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公開番号2025009416
公報種別公開特許公報(A)
公開日2025-01-20
出願番号2023112413
出願日2023-07-07
発明の名称プラズマ処理装置
出願人東京エレクトロン株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類H05H 1/46 20060101AFI20250110BHJP(他に分類されない電気技術)
要約【課題】プラズマ処理装置において共振器のスロットにおける電界の強度分布を調整する技術を提供する。
【解決手段】開示されるプラズマ処理装置において、共振器は、中心軸線に対して同軸状に延在する内側部及び外側部と、中心軸線が延びる方向である鉛直方向に沿って互いに平行に配列された複数の導体板を含む。共振器は、複数の導体板と交互に配列された複数の層を有する導波路を提供する。複数の層の各々は、その上の層と内側部又は外側部に沿った箇所で接続されている。複数の導体板のうち最下部の導体板は、複数のスロットを有する。複数のスロットは、周方向に沿って配列されている。外側部において複数の層のうち最下層を囲む壁は、中心軸線に直交する断面において多角形の辺に沿って延在している。
【選択図】図1

特許請求の範囲【請求項１】
その内部において処理空間を提供するチャンバと、
前記処理空間内に設けられた基板支持部と、
前記基板支持部の上方に設けられた励起電極と、
前記励起電極の下のプラズマ生成空間に電磁波を放出するように設けられた放出部と、
前記励起電極上に設けられており、前記放出部と電磁的に結合された共振器と、
を備え、
前記放出部は、前記チャンバ及び前記励起電極の中心軸線の周りで延在しており、
前記共振器は、
前記中心軸線に対して同軸状に延在する内側部及び外側部と、
前記中心軸線が延びる方向である鉛直方向に沿って互いに平行に配列された複数の導体板と、
を含み、前記外側部と前記内側部との間で延び、且つ、前記複数の導体板と交互に配列された複数の層を含む導波路を提供し、
前記複数の層の各々は、前記複数の層のうちその上の層と前記内側部又は前記外側部に沿った複数の折り返し部のうちの一つにおいて接続されており、
前記複数の導体板のうち最下部の導体板は、前記放出部と電磁的に結合される複数のスロットを有し、
前記複数のスロットは、前記中心軸線に対して周方向に沿って配列されており、
前記外側部において前記複数の層のうち最下層を囲む壁は、前記中心軸線に直交する断面において多角形の辺に沿って延在している、
プラズマ処理装置。
続きを表示（約 670 文字）【請求項２】
前記複数のスロットの個数と前記多角形の複数の角の個数は同数である、請求項１に記載のプラズマ処理装置。
【請求項３】
前記多角形の前記複数の角の各々の位置と前記複数のスロットのうち対応のスロットの周方向における中心位置は、前記中心軸線に対して径方向において整列している、請求項２に記載のプラズマ処理装置。
【請求項４】
前記中心軸線と前記複数のスロットそれぞれの外縁との間の径方向の距離は、前記多角形の内接円の半径と略同一である、請求項１～３の何れか一項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項５】
前記最下層を囲む前記壁は、金属から形成された複数の板状体から構成されており、
前記複数の板状体はそれぞれ、前記多角形において複数の辺をそれぞれ構成する、
請求項１～３の何れか一項に記載のプラズマ処理装置。
【請求項６】
前記複数の板状体の各々の鉛直方向に延びる縁は、前記複数の板状体のうち対応する他の板状体の鉛直方向に延びる縁と前記多角形の対応する角において接続されている、請求項５に記載のプラズマ処理装置。
【請求項７】
前記複数の板状体は、前記多角形の角に間隙を提供するように互いから離間している、請求項５に記載のプラズマ処理装置。
【請求項８】
前記外側部において前記複数の層の各々を囲む壁が、前記中心軸線に直交する断面において多角形の辺に沿って延在している、請求項１～３の何れか一項に記載のプラズマ処理装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示の例示的実施形態は、プラズマ処理装置に関するものである。
続きを表示（約 2,000 文字）【背景技術】
【０００２】
