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公開番号
2024165075
公報種別
公開特許公報(A)
公開日
2024-11-28
出願番号
2023080916
出願日
2023-05-16
発明の名称
半導体装置
出願人
住友電気工業株式会社
代理人
弁理士法人片山特許事務所
主分類
H01L
25/00 20060101AFI20241121BHJP(基本的電気素子)
要約
【課題】小型化可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は、高周波信号が入力または出力する信号端子と、基準電位が供給される、上面が導電性であるベース55と、ベース上に搭載され、上面に設けられた信号パッドを有する半導体チップ25と、ベース上に搭載され、基板31と、基板の上面に設けられた第1導電体パターン32と、を備える配線部品34と、ベース上に搭載され、誘電体基板35と、誘電体基板の上面に設けられた第2導電体パターン36と、誘電体基板の上面に設けられ第2導電体パターンと分離された第3導電体パターン37と、を備える容量性部品39と、信号パッドと第1導電体パターンとを電気的に接続する第1ボンディングワイヤ41と、第1導電体パターンと第2導電体パターンとを電気的に接続する第2ボンディングワイヤ42と、第1導電体パターンと信号端子とを電気的に接続する第3ボンディングワイヤ43と、信号端子と第3導電体パターンとを電気的に接続する第4ボンディングワイヤ44と、を備える。
【選択図】図2
特許請求の範囲
【請求項1】
高周波信号が入力または出力する信号端子と、
基準電位が供給される、上面が導電性であるベースと、
前記ベース上に搭載され、上面に設けられた信号パッドを有する半導体チップと、
前記ベース上に搭載され、基板と、前記基板の上面に設けられた第1導電体パターンと、を備える配線部品と、
前記ベース上に搭載され、誘電体基板と、前記誘電体基板の上面に設けられた第2導電体パターンと、前記誘電体基板の上面に設けられ前記第2導電体パターンと分離された第3導電体パターンと、を備える容量性部品と、
前記信号パッドと前記第1導電体パターンとを電気的に接続する第1ボンディングワイヤと、
前記第1導電体パターンと前記第2導電体パターンとを電気的に接続する第2ボンディングワイヤと、
前記第1導電体パターンと前記信号端子とを電気的に接続する第3ボンディングワイヤと、
前記信号端子と前記第3導電体パターンとを電気的に接続する第4ボンディングワイヤと、
を備える半導体装置。
続きを表示(約 1,100 文字)
【請求項2】
前記誘電体基板、前記第2導電体パターンおよび前記ベースは第1キャパシタを形成し、
前記誘電体基板、前記第3導電体パターンおよび前記ベースは第2キャパシタを形成する請求項1に記載の半導体装置。
【請求項3】
前記第2導電体パターンの面積は、前記第3導電体パターンの面積より大きい請求項2に記載の半導体装置。
【請求項4】
前記第1ボンディングワイヤ、前記第2ボンディングワイヤおよび前記第1キャパシタは、ハイパス回路を形成し、
前記第3ボンディングワイヤ、前記第4ボンディングワイヤおよび前記第2キャパシタはローパス回路を形成する請求項3に記載の半導体装置。
【請求項5】
前記第1導電体パターンは、前記第1ボンディングワイヤおよび前記第3ボンディングワイヤが接合するベタパターンと、前記ベタパターンのうち前記半導体チップに近い端部に接続し、前記容量性部品の方に延伸する線路パターンと、を有し、前記第2ボンディングワイヤは、前記線路パターンのうち前記容量性部品に近い端部に接合する請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項6】
前記第3ボンディングワイヤの本数は前記第4ボンディングワイヤの本数より多い請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項7】
前記第2導電体パターンは、前記誘電体基板の上面に複数設けられ、
前記複数の第2導電体パターンにそれぞれ接続される複数の前記第2ボンディングワイヤは、前記第3ボンディングワイヤを挟むように設けられている請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項8】
