TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
10個以上の画像は省略されています。
公開番号2025013956
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-28
出願番号2024187266,2023106265
出願日2024-10-24,2009-12-15
発明の名称表示装置
出願人株式会社半導体エネルギー研究所
代理人
主分類H10D 86/40 20250101AFI20250121BHJP()
要約【課題】電気特性の制御された酸化物半導体層を用いて作製された抵抗素子及び薄膜トランジスタを利用した論理回路並びに該論理回路を利用した半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は、抵抗素子354に適用される酸化物半導体層905上にSiH4及びNH3等の水素化合物を含むガスを用いたプラズマCVD法によって形成された窒化シリコン層910が直接接するように設けられ、且つ、薄膜トランジスタ355に適用される酸化物半導体層906には、バリア層として機能する酸化シリコン層909を介して、窒化シリコン層910が設けられる。そのため、酸化物半導体層905には、酸化物半導体層906よりも高濃度に水素が導入される。結果として、抵抗素子354に適用される酸化物半導体層905の抵抗値が、薄膜トランジスタ355に適用される酸化物半導体層906の抵抗値よりも低くなる。
【選択図】図11
特許請求の範囲【請求項1】
第1の酸化物半導体層を抵抗成分に適用した抵抗素子と、
前記第1の酸化物半導体層よりも水素濃度が低い第2の酸化物半導体層をチャネル形成領域に適用した薄膜トランジスタと、
前記第2の酸化物半導体層上に設けられた酸化シリコン層と、
前記第1の酸化物半導体層及び前記酸化シリコン層上に設けられた窒化シリコン層と、を有する論理回路。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本発明は半導体特性を示す金属酸化物を用いて形成される素子で構成される駆動回路、
及び該駆動回路を利用した半導体装置に関する。なお、半導体装置とは半導体特性を利用
することで機能しうる装置全般を指し、表示装置、半導体回路および電子機器は全て半導
体装置である。
続きを表示(約 2,500 文字)【背景技術】
【0002】
金属酸化物は多様に存在しさまざまな用途に用いられている。酸化インジウムはよく知
られた材料であり、液晶ディスプレイなどで必要とされる透明電極材料として用いられて
いる。
【0003】
金属酸化物の中には半導体特性を示すものがある。半導体特性を示す金属酸化物は化合
物半導体の一種である。化合物半導体とは、2種以上の原子がイオン結合により結合して
できる半導体である。一般的に、金属酸化物は絶縁体となる。しかし、金属酸化物を構成
する元素の組み合わせによっては、静電引力が弱く半導体となることが知られている。
【0004】
例えば、金属酸化物の中で、酸化タングステン、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛な
どは半導体特性を示すことが知られている。このような金属酸化物で構成される透明半導
体層をチャネル形成領域とする薄膜トランジスタが開示されている(特許文献1乃至4、
非特許文献1)。
【0005】
ところで、金属酸化物は一元系酸化物のみでなく多元系酸化物も知られている。例えば
、ホモロガス相を有するInGaO

(ZnO)

