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公開番号2025052798
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-07
出願番号2023161707
出願日2023-09-25
発明の名称基板処理装置および物品製造方法
出願人キヤノン株式会社
代理人弁理士法人大塚国際特許事務所
主分類G03F 9/00 20060101AFI20250328BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】ステージが移動している場合においても基板を正確に処理するために有利な技術を提供する。
【解決手段】基板を対象として所定処理を実行する基板処理装置は、前記基板を保持するステージを駆動する駆動部と、第1周波数で動作し、前記駆動部を制御する第1制御部と、前記第1周波数より高い第2周波数で動作し、前記ステージの位置に基づいて指令を発生する第2制御部と、前記指令に応答して前記所定処理、又は前記所定処理のための準備処理を実行するためのデバイスと、を備える。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項１】
基板を対象として所定処理を実行する基板処理装置であって、
前記基板を保持するステージを駆動する駆動部と、
第１周波数で動作し、前記駆動部を制御する第１制御部と、
前記第１周波数より高い第２周波数で動作し、前記ステージの位置に基づいて指令を発生する第２制御部と、
前記指令に応答して前記所定処理、又は前記所定処理のための準備処理を実行するためのデバイスと、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
続きを表示（約 870 文字）【請求項２】
前記ステージの位置を計測する計測器を更に備え、
前記第２制御部は、前記計測器の出力に基づいて前記デバイスに対して前記指令を送る、
ことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記計測器は、干渉計またはエンコーダを含む、
ことを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記第１制御部は、前記第１周波数で前記計測器の出力を取り込み、前記第１周波数で前記駆動部に対する指令値を生成する、
ことを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記デバイスは、前記準備処理を実行するための光学デバイスを制御する制御部を含む、
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記光学デバイスは、前記基板のマークの位置を検出するためのスコープを制御する制御部を含む、
ことを特徴とする請求項５に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記第２周波数は、前記指令に基づいて前記スコープが前記マークを撮像することができるように決定されている、
ことを特徴とする請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記デバイスの出力に基づいて、前記基板が位置決めされるように前記第１制御部を制御する主制御部を更に備える、
ことを特徴とする請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記デバイスの出力に基づいて、前記基板に転写すべきパターンを有する原版と前記基板とが位置合わせされるように前記第１制御部を制御する主制御部を更に備える、
ことを特徴とする請求項６に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記所定処理は、前記基板に対して前記パターンを転写する処理を含む、
ことを特徴とする請求項９に記載の基板処理装置。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板処理装置および物品製造方法に関する。
続きを表示（約 1,800 文字）【背景技術】
【０００２】
基板ステージ装置において、基板の位置は、ステージの位置と、スコープ（カメラ）を使って検出される基板上のマークの位置（スコープの視野における相対位置）とに基づいて検出されうる。近年、スループットの向上を目的として、ステージを移動させながら基板の位置が計測されうる。
【０００３】
しかしながら、ステージを移動させながら基板の位置を検出する場合、マークがスコープの視野に入った瞬間にマークを撮像する必要がある。高倍率のスコープを使用した場合、視野が暗くなるため、より高速にステージを移動させながら基板の位置を検出するためには、高輝度な照明が必要となる。このため、複数の発光ダイオード（ＬＥＤ）を使ってストロボ撮影を行う方法が考えられるが、ストロボ撮影を行う場合、複数のＬＥＤ管の発光タイミングのずれによって画像にずれが生じうる。特許文献１には、複数のＬＥＤの出射タイミングが同じになるように発光トリガの時間を補正することが記載されている。
【０００４】
また、ステージを駆動しながら基板の位置を検出する場合、マークの撮像時間が長いとマークの画像が伸びてしまうという問題がある。これに関して、特許文献２には、マークが検出範囲内にあるときに短い時間のゲート信号を出し、マークの瞬間像を撮像する方法が記載されている。さらに、基板の配置誤差によってマークが視野から外れ、撮像できなくなるという問題がある。これに関して、特許文献３には、予めマーク計測部に対する基板の位置ずれ量の平均値を算出し、位置ずれ量の許容値を外れた場合にカメラ部の位置を調整する方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２００７－１０７３４号公報
特開２０１５－２３３１０６号公報
特開２００７－１０７３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、ステージを移動させながら基板の位置を検出する場合、従来の装置では、ステージ制御ボードのステージ制御周波数の単位でしか撮像指令を出せないため、理想的な撮像指令のタイミングに対して実際の撮像指令のタイミングがずれてしまう。撮像指令のタイミングがずれることによって、マークがスコープの視野から外れてしまい、マークを撮像することができない。よって、従来は、ステージが移動している場合において基板を正確に処理することが難しかった。
【０００７】
本発明は、ステージが移動している場合においても基板を正確に処理するために有利な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の１つの側面は、基板を対象として所定処理を実行する基板処理装置に係り、前記基板処理装置は、前記基板を保持するステージを駆動する駆動部と、第１周波数で動作し、前記駆動部を制御する第１制御部と、前記第１周波数より高い第２周波数で動作し、前記ステージの位置に基づいて指令を発生する第２制御部と、前記指令に応答して前記所定処理、又は前記所定処理のための準備処理を実行するためのデバイスと、を備える。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、ステージが移動している場合においても基板を正確に処理するために有利な技術が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
第１実施形態の露光装置の構成を示す図。
第１実施形態の露光装置における基板ステージの位置制御に関連する構成を示す図。
第１実施形態の露光装置においてマークの位置を検出する検出処理の流れを例示する図。
第２実施形態の露光装置における基板ステージの位置制御に関連する構成を示す図。
第３実施形態の露光装置における基板ステージの位置制御に関連する構成を示す図。
第１マーク検出系および第２マーク検出系のスコープの視野とマークとの関係を例示する図。
第４実施形態の基板処理装置としてのレーザ照射システムの構成例を示す図。
第４実施形態のレーザ照射システムにおける基板ステージの位置制御に関連する構成を示す図。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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