前記第1ボンディングワイヤは複数設けられ、
1個の前記第1導電体パターンに接続される前記複数の第1ボンディングワイヤのうち前記第1ボンディングワイヤの配列方向における端部に位置する第1ボンディングワイヤは、前記複数の第1ボンディングワイヤのうち前記配列方向における中央部に位置する第1ボンディングワイヤより長い請求項7に記載の半導体装置。
【請求項9】
前記第3導電体パターンは、前記誘電体基板の上面に複数設けられ、
前記複数の第3導電体パターンにそれぞれ接続される複数の前記第4ボンディングワイヤは、前記第3ボンディングワイヤを挟むように設けられている請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の半導体装置。
【請求項10】
前記第1導電体パターンは、前記基板の上面に前記半導体チップと前記配線部品の配列方向に交差する方向に複数設けられている請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の半導体装置。
(【請求項11】以降は省略されています)
発明の詳細な説明
【技術分野】
【0001】
本発明は、半導体装置に関する。
続きを表示(約 4,300 文字)
【背景技術】
【0002】
半導体チップと、半導体チップと外部回路とのインピーダンスを整合させるための整合回路と、をベース上に実装することが知られている(例えば特許文献1)。整合回路には、ベース上に実装される容量性部品、配線部品およびボンディングワイヤが用いられる
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2014-96497号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
整合回路として、ハイパス回路とローパス回路を用いることが考えられる。この場合、ベース上に実装する部品点数が多くなり、大型化してしまう。
【0005】
本開示は、上記課題に鑑みなされたものであり、小型化可能な半導体装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0006】
本開示の一実施形態は、高周波信号が入力または出力する信号端子と、基準電位が供給される、上面が導電性であるベースと、前記ベース上に搭載され、上面に設けられた信号パッドを有する半導体チップと、前記ベース上に搭載され、基板と、前記基板の上面に設けられた第1導電体パターンと、を備える配線部品と、前記ベース上に搭載され、誘電体基板と、前記誘電体基板の上面に設けられた第2導電体パターンと、前記誘電体基板の上面に設けられ前記第2導電体パターンと分離された第3導電体パターンと、を備える容量性部品と、前記信号パッドと前記第1導電体パターンとを電気的に接続する第1ボンディングワイヤと、前記第1導電体パターンと前記第2導電体パターンとを電気的に接続する第2ボンディングワイヤと、前記第1導電体パターンと前記信号端子とを電気的に接続する第3ボンディングワイヤと、前記信号端子と前記第3導電体パターンとを電気的に接続する第4ボンディングワイヤと、を備える半導体装置である。
【発明の効果】
【0007】
本開示によれば、小型化可能な半導体装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0008】
図1は、実施例1に係る半導体装置の回路図である。
図2は、実施例1に係る半導体装置の平面図である。
図3は、図2のA-A断面図である。
図4は、図2のB-B断面図である。
図5は、図2のC-C断面図である。
図6は、回路Aにおける整合回路の回路図である。
図7は、回路Aにおけるインピーダンスの一例を示すスミスチャートである。
図8は、回路Bにおける整合回路の回路図である。
図9は、回路Bにおけるインピーダンスの一例を示すスミスチャートである。
図10は、比較例1に係る半導体装置の平面図である。
図11は、比較例2に係る半導体装置の平面図である。
図12は、比較例3に係る半導体装置の平面図である。
図13は、実施例1の変形例1に係る半導体装置の平面図である。
図14は、実施例1の変形例2に係る半導体装置の平面図である。
図15は、実施例1の変形例3に係る半導体装置の平面図である。