(m:自然数)は公知の材料である(
非特許文献2乃至4)。
【0006】
そして、上記のようなIn-Ga-Zn系酸化物を薄膜トランジスタのチャネル形成領
域として適用可能であることが確認されている(特許文献5、非特許文献5及び6)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0007】
特開昭60-198861号公報
特開平8-264794号公報
特表平11-505377号公報
特開2000-150900号公報
特開2004-103957号公報
【非特許文献】
【0008】
M. W. Prins, K. O. Grosse-Holz, G. Muller, J. F. M. Cillessen, J. B. Giesbers, R. P. Weening, and R. M. Wolf、「A ferroelectric transparent thin-film transistor」、 Appl. Phys. Lett.、17 June 1996、 Vol.68 p.3650-3652
M. Nakamura, N. Kimizuka, and T. Mohri、「The Phase Relations in the In2O3-Ga2ZnO4-ZnO System at 1350℃」、J. Solid State Chem.、1991、Vol.93, p.298-315
N. Kimizuka, M. Isobe, and M. Nakamura、「Syntheses and Single-Crystal Data of Homologous Compounds, In2O3(ZnO)m(m=3,4, and 5), InGaO3(ZnO)3, and Ga2O3(ZnO)m(m=7,8,9, and 16) in the In2O3-ZnGa2O4-ZnO System」、 J. Solid State Chem.、1995、Vol.116, p.170-178
中村真佐樹、君塚昇、毛利尚彦、磯部光正、「ホモロガス相、InFeO3(ZnO)m(m:自然数)とその同型化合物の合成および結晶構造」、固体物理、1993年、Vol.28、No.5、p.317-327
K. Nomura, H. Ohta, K. Ueda, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono、「Thin-film transistor fabricated in single-crystalline transparent oxide semiconductor」、SCIENCE、2003、Vol.300、p.1269-1272
K. Nomura, H. Ohta, A. Takagi, T. Kamiya, M. Hirano, and H. Hosono、「Room-temperature fabrication of transparent flexible thin-film transistors using amorphous oxide semiconductors」、NATURE、2004、Vol.432 p.488-492
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0009】
半導体特性を示す金属酸化物(以下、酸化物半導体ともいう)を利用した薄膜トランジ
スタを、アクティブマトリクス型表示装置(液晶ディスプレイ、エレクトロルミネセンス
ディスプレイ、または電子ペーパー等)へ適用することが検討されている。アクティブマ
トリクス型表示装置は、マトリクス状に配置された数十万から数百万の画素と、画素にパ
ルス信号を入力する駆動回路と、を有する。
【0010】
アクティブマトリクス型表示装置において、薄膜トランジスタは各画素に設けられ、駆
動回路からのパルス信号が入力されることによってオン、オフの切り換えを行うスイッチ
ング素子として機能し、映像の表示を可能にしている。また、薄膜トランジスタは駆動回
路を構成する素子としても用いられている。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

個人
集積回路
10日前
個人
低ノイズ超高速イメージセンサ
9日前
日機装株式会社
半導体発光装置
21日前
日機装株式会社
半導体発光装置
21日前
日機装株式会社
半導体発光装置
21日前
ローム株式会社
半導体装置
15日前
ソニーグループ株式会社
光検出装置
10日前
三菱電機株式会社
半導体装置
21日前
個人
スーパージャンクションMOSFET
6日前
株式会社半導体エネルギー研究所
半導体装置
10日前
ローム株式会社
半導体集積回路
13日前
京セラ株式会社
受光モジュール
15日前
株式会社カネカ
太陽電池製造方法
今日
ローム株式会社
半導体装置
今日
株式会社半導体エネルギー研究所
発光デバイス
10日前
ローム株式会社
窒化物半導体装置
23日前
日亜化学工業株式会社
発光素子
10日前
ローム株式会社
発光装置
今日
ローム株式会社
半導体装置
23日前
サンケン電気株式会社
半導体装置
13日前
日亜化学工業株式会社
発光素子の製造方法
10日前
日亜化学工業株式会社
発光装置の製造方法
6日前
住友電気工業株式会社
半導体装置の製造方法
21日前
日亜化学工業株式会社
発光装置
13日前
日亜化学工業株式会社
発光装置
今日
住友電気工業株式会社
光センサ
10日前
日本特殊陶業株式会社
圧電素子
14日前
厦門普為光電科技有限公司
高光効率発光ダイオード光源
10日前
富士電機株式会社
半導体装置
10日前
ローム株式会社
半導体装置及び半導体回路
21日前
株式会社デンソー
半導体装置
10日前
株式会社デンソー
半導体装置
13日前
キオクシア株式会社
半導体装置
21日前
日本電気株式会社
量子デバイスおよびその製造方法
13日前
ミネベアパワーデバイス株式会社
半導体装置
13日前
ミネベアパワーデバイス株式会社
半導体装置
今日
続きを見る