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公開番号2025010352
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-20
出願番号2024192017,2022210810
出願日2024-10-31,2022-12-27
発明の名称基板処理装置および基板処理方法
出願人株式会社SCREENホールディングス
代理人個人,個人,個人
主分類H01L 21/304 20060101AFI20250109BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】基板処理のスループットを向上させることが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置1は、基板保持部10A,10Bおよびブラシ51を有する。基板保持部10A,10Bは、基板Wを保持する保持状態と、基板Wを保持することなく基板Wを載置可能な載置可能状態との間で移行可能である。ブラシ51は、基板保持部10A,10Bにより保持される基板Wに接触する洗浄位置と基板保持部10A,10Bよりも下方の待機位置との間で移動する。基板保持部10A,10Bが載置可能状態にありかつブラシ51が待機位置にある場合に、基板保持部が載置可能状態から保持状態に移行する保持移行動作と、およびブラシが待機位置から洗浄位置に移動するブラシ準備動作とが、少なくとも一部の期間が重複するように行われる。
【選択図】図9

特許請求の範囲【請求項１】
基板を保持可能に構成された基板保持部と、
前記基板保持部を、基板を保持する保持状態と、基板を保持することなく基板を載置可能な載置可能状態との間で移行させる保持駆動部と、
基板の下面に接触することにより前記下面を洗浄するブラシと、
前記ブラシを、前記保持状態にある前記基板保持部により保持された基板の前記下面に接触する洗浄位置と前記基板保持部よりも下方でかつ前記基板保持部により保持された基板から離間した待機位置との間で移動させることが可能に構成されたブラシ移動部と、
前記基板保持部が前記載置可能状態にありかつ前記ブラシが前記待機位置にある場合に、前記保持駆動部および前記ブラシ移動部を制御することにより、前記基板保持部が前記載置可能状態から前記保持状態に移行する保持移行動作、および前記ブラシが前記待機位置から前記洗浄位置に移動するブラシ準備動作を、前記保持移行動作の期間および前記ブラシ準備動作の期間の少なくとも一部が重複するように開始させる制御部とを備える、基板処理装置。
続きを表示（約 570 文字）【請求項２】
基板処理装置を用いた基板処理方法であって、
前記基板処理装置は、
基板を保持可能に構成された基板保持部と、
基板の下面に接触することにより前記下面を洗浄するブラシとを備え、
前記基板処理方法は、
前記基板保持部を、基板を保持する保持状態と、基板を保持することなく基板を載置可能な載置可能状態との間で移行させるステップと、
前記ブラシを、前記基板保持部により保持された基板の前記下面に接触する洗浄位置と前記基板保持部よりも下方でかつ前記基板保持部により保持された基板から離間した待機位置との間で移動させるステップとを含み、
前記基板保持部を移行させるステップは、前記基板保持部に、前記載置可能状態から前記保持状態に移行する保持移行動作を行わせることを含み、
前記ブラシを移動させるステップは、前記ブラシに、前記待機位置から前記洗浄位置に移動するブラシ準備動作を行わせることを含み、
前記基板保持部が前記載置可能状態にありかつ前記ブラシが前記待機位置にある場合に、前記保持移行動作の期間および前記ブラシ準備動作の期間の少なくとも一部が重複するように、前記基板保持部を移行させるステップおよび前記ブラシを移動させるステップが開始される、基板処理方法。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を洗浄する基板処理装置および基板処理方法に関する。
続きを表示（約 2,600 文字）【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置または有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等に用いられるＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、半導体基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等の各種基板に種々の処理を行うために、基板処理装置が用いられている。基板を洗浄するために、基板洗浄装置が用いられる。
【０００３】
