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公開番号2025049765
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-04
出願番号2023158149
出願日2023-09-22
発明の名称光モジュール
出願人住友電気工業株式会社
代理人個人,個人,個人,個人
主分類G01S 7/481 20060101AFI20250327BHJP(測定;試験)
要約【課題】走査範囲の拡大に伴う走査歪みの影響を低減可能な光モジュールを提供する。
【解決手段】一実施形態に係る光モジュールは、光源部と、光源部から出力されたレーザ光を走査する走査部と、光源部および走査部が搭載される主面を有する支持部材と、光源部、走査部及び支持部材を収容するとともに、走査部によって走査されたレーザ光を出力する窓部を有する収容部とを備え、走査部は、走査ミラーと、走査ミラーを第1揺動軸の周りに駆動する駆動機構とを有し、第1平面は、走査ミラーが駆動停止されている状態において、走査ミラーに入射するレーザ光の光軸と、走査ミラーで反射したレーザ光の光軸を含む平面であり、第2平面は、走査ミラーが駆動停止されている状態において、第1平面と直交するとともに第1揺動軸を含む平面であり、走査ミラーは、第2平面に対して傾斜しておりレーザ光を反射する傾斜面を有する。
【選択図】図4

特許請求の範囲【請求項１】
光源部と、
前記光源部から出力されたレーザ光を走査する走査部と、
前記光源部および前記走査部が搭載される主面を有する支持部材と、
前記光源部、前記走査部及び前記支持部材を収容するとともに、前記走査部によって走査された前記レーザ光を出力する窓部を有する収容部と、
を備え、
前記走査部は、
走査ミラーと、
前記走査ミラーを第１揺動軸の周りに駆動する駆動機構と、
を有し、
第１平面は、前記走査ミラーが駆動停止されている状態において、前記走査ミラーに入射する前記レーザ光の光軸と、前記走査ミラーによって反射された前記レーザ光の光軸を含む平面であり、
第２平面は、前記走査ミラーが駆動停止されている状態において、前記第１平面と直交するとともに前記第１揺動軸を含む平面であり、
前記走査ミラーは、前記第２平面に対して傾斜しており前記レーザ光を反射する傾斜面を有する、
光モジュール。
続きを表示（約 690 文字）【請求項２】
前記走査ミラーは、前記第１揺動軸に沿って並列配置された複数の前記傾斜面を有する、
請求項１に記載の光モジュール。
【請求項３】
前記駆動機構は、前記第１揺動軸に直交する第２揺動軸の周りに前記走査ミラーを駆動可能に構成されている、
請求項１に記載の光モジュール。
【請求項４】
前記傾斜面に入射する前記レーザ光の前記第２平面の法線に対する角度をθ（°）とし、前記傾斜面の前記第２平面に対する傾斜角をφとしたとき、前記走査部は、前記走査ミラーが駆動停止されている状態において、前記φが式（１）を満たすように配置されている、
請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光モジュール。
φ（θ）＝ａθ
２
＋ｂθ＋ｃ・・・（１）
式（１）において、ａ＝－０．００３０３２、ｂ＝０．７９６１３４、ｃ＝－０．８７９８５０である。
【請求項５】
前記走査ミラーが駆動停止されている状態において、前記第２平面は前記主面と傾斜して配置され、前記傾斜面は前記主面と平行に配置されている、
請求項１に記載の光モジュール。
【請求項６】
前記走査ミラーが駆動停止されている状態において、前記第２平面は前記主面と平行に配置されている、
請求項１に記載の光モジュール。
【請求項７】
前記走査ミラーが駆動停止されている状態において、前記第２平面と前記傾斜面は前記主面と傾斜して配置されている、
請求項１に記載の光モジュール。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、光モジュールに関する。
続きを表示（約 2,200 文字）【背景技術】
【０００２】
光モジュールとして、光源部から出力された光を、走査部で走査しながら出力する光モジュールが知られている（例えば、特許文献１から特許文献４）。上記走査部の例は、ＭＥＭＳ（ＭｉｃｒｏＥｌｅｃｔｒｏＭｅｃｈａｎｉｃａｌＳｙｓｔｅｍs）である。走査された光を出力する光モジュールは、描画装置、検知装置などに適用される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２００４－１７０９６５号公報
