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公開番号2025044041
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-04-01
出願番号2023151720
出願日2023-09-19
発明の名称露光装置および露光方法
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人個人
主分類G03F 7/20 20060101AFI20250325BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】ステージの変位量を検出するレーザ変位計のWDを小さくすることができる技術を提供する。
【解決手段】露光装置は、ステージ2と、ステージ移動機構3と、露光ヘッド51と、第1反射面710と、第1変位計61とを備える。ステージ2は、基板Wを支持する上面2Sを有する。ステージ移動機構3は、ステージ2をY方向に移動させる。露光ヘッド51は、ステージ2の上面2Sに支持された基板Wに向けて光を照射可能である。第1反射面710は、ステージ2とともに移動可能であり、-Y方向に向かって+Z方向に傾斜している。第1変位計61は、第1反射面710のY方向における変位量を検出可能である。第1変位計61は、第1反射面710に対して、+Z方向に離れた位置からレーザ光を投射可能であるレーザ光源611と、第1反射面710で反射したレーザ光の反射光を検出可能である検出器614とを有する。
【選択図】図1

特許請求の範囲【請求項１】
露光装置であって、
基板を支持する支持面を有するステージと、
前記ステージを既定の移動方向に移動させるステージ移動機構と、
前記ステージの前記支持面に支持された前記基板に向けて光を照射可能な露光ヘッドと、
前記ステージとともに移動可能であり、第１方向に向かって前記第１方向と交差する第２方向に傾斜した１個以上の反射面と、
前記１個以上の反射面の前記第１方向における変位量を検出可能な光学式変位計と、
を備え、
前記光学式変位計は、
前記反射面に対して、前記第２方向に離れた位置からレーザ光を投射可能であるレーザ光源と、
前記反射面で反射した前記レーザ光の反射光を検出可能である検出器と、
を有する、露光装置。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
請求項１に記載の露光装置であって、
前記１個以上の反射面は、前記支持面上に固定されており、
前記光学式変位計は、支持面よりも上方から前記反射面に前記レーザ光を投射する、露光装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の露光装置であって、
前記１個以上の反射面は、前記移動方向に配列された複数個の第１反射面を含み、
前記光学式変位計は、
各前記第１反射面の前記第１方向における変位量を検出可能な第１変位計、
を含む、露光装置。
【請求項４】
請求項３に記載の露光装置であって、
前記１個以上の反射面は、
前記移動方向に配列された複数個の第２反射面、
をさらに含み、
各前記第２反射面は、各前記第１反射面に対して、前記移動方向と交差する第３方向に離れて位置し、
各前記第２反射面は、前記移動方向において、互いに隣接する２個の前記第１反射面の間に位置し、
前記光学式変位計は、
各前記第２反射面の前記第１方向における変位量を検出可能な第２変位計、
を含む、露光装置。
【請求項５】
請求項４に記載の露光装置であって、
前記第１方向は、前記移動方向と平行な方向である、露光装置。
【請求項６】
請求項４に記載の露光装置であって、
前記第１方向は、前記移動方向と交差する方向である、露光装置。
【請求項７】
請求項１または請求項２に記載の露光装置であって、
前記光学式変位計によって測定された測定データと、正常データとを比較することにより、前記測定データに異常がないか判定する判定部、
をさらに備える、露光装置。
【請求項８】
露光方法であって、
ａ）ステージの支持面で基板を支持する工程と、
ｂ）前記ステージを既定の移動方向に移動させる工程と、
ｃ）前記工程ｂ）によって移動される前記ステージの前記支持面に支持された前記基板に光を照射する工程と、
ｄ）前記ステージとともに移動する１個以上の反射面の変位量を、光学式変位計によって検出する工程と、
を含み、
前記反射面は、第１方向に向かって前記第１方向と交差する第２方向に傾斜しており、
前記光学式変位計は、
前記反射面に対して前記第２方向に離れた位置からレーザ光を投射するレーザ光源と、
前記反射面で反射した前記レーザ光の反射光を検出する前記光学式変位計の検出器と、
を有する、露光方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本明細書で開示される主題は、露光装置および露光方法に関する。
続きを表示（約 1,600 文字）【背景技術】
【０００２】
例えば半導体ウエハやガラス基板などの基板にパターンを形成する方法として、光照射により直接描画を行う露光装置が知られている。この種の露光装置では、レジストなどの感光層が形成された基板がステージに保持され、ステージを主走査方向に移動させる。そして、ステージの主走査方向の位置に応じて、パターン光が露光ヘッドから出射されることにより、感光層に所定のパターンが描画される。
【０００３】
このような露光装置においてステージを移動させた際、ステージが蛇行するなどして、ステージが予期しない方向へ変位する場合がある。このような変位が生じると、指定通りにパターンが形成されず、パターンに歪みが生じる場合があった。そこで、ステージの予期せぬ変位を補正する技術がこれまでにも提案されている。
【０００４】
例えば、特許文献１は、マスクの座標を高精度にコントロールするマスクステージを開示している。具体的には、マスクが載置されるマスクテーブル上にバーミラーが固定されており、定盤に固定されたレーザ干渉計によってバーミラーの位置が測定されることにより、マスクテーブルの位置が検出される。バーミラーには、マスクまでの距離または変位量を測定するセンサが取り付けられている。マスクが載置されたマスクテーブルを移動させた際、レーザ干渉計によって計測された位置情報が、センサ手段により検出された距離情報または変位情報を用いて補正される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
特開２０１６－１００５４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１では、レーザ干渉計は、マスクテーブルの変位量を測定したい方向に沿ってレーザ光を投射するように配置されている。このため、レーザ干渉計の測定範囲が大きくなると、レーザ光のＷＤ（ワークディスタンス）を長くなる。ＷＤが長くなると、レーザ光が空気の揺らぎや温度ムラなどの影響を受けやすくなるため、測定精度が低下するおそれがあった。また、ＷＤが長いレーザ干渉計は、高出力のレーザや複雑な光学系が必要となる場合があり、一般的に高額である。このため、装置コストが著しく増加してしまうという課題もあった。
【０００７】
本発明の目的は、ステージの変位量を検出するレーザ変位計のＷＤを小さくすることができる技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、第１態様は、露光装置であって、基板を支持する支持面を有するステージと、前記ステージを既定の移動方向に移動させるステージ移動機構と、前記ステージの前記支持面に支持された前記基板に向けて光を照射可能な露光ヘッドと、前記ステージとともに移動可能であり、第１方向に向かって前記第１方向と交差する第２方向に傾斜した１個以上の反射面と、前記１個以上の反射面の前記第１方向における変位量を検出可能な光学式変位計と、を備え、前記光学式変位計は、前記反射面に対して、前記第２方向に離れた位置からレーザ光を投射可能であるレーザ光源と、前記反射面で反射した前記レーザ光の反射光を検出可能である検出器と、を有する。
【０００９】
第２態様は、第１態様の露光装置であって、前記１個以上の反射面は、前記支持面上に固定されており、前記光学式変位計は、支持面よりも上方から前記反射面に前記レーザ光を投射する。
【００１０】
第３態様は、第１態様または第２態様の露光装置であって、前記１個以上の反射面は、前記移動方向に配列された複数個の第１反射面を含み、前記光学式変位計は、各前記第１反射面の前記第１方向における変位量を検出可能な第１変位計、を含む。
（【００１１】以降は省略されています）

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