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公開番号2025054167
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-07
出願番号2024088457
出願日2024-05-31
発明の名称ウェハ研磨設備の真空除去用流体制御装置
出願人準力機械股分有限公司
代理人個人,個人
主分類B24B 37/34 20120101AFI20250328BHJP(研削;研磨)
要約【課題】ウェハ研磨設備の真空除去用流体制御装置を提供する。
【解決手段】本発明は、位置決め台座を上下移動させるように駆動するリニア駆動器と、前記位置決め台座にそれぞれ設置される複数本の導流管と、各前記導流管にそれぞれ被装される数個の弾性カバーと、保持台に設置されるアダプタ台座と、前記保持台に間隔を隔てて配置される数個の分流器とを備え、前記アダプタ台座の内部に数個の中継路が形成され、各前記弾性カバーは、それぞれ各前記中継路と逐次に上下対応が形成され、各前記中継路の他端がそれぞれ数本の中継管に連通され、各前記中継管は、それぞれ各前記分流器に連通され、個々の前記分流器は、それぞれ数本の輸送管と対応連結され、これにより流体がウェハ研磨設備の上研磨皿とその研磨を受けるウェハ薄板との間に進入するように制御する。
【選択図】図2

特許請求の範囲【請求項１】
ウェハ研磨設備の真空除去用流体制御装置であって、前記ウェハ研磨設備は、ウェハ薄板の上表面を研磨するために用いられる上研磨皿を有し、前記上研磨皿に数個の通路を貫設し、各前記通路は、それぞれ前記上研磨皿の頂端及び底端まで延在し、前記流体制御装置は、流体が各前記通路を通過して前記上研磨皿と前記ウェハ薄板との間に進入するように制御するために用いられ、前記上研磨皿と前記ウェハ薄板とを相互に吸着する状態を解除し、前記流体が水又は空気であり、
前記流体制御装置は、前記ウェハ研磨設備に固定設置されるリニア駆動器と、前記リニア駆動器と連結される位置決め台座と、それぞれ前記位置決め台座に位置決めされて設置される数本の導流管と、保持台に設置されるアダプタ台座と、前記保持台に間隔を隔てて配置される数個の分流器とを備え、かつ前記位置決め台座は、前記リニア駆動器と前記上研磨皿の頂縁側との間に位置し、前記リニア駆動器は、前記位置決め台座を上下移動させるように駆動することに応じて、前記上研磨皿の前記頂縁側に接近したり離間したりし、各前記導流管は、それぞれ前記流体の供給源に連通され、かつ各前記導流管は、それぞれ前記上研磨皿の前記頂縁側に向かって延在し、数個の弾性カバーは、それぞれ各前記導流管の前記頂縁側に面する一端に被装され、各前記弾性カバーは、それぞれ内部に各前記導流管を連通する錐状空間が形成され、前記保持台は、前記上研磨皿と連結され、前記アダプタ台座の内部に各前記導流管に合わせて数個の中継路が形成され、各前記中継路の一端がそれぞれ前記アダプタ台座の頂縁まで延在し、各前記錐状空間は、それぞれ各前記中継路と逐次に上下対応が形成され、各前記中継路の他端がそれぞれ前記アダプタ台座の一側まで延在して数本の中継管に連通され、各前記中継管は、それぞれ各前記分流器に連通され、各々の前記分流器は、それぞれ数本の輸送管と対応連結され、各前記輸送管は、それぞれ各前記通路に連通されることで、前記流体を、各前記通路を通過させて前記上研磨皿と前記ウェハ薄板との間に進入させるようにすることを特徴とする、ウェハ研磨設備の真空除去用流体制御装置。
続きを表示（約 500 文字）【請求項２】
前記位置決め台座は、支持台を有し、各前記導流管は、前記支持台に位置決めされ、各前記弾性カバーは、前記支持台と前記アダプタ台座との間に位置し、かつ各前記弾性カバーは、前記支持台と緊密に隣接していることを特徴とする、請求項１に記載のウェハ研磨設備の真空除去用流体制御装置。
【請求項３】
前記支持台の両側がそれぞれ２つの接触圧素子と連結され、各前記接触圧素子は、それぞれ前記アダプタ台座の方向に向かって延伸していることを特徴とする、請求項２に記載のウェハ研磨設備の真空除去用流体制御装置。
【請求項４】
２つの妨害壁が、それぞれ前記アダプタ台座の両相対側に当接し、かつ各前記弾性カバーは、それぞれ各前記妨害壁の間に位置していることを特徴とする、請求項１又は請求項２又は請求項３に記載のウェハ研磨設備の真空除去用流体制御装置。
【請求項５】
同軸設置される各前記妨害壁は、それぞれ円環状板体であり、かつ前記上研磨皿の軸方向が延伸して各前記妨害壁の径方向中心を通過することを特徴とする、請求項４に記載のウェハ研磨設備の真空除去用流体制御装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェハ研磨設備の組立部品に係り、特に、ウェハ研磨設備の真空除去用流体制御装置に関するものであり、かかる流体制御装置は、ウェハ薄板の研磨工程の完了後、流体が上研磨皿と研磨されたウェハ薄板との間に進入するように制御し、前記上研磨皿と前記ウェハ薄板とを相互に吸着する状態を解除する。
続きを表示（約 2,500 文字）【背景技術】
【０００２】
ウェハ研磨設備は、ウェハ薄板を研磨する一種の機具であり、ウエハホルダ駆動機構と、上研磨皿と、下研磨皿とを備え、その内、１個～数個の不等の前記ウェハ薄板はウエハホルダに設置され、ロボットアームは、１個～数個の不等の前記ウエハホルダを前記ウエハホルダ駆動機構に移載し、前記上研磨皿及び前記下研磨皿は、それぞれ各前記ウェハ薄板の上表面及び下表面に対して研磨加工を実行する。
