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公開番号2025019845
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-02-07
出願番号2023123693
出願日2023-07-28
発明の名称洗浄処理装置
出願人信越半導体株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類B24B 53/017 20120101AFI20250131BHJP(研削;研磨)
要約【課題】ホーン型の超音波発生装置を備える場合であっても、ホーンと研磨布との間隔を高精度に維持して超音波洗浄が可能なものとなる洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】上面に研磨布109が貼り付けられた下定盤101と、下定盤101の内側に設けられたサンギヤ105と、下定盤101の外側に設けられたインターナルギヤ107とを有する研磨装置100の研磨布109に供給された洗浄液に超音波を伝播させるホーン型の超音波発生装置5を備える洗浄処理装置1であって、サンギヤ105とインターナルギヤ107上に下定盤101を跨ぐように固定され、超音波発生装置5が搭載されるレール3を備え、超音波発生装置5は、レール3上を移動可能なものであり、レール3上を超音波発生装置5が移動しながらホーンで超音波を発生させ、洗浄液を介して研磨布109に伝播させることで超音波洗浄を行う洗浄処理装置1。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
上面に研磨布が貼り付けられた下定盤と、前記下定盤の内側に設けられたサンギヤと、前記下定盤の外側に設けられたインターナルギヤとを有する研磨装置の前記研磨布に供給された洗浄液に超音波を伝播させるホーン型の超音波発生装置を備え、前記研磨布を超音波洗浄する洗浄処理装置であって、
前記サンギヤと前記インターナルギヤ上に前記下定盤を跨ぐように固定され、前記超音波発生装置が搭載されるレールを備え、
前記超音波発生装置は、前記レール上を移動可能なものであり、
前記レール上を前記超音波発生装置が移動しながらホーンで超音波を発生させ、発生した超音波を、前記洗浄液を介して前記研磨布に伝播させることで超音波洗浄を行うものであることを特徴とする洗浄処理装置。
続きを表示（約 580 文字）【請求項２】
前記レールは、
前記サンギヤ及び前記インターナルギヤと接する面に設けられたギヤ固定穴を有し、前記ギヤ固定穴を通して前記サンギヤ及び前記インターナルギヤに固定されたものであることを特徴とする請求項１に記載の洗浄処理装置。
【請求項３】
前記レールは、
前記超音波発生装置の前記ホーンと前記研磨布の高さ方向の間隔を前記サンギヤまたは前記インターナルギヤを上下させることで調節可能なものであることを特徴とする請求項１に記載の洗浄処理装置。
【請求項４】
前記超音波発生装置は、
前記下定盤が回転した状態で前記レール上をサンギヤ方向またはインターナルギヤ方向へ移動可能なものであることを特徴とする請求項１～３のいずれか一項に記載の洗浄処理装置。
【請求項５】
前記レールの材質がステンレスまたはチタンであることを特徴とする請求項１に記載の洗浄処理装置。
【請求項６】
前記超音波発生装置の前記ホーンの材質はステンレスまたはチタンであることを特徴とする請求項１に記載の洗浄処理装置。
【請求項７】
前記ホーンと前記研磨布の間が水封されるように前記洗浄液を前記研磨布上に供給する洗浄液供給ノズルを備えることを特徴とする請求項１に記載の洗浄処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄処理装置に関する。
続きを表示（約 1,400 文字）【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体ウェーハの研磨工程において、発泡ポリウレタンパッド等の研磨布を使用してウェーハを研磨していくと研磨布の発泡した部分の内部にスラリー凝集物や、ウェーハから生じる研磨残渣が蓄積していく。
【０００３】
これらの蓄積物が研磨布内部まで溜まり、固形化してしまうことで、研磨中のウェーハの表面にキズを発生させる要因となっている。また、研磨布ライフはウェーハ品質悪化によって決められており、蓄積物により研磨布ライフの低下が問題となっている。そのため、研磨布内部から十分に蓄積物を除去することができる研磨布洗浄方法が望まれていた。
【０００４】
特許文献１には洗浄液を研磨布に向けて高圧噴射する洗浄や流水式の超音波発生装置を用いて、研磨布表面をコンディショニングする方法が記載されている。また特許文献２にはホーン型の超音波発生装置を用いて研磨布表面を洗浄する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２００８－１４２８５１号公報
特開２００３－２８２５０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
研磨布上や内部に付着した異物を除去するのに特許文献２に記載のような超音波洗浄は効果的だが、より効果的な周波数や出力を維持するには超音波発生装置はホーン型で周波数が１００ｋＨｚ以下で振幅が１０μｍ以上のものを使用するのが良い。
【０００７】
しかし、この条件を満たすような装置は筐体や重量が大きく、特許文献１のように先端に超音波発生装置を取り付けたハンドを定盤外から差し込む形状ではハンドの剛性が足りず、歪みや振動が発生してしまい研磨布と超音波発生装置のホーンの間隔を維持できず、接触の危険や期待する洗浄効果が得られないと言った問題があった。
【０００８】
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、ホーン型の超音波発生装置を備える場合であっても、ホーンと研磨布との間隔を高精度に維持して超音波洗浄が可能なものとなる洗浄処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記目的を達成するためになされたものであり、上面に研磨布が貼り付けられた下定盤と、前記下定盤の内側に設けられたサンギヤと、前記下定盤の外側に設けられたインターナルギヤとを有する研磨装置の前記研磨布に供給された洗浄液に超音波を伝播させるホーン型の超音波発生装置を備え、前記研磨布を超音波洗浄する洗浄処理装置であって、前記サンギヤと前記インターナルギヤ上に前記下定盤を跨ぐように固定され、前記超音波発生装置が搭載されるレールを備え、前記超音波発生装置は、前記レール上を移動可能なものであり、前記レール上を前記超音波発生装置が移動しながらホーンで超音波を発生させ、発生した超音波を、前記洗浄液を介して前記研磨布に伝播させることで超音波洗浄を行うものであることを特徴とする洗浄処理装置を提供する。
【００１０】
このような超音波発生装置によれば、サンギヤとインターナルギヤ上に下定盤を跨ぐようにレールを固定して超音波発生装置を搭載することで、レールを介して超音波発生装置をサンギヤとインターナルギヤの両方に保持させる。
（【００１１】以降は省略されています）

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