プラズマ処理装置が基板の処理において用いられている。プラズマ処理装置の一種として、ＶＨＦ波又はＵＨＦ波である高周波を用いてガスを励起させるものが知られている。下記の特許文献１は、そのようなプラズマ処理装置を開示している。特許文献１のプラズマ処理装置は、処理容器、ステージ、上部電極、導入部、及び導波部を備える。ステージは、処理容器内に設けられている。上部電極は、ステージの上方に処理容器内の空間を介して設けられている。導入部は、高周波の導入部である。導入部は、空間の横方向端部に設けられており、処理容器の中心軸線の周りで周方向に延在している。導波部は、導入部に高周波を供給するように構成されている。導波部は、導波路を提供する共振器を含む。共振器の導波路は、中心軸線の周りで周方向に延び、中心軸線が延在する方向に延び、導入部に接続されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
特開２０２０－９２０３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本開示は、プラズマ処理装置において共振器のスロットにおける電界の強度分布を調整する技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
一つの例示的実施形態において、プラズマ処理装置が提供される。プラズマ処理装置は、チャンバ、基板支持部、励起電極、放出部、及び共振器を備える。チャンバは、その内部において処理空間を提供する。基板支持部は、処理空間内に設けられている。励起電極は、基板支持部の上方に設けられている。放出部は、励起電極の下のプラズマ生成空間に電磁波を放出するように設けられている。共振器は、励起電極上に設けられており、放出部と電磁的に結合されている。放出部は、チャンバ及び励起電極の中心軸線の周りで延在している。共振器は、中心軸線に対して同軸状に延在する内側部及び外側部と、中心軸線が延びる方向である鉛直方向に沿って互いに平行に配列された複数の導体板と、を含む。共振器は、外側部と内側部との間で延び、且つ、複数の導体板と交互に配列された複数の層を含む導波路を提供する。複数の層の各々は、該複数の層のうちその上の層と内側部又は外側部に沿った複数の折り返し部のうちの一つにおいて接続されている。複数の導体板のうち最下部の導体板は、放出部と電磁的に結合される複数のスロットを有する。複数のスロットは、中心軸線に対して周方向に沿って配列されている。外側部において複数の層のうち最下層を囲む壁は、中心軸線に直交する断面において多角形の辺に沿って延在している。
【発明の効果】
【０００６】
一つの例示的実施形態によれば、プラズマ処理装置において共振器のスロットにおける電界の強度分布を調整することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
一つの例示的実施形態に係るプラズマ処理装置を示す図である。
図１のＩＩ－ＩＩ線に沿ってとった断面図である。
別の例示的実施形態に係るプラズマ処理装置を示す図である。
図３のＩＶ－ＩＶ線に沿ってとった断面図である。
図３のＶ－Ｖ線に沿ってとった断面図である。
図３のＶＩ－ＶＩ線に沿ってとった断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、図面を参照して種々の例示的実施形態について詳細に説明する。なお、各図面において同一又は相当の部分に対しては同一の符号を附すこととする。
【０００９】
図１は、一つの例示的実施形態に係るプラズマ処理装置を示す図である。図２は、図１のＩＩ－ＩＩ線に沿ってとった断面図である。図１及び図２に示すプラズマ処理装置１は、チャンバ１０、基板支持部１２、励起電極１４、放出部１６、及び共振器３０を備えている。
【００１０】
チャンバ１０は、その内部において処理空間１０ｓを提供している。プラズマ処理装置１では、基板Ｗは、処理空間１０ｓの中で処理される。チャンバ１０は、アルミニウムのような金属から形成されており、接地されている。チャンバ１０は、側壁１０ａを有しており、その上端において開口されている。チャンバ１０及び側壁１０ａは、略円筒形状を有し得る。処理空間１０ｓは、側壁１０ａの内側に提供されている。チャンバ１０、側壁１０ａ、及び処理空間１０ｓの各々の中心軸線は、軸線ＡＸである。チャンバ１０は、その表面に耐腐食性を有する膜を有していてもよい。耐腐食性を有する膜は、酸化イットリウム膜、酸化フッ化イットリウム膜、フッ化イットリウム膜、酸化イットリウム、又はフッ化イットリウム等を含むセラミック膜であり得る。
（【００１１】以降は省略されています）

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