【０００３】
一回の研磨工程が完了した後、前記上研磨皿、前記下研磨皿及び前記ウエハホルダ駆動機構の運転を停止して、前記上研磨皿を上昇させることで、前記ウエハホルダを露呈させ、前記ロボットアームは、前記ウェハ薄板を設置している前記ウエハホルダを交換することができる。
【０００４】
前記上研磨皿は、その下方に位置する前記上表面に対する研磨が完了するとき、真空吸着現象は、前記上研磨皿と前記ウェハ薄板とが相互に吸着して上下分離し難いことにつながり、前記上研磨皿の上昇時に前記ウェハ薄板をそれに伴って上向きに移動させるように連動することを回避するために、研磨工程の完了後、流体を前記上研磨皿と前記上表面との間に注入する必要があり、前記上研磨皿と前記ウェハ薄板とを相互に吸着する状態を解除することで、前記上研磨皿と前記ウェハ薄板とを相互に吸着させないようにすることにより、前記ウェハ薄板を前記上研磨皿に伴って上向きに移動させることにつながり、前記流体が水又は空気であってもよく、前記流体を注入して前記上研磨皿と前記ウェハ薄板との相互の吸着状態を解除する操作は、通常、真空除去と称される。
【０００５】
前記流体を制御してかかる真空除去を行う流体制御装置は、数個のリニア駆動器と、数個の位置決め台座と、数本の導流管と、数個の分流器と、数本の輸送管とを備え、その内、各前記リニア駆動器は、各構成要素を設置して位置決めする機枠、又は機台、あるいはその他の組立部品を提供する前記ウェハ研磨設備に間隔を隔てて設置され、各前記分流器は、円形経路に沿って間隔を隔てて配置され、各前記位置決め台座は、それぞれ各前記リニア駆動器と連結され、各前記リニア駆動器は、それぞれ各前記位置決め台座を上下移動させるように駆動することに応じて、前記上研磨皿の頂縁側に接近したり離間したりし、各前記導流管は、それぞれ各前記位置決め台座に位置決めされ、各前記導流管は、それぞれ流体ソースに連通され、かつ各前記導流管は、それぞれ各前記分流器と上下相対するように形成され、各前記位置決め台座を下降させるとき、各前記導流管は、それぞれ各前記分流器に連通され、各前記位置決め台座を上昇させるとき、各前記導流管は、それぞれ各前記分流器から離脱し、各前記分流器は、別個の円形経路に沿って間隔を隔てて配置され、個々の前記分流器は、それぞれ数本の前記輸送管と対応連結され、各前記輸送管は、それぞれ前記上研磨皿の内部の数個の通路のうちの１個の前記通路に連通され、各前記通路は、それぞれ前記上研磨皿の底端まで延在している。
【０００６】
研磨工程の完了後、各前記リニア駆動器は、それぞれ各前記位置決め台座を前記上研磨皿の頂縁側に向かって下降させるように駆動し、各前記導流管は、それぞれ各前記分流器に連通され、その後、前記流体が各前記導流管を通過して各前記分流器に進入し、前記流体が各前記分流器の内部に分流して流れ込んで、各前記輸送管及び各前記通路を通過して前記上研磨皿と前記ウェハ薄板との間に解放され、前記流体が前記上研磨皿と前記ウェハ薄板との相互の吸着状態を解除すると共に、前記上研磨皿と前記ウェハ薄板とに対してそれぞれ押し突き当て作用を形成し、前記ウェハ研磨設備は、前記上研磨皿の上昇及び下降を制動する駆動装置の作動に合わせるために用いられ、前記上研磨皿を上昇させるように制御し、かつ前記ウェハ薄板を前記上研磨皿に伴って上昇させないようにし、前記上研磨皿及び前記ウェハ薄板を上下分離する。
【０００７】
前記流体をバランスよく前記上研磨皿の底縁に多点解放させることが可能となるために、各前記分流器は、それぞれ前記円形経路に沿って間隔を隔てて配置され、かつ前記上研磨皿の軸方向が延伸して前記円形経路の径方向中心を通過し、各前記位置決め台座は、各前記分流器に合わせて間隔を隔てて配置されると共に、各前記分流器と上下相対しており、各前記位置決め台座及び各前記導流管の配置を複雑化させることになる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
各前記導流管の末端にそれぞれ弾性を有するカバー体が形成され、各前記導流管が下降すると共に、各前記分流器に連通されるとき、各前記カバー体は、それぞれ各前記分流器に押圧当止されて密接状態を形成し、前記流体が各前記導流管及び各前記カバー体を通過して各前記分流器に進入するとき、前記流体の動圧力によって各前記カバー体が相対応の各前記分流器から離脱してしまうことがないように、各前記カバー体は、使用につれて弾性変形及び形状復元が長期にわたり繰り返され、弾性疲労が次第に生じていき、前記カバー体を構成する弾性材料が時間の経過につれて脆化することで、各前記カバー体を適時に交換させ得る必要があり、しかし、多数の前記位置決め台座及び多数の前記導流管は、円形経路に沿って間隔を隔てて配置され、オペレーターは、必ず前記上研磨皿の径方向外部を取り囲むように移動しなければならず、逐次に各前記導流管又は各前記カバー体をメンテナンス又は交換し、メンテナンス及び組立部品交換の不便さを形成している。
【０００９】
本発明は、ウェハ研磨設備の真空除去用流体制御装置を提供することを主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前述の目的を達成するために、本発明は、以下の技術的解決策を採用している。
（【００１１】以降は省略されています）

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