例えば、特許文献１に記載された基板洗浄装置は、ウエハの裏面周縁部を保持する２つの吸着パッド、ウエハの裏面中央部を保持するスピンチャック、およびウエハの裏面を洗浄するブラシを備える。２つの吸着パッドがウエハを保持するとともに横方向に移動する。この状態で、ウエハの裏面中央部がブラシで洗浄される。その後、スピンチャックが吸着パッドからウエハを受け取り、スピンチャックがウエハの裏面中央部を保持しつつ回転する。この状態で、ウエハの裏面周縁部がブラシで洗浄される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特許第５９０４１６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記の基板洗浄装置においては、多数の基板が順次搬入および搬出されることにより、各基板に洗浄処理が行われる。そのため、一の基板の処理に要する期間を短くすることができれば、多数の基板について処理効率を大きく向上させることができる。したがって、基板洗浄装置においては、基板処理のスループットのさらなる向上が求められる。
【０００６】
本発明の目的は、基板処理のスループットを向上させることが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一局面に従う基板処理装置は、基板を保持可能に構成された基板保持部と、前記基板保持部を、基板を保持する保持状態と、基板を保持することなく基板を載置可能な載置可能状態との間で移行させる保持駆動部と、基板の下面に接触することにより前記下面を洗浄するブラシと、前記ブラシを、前記保持状態にある前記基板保持部により保持された基板の前記下面に接触する洗浄位置と前記基板保持部よりも下方でかつ前記基板保持部により保持された基板から離間した待機位置との間で移動させることが可能に構成されたブラシ移動部と、前記基板保持部が前記載置可能状態にありかつ前記ブラシが前記待機位置にある場合に、前記保持駆動部および前記ブラシ移動部を制御することにより、前記基板保持部が前記載置可能状態から前記保持状態に移行する保持移行動作、および前記ブラシが前記待機位置から前記洗浄位置に移動するブラシ準備動作を、前記保持移行動作の期間および前記ブラシ準備動作の期間の少なくとも一部が重複するように開始させる制御部とを備える。
【０００８】
本発明の他の局面に従う基板処理方法は、基板処理装置を用いた基板処理方法であって、前記基板処理装置は、基板を保持可能に構成された基板保持部と、基板の下面に接触することにより前記下面を洗浄するブラシとを備え、前記基板処理方法は、前記基板保持部を、基板を保持する保持状態と、基板を保持することなく基板を載置可能な載置可能状態との間で移行させるステップと、前記ブラシを、前記基板保持部により保持された基板の前記下面に接触する洗浄位置と前記基板保持部よりも下方でかつ前記基板保持部により保持された基板から離間した待機位置との間で移動させるステップとを含み、前記基板保持部を移行させるステップは、前記基板保持部に、前記載置可能状態から前記保持状態に移行する保持移行動作を行わせることを含み、前記ブラシを移動させるステップは、前記ブラシに、前記待機位置から前記洗浄位置に移動するブラシ準備動作を行わせることを含み、前記基板保持部が前記載置可能状態にありかつ前記ブラシが前記待機位置にある場合に、前記保持移行動作の期間および前記ブラシ準備動作の期間の少なくとも一部が重複するように、前記基板保持部を移行させるステップおよび前記ブラシを移動させるステップが開始される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、基板処理のスループットを向上させることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
本発明の一実施の形態に係る基板洗浄装置の模式的平面図である。
図１の基板洗浄装置の内部構成を示す外観斜視図である。
図１および図２の下チャックの外観斜視図である。
図１および図２の上チャックの外観斜視図である。
図１の基板洗浄装置の制御系統の構成を示すブロック図である。
図１の基板洗浄装置の動作の一例を説明するための模式図である。
図１の基板洗浄装置の動作の一例を説明するための模式図である。
図１の基板洗浄装置の動作の一例を説明するための模式図である。
図１の基板洗浄装置の動作の一例を説明するための模式図である。
図１の基板洗浄装置の動作の一例を説明するための模式図である。
図１の基板洗浄装置の動作の一例を説明するための模式図である。
図１の基板洗浄装置の動作の一例を説明するための模式図である。
図１の基板洗浄装置の動作の一例を説明するための模式図である。
図１の基板洗浄装置の動作の一例を説明するための模式図である。
図１の基板洗浄装置の動作の一例を説明するための模式図である。
図１の基板洗浄装置の動作の一例を説明するための模式図である。
図１の基板洗浄装置の動作の一例を説明するための模式図である。
図１の基板洗浄装置の動作の一例を説明するための模式図である。
他の実施の形態に係る基板洗浄装置の模式的平面図である。
図１９の基板洗浄装置の制御系統の構成を示すブロック図である。
【発明を実施するための形態】
（【００１１】以降は省略されています）

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