特許ウォッチ

公開番号2025011947
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-24
出願番号2023114413
出願日2023-07-12
発明の名称電子材料用界面活性剤およびこれを用いた電子材料用洗浄剤
出願人日本乳化剤株式会社
代理人IBC一番町弁理士法人
主分類C11D 1/72 20060101AFI20250117BHJP(動物性または植物性油,脂肪,脂肪性物質またはろう;それに由来する脂肪酸;洗浄剤;ろうそく)
要約【課題】簡便な処理方法を用いて金属イオン濃度を十分に低減可能であって、しかも界面活性を有する化合物を含む電子材料用界面活性剤を提供する。
【解決手段】下記化学式1:
<com:Image com:imageContentCategory="Drawing"> <com:ImageFormatCategory>JPEG</com:ImageFormatCategory> <com:FileName>2025011947000009.jpg</com:FileName> <com:HeightMeasure com:measureUnitCode="Mm">5</com:HeightMeasure> <com:WidthMeasure com:measureUnitCode="Mm">151</com:WidthMeasure> </com:Image>
式中、Rは、炭素原子数6以上の直鎖状または分枝状のアルキル基を表し、AOは炭素原子数2～4の直鎖状または分枝状のオキシアルキレン基を表し、nは1以上の整数である、で表され、760mmHgにおける沸点が500℃以下である化合物を含み、金属イオンの含有量の合計が、1000質量ppb以下である、電子材料用界面活性剤。
【選択図】図1
特許請求の範囲【請求項１】
下記化学式１：
JPEG
2025011947000008.jpg
5
151
式中、Ｒは、炭素原子数６以上の直鎖状または分枝状のアルキル基を表し、
ＡＯは炭素原子数２～４の直鎖状または分枝状のオキシアルキレン基を表し、
ｎは１以上の整数である、
で表され、７６０ｍｍＨｇにおける沸点が５００℃以下である化合物を含み、金属イオンの含有量の合計が１０００質量ｐｐｂ以下である、電子材料用界面活性剤。
続きを表示（約 320 文字）【請求項２】
前記Ｒは、炭素原子数１３以下の直鎖状または分枝状のアルキル基である、請求項１に記載の界面活性剤。
【請求項３】
前記ｎは４以下の整数である、請求項１に記載の界面活性剤。
【請求項４】
前記金属イオンの含有量の合計が、２０質量ｐｐｂ以下である、請求項１に記載の界面活性剤。
【請求項５】
前記化合物の含有量が９０質量％以上である、請求項１に記載の界面活性剤。
【請求項６】
前記化合物が蒸留により精製された留分そのものである、請求項１に記載の界面活性剤。
【請求項７】
請求項１～６のいずれか１項に記載の界面活性剤を含む、電子材料用洗浄剤。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子材料用界面活性剤およびこれを用いた電子材料用洗浄剤に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
界面活性剤は、１分子中に疎水性基と親水性基とを有する化合物からなるものであり、上記の化合物が溶液内でミセル等を形成することで、極性物質と非極性物質とを均一に混合させる性質を有する。界面活性剤は、その性質から洗浄剤として種々の広範な用途に利用されている。これらの用途のうち、電子、半導体および精密加工分野等の電子材料に対して界面活性剤を使用する場合には、界面活性剤が金属汚染等されていると、その電子材料の形状や電気的特性に悪影響を及ぼすことがある。このような悪影響を防ぐためには、界面活性剤に含まれる金属イオン濃度をできるだけ低減することが要求される。
【０００３】
界面活性剤中の金属イオン濃度を低減する処理方法として、例えば、イオン交換膜を用いた電気透析による方法（特許文献１参照）、一般的な濃縮、晶析、抽出による方法の他に逆浸透膜や限外濾過膜による方法（特許文献２参照）、イオン交換樹脂と機能性フィルターとを組み合わせて用いる方法（特許文献３参照）、界面活性剤水性希釈溶液を、強酸性カチオン交換樹脂と強アルカリ性アニオン交換樹脂との混合樹脂にて処理するイオン交換法（特許文献４参照）などが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開昭６２－６３５５５号公報
特開平５－３１７６５４号公報
特開２００５－２１３２００号公報
特開２０１７－１３２７００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記の処理方法では、電子材料用界面活性剤について要求されるｐｐｂのレベルにまで金属イオン濃度を低減しようとすると、特殊な処理装置や煩雑な前処理が必要であった。
【０００６】
一方、有機化合物の処理方法として、蒸留による精製が挙げられる。蒸留を用いると、沸点の異なる化合物同士を容易に分離することができ、少ない工程で高い純度の化合物を得ることができる。このことから、界面活性剤を構成する化合物についても蒸留を用いて精製することによって金属イオン濃度が低減されるように思われる。しかしながら、これまでに使用されてきた電子材料用界面活性剤は、分子量が大きいことや、親水性基の存在などにより、沸点が高く蒸留による精製は困難であった。すなわち、蒸留という簡便な処理方法によって精製された化合物を電子材料用界面活性剤として用いることは未だ達成されていないのである。なお、上記とは逆に、蒸留による精製が可能であることが従来知られている化合物は、いずれも十分な界面活性を示さないことも判明した。
【０００７】
そこで本発明は、簡便な処理方法を用いて金属イオン濃度を十分に低減可能であって、しかも界面活性を有する化合物を含む電子材料用界面活性剤を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意検討を行った。その過程で、電子材料用界面活性剤として従来使用されてきた化合物と比較して、疎水性基および／または親水性基の分子量が小さい化合物であっても界面活性を有することを見出した。そしてそれらの化合物が、一般的に利用可能な蒸留操作の条件下において蒸留精製可能であることも見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００９】
すなわち、本発明は、以下の構成を有する。
（１）下記化学式１：
【００１０】
JPEG
2025011947000002.jpg
5
151
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許