国際公開第２０１８／１０１２２６号
特開２０１８－７２０９７号公報
特開２０１８－９１６３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
光を走査部で走査する場合、走査歪みが発生する。特に、走査範囲を広げた場合に、走査歪みの影響が大きくなり易い。
【０００５】
本開示は、走査範囲の拡大に伴う走査歪みの影響を低減可能な光モジュールを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
一実施形態に係る光モジュールは、光源部と、前記光源部から出力されたレーザ光を走査する走査部と、前記光源部および前記走査部が搭載される主面を有する支持部材と、前記光源部、前記走査部及び前記支持部材を収容するとともに、前記走査部によって走査された前記レーザ光を出力する窓部を有する収容部と、を備え、前記走査部は、走査ミラーと、前記走査ミラーを第１揺動軸の周りに駆動する駆動機構と、を有し、第１平面は、前記走査ミラーが駆動停止されている状態において、前記走査ミラーに入射する前記レーザ光の光軸と、前記走査ミラーによって反射された前記レーザ光の光軸を含む平面であり、第２平面は、前記走査ミラーが駆動停止されている状態において、前記第１平面と直交するとともに前記第１揺動軸を含む平面であり、前記走査ミラーは、前記第２平面に対して傾斜しており前記レーザ光を反射する傾斜面を有する。
【発明の効果】
【０００７】
本開示によれば、走査範囲の拡大に伴う走査歪みの影響を低減可能な光モジュールを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
図１は、一実施形態に係る光モジュールを適用した検知装置の模式図である。
図２は、一実施形態に係る光モジュールの斜視図である。
図３は、図１に示された光モジュールにおいてカバーが取り外された状態の平面図である。
図４は、図３に示した光モジュール１を側方からみた場合の模式図である。
図５は、第１平面を説明するための模式図である。
図６は、第２平面を説明するための模式図である。
図７は、ＭＥＭＳ（走査部）の平面図である。
図８は、ＭＥＭＳが有する走査ミラーの側面図である。
図９は、ＭＥＭＳの配置条件の一例を説明するための模式図である。
図１０は、ＭＥＭＳの第１配置例を説明するための模式図である。
図１１は、ＭＥＭＳの第２配置例を説明するための模式図である。
図１２は、ＭＥＭＳの第３配置例を説明するための模式図である。
図１３は、走査ミラーが傾斜面を有しない場合のＭＥＭＳの参考配置例を示す模式図である。
図１４は、走査される検知レーザ光の走査線に走査歪みが生じている場合の検知例を説明するための模式図である。
図１５は、走査される検知レーザ光の走査線走査歪みが生じていない場合の検知例を説明するための模式図である。
図１６は、走査歪みが存在しない場合における、走査ミラーが駆動停止状態における第２平面の法線と検知レーザ光との間の角度θと、第２平面に対する第１傾斜面の傾斜角φとの関係を示すグラフである。
図１７は、２軸ＭＥＭＳの一例の概略構成を示す模式図である。
図１８は、光モジュールの変形例を説明するための模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
［本開示の実施形態の説明］
最初に、本開示の実施形態の内容を列記して説明する。
【００１０】
［１］一実施形態に係る光モジュールは、光源部と、前記光源部から出力されたレーザ光を走査する走査部と、前記光源部および前記走査部が搭載される主面を有する支持部材と、前記光源部、前記走査部及び前記支持部材を収容するとともに、前記走査部によって走査された前記レーザ光を出力する窓部を有する収容部と、を備え、前記走査部は、走査ミラーと、前記走査ミラーを第１揺動軸の周りに駆動する駆動機構と、を有し、第１平面は、前記走査ミラーが駆動停止されている状態において、前記走査ミラーに入射する前記レーザ光の光軸と、前記走査ミラーによって反射された前記レーザ光の光軸を含む平面であり、第２平面は、前記走査ミラーが駆動停止されている状態において、前記第１平面と直交するとともに前記第１揺動軸を含む平面であり、前記走査ミラーは、前記第２平面に対して傾斜しており前記レーザ光を反射する傾斜面を有する。
（【００１１】以降は省略されています）

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