。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
以下においては、一例として、大気圧よりも減圧された雰囲気においてワークを加熱して、ワークの表面に有機膜を形成する加熱処理装置を説明する。しかしながら、本発明は、これに限定されるわけではない。例えば、本発明は、ワークを加熱して、ワークの表面に無機膜などを形成したり、ワークの表面を処理したりする加熱処理装置にも適用することができる。
【００１０】
また、加熱処理が施される前のワークは、例えば、基板と、基板の表面に塗布された溶液とを有するものであってもよいし、基板のみであってもよい。以下においては、一例として、加熱処理が施される前のワークが、基板と、基板の表面に塗布された溶液とを有する場合を説明する。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許