図16は、実施例1の変形例4に係る半導体装置の平面図である。
図17は、実施例2の半導体装置が用いられるドハティ増幅器の回路図である。
図18は、実施例2に係る半導体装置の平面図である。
図19は、回路Aを整合回路66に用いたときのインピーダンスZ1およびZ2を示すスミスチャートである。
図20は、回路Bを整合回路66に用いたときのインピーダンスZ1およびZ2を示すスミスチャートである。
【発明を実施するための形態】
【0009】
[本開示の実施形態の説明]
最初に本開示の実施形態の内容を列記して説明する。
(1)本開示の一実施形態は、高周波信号が入力または出力する信号端子と、基準電位が供給される、上面が導電性であるベースと、前記ベース上に搭載され、上面に設けられた信号パッドを有する半導体チップと、前記ベース上に搭載され、基板と、前記基板の上面に設けられた第1導電体パターンと、を備える配線部品と、前記ベース上に搭載され、誘電体基板と、前記誘電体基板の上面に設けられた第2導電体パターンと、前記誘電体基板の上面に設けられ前記第2導電体パターンと分離された第3導電体パターンと、を備える容量性部品と、前記信号パッドと前記第1導電体パターンとを電気的に接続する第1ボンディングワイヤと、前記第1導電体パターンと前記第2導電体パターンとを電気的に接続する第2ボンディングワイヤと、前記第1導電体パターンと前記信号端子とを電気的に接続する第3ボンディングワイヤと、前記信号端子と前記第3導電体パターンとを電気的に接続する第4ボンディングワイヤと、を備える半導体装置である。これにより、第2導電体パターンと第3導電体パターンを同じ誘電体基板の上面に設けることができる。よって、容量性部品の個数を減らすことができ、半導体装置を小型化できる。
(2)上記(1)において、前記誘電体基板、前記第2導電体パターンおよび前記ベースは第1キャパシタを形成し、前記誘電体基板、前記第3導電体パターンおよび前記ベースは第2キャパシタを形成してもよい。これにより、第1キャパシタと第2キャパシタとを同じ容量性部品に設けることができる。
(3)上記(2)において、前記第2導電体パターンの面積は、前記第3導電体パターンの面積より大きくてもよい。これにより、第1キャパシタのキャパシタンスを第2キャパシタのキャパシタンスより大きくできる。
(4)上記(3)において、前記第1ボンディングワイヤ、前記第2ボンディングワイヤおよび前記第1キャパシタは、ハイパス回路を形成し、前記第3ボンディングワイヤ、前記第4ボンディングワイヤおよび前記第2キャパシタはローパス回路を形成してもよい。これにより、配線部品と容量性部品とを用いハイパス回路とローパス回路とを実現できる。
(5)上記(1)から(4)のいずれかにおいて、前記第1導電体パターンは、前記第1ボンディングワイヤおよび前記第3ボンディングワイヤが接合するベタパターンと、前記ベタパターンのうち前記半導体チップに近い端部に接続し、前記容量性部品の方に延伸する線路パターンと、を有し、前記第2ボンディングワイヤは、前記線路パターンのうち前記容量性部品に近い端部に接合してもよい。これにより、ボンディングワイヤの一部の代わりに線路パターンを用いることができる。よって、ボンディングワイヤの溶断または焼失を抑制できる。
(6)上記(1)から(5)のいずれかにおいて、前記第3ボンディングワイヤの本数は前記第4ボンディングワイヤの本数より多くてもよい。これにより、第3ボンディングワイヤの溶断または焼失を抑制できる。
(7)上記(1)から(6)のいずれかにおいて、前記第2導電体パターンは、前記誘電体基板の上面に複数設けられ、前記複数の第2導電体パターンにそれぞれ接続される複数の前記第2ボンディングワイヤは、前記第3ボンディングワイヤを挟むように設けられていてもよい。これにより、特性を均一化できる。
(8)上記(7)において、前記第1ボンディングワイヤは複数設けられ、1個の前記第1導電体パターンに接続される前記複数の第1ボンディングワイヤのうち前記第1ボンディングワイヤの配列方向における端部に位置する第1ボンディングワイヤは、前記複数の第1ボンディングワイヤのうち前記配列方向における中央部に位置する第1ボンディングワイヤより長くてもよい。これにより、特性を均一化できる。
(9)上記(1)から(8)のいずれかにおいて、前記第3導電体パターンは、前記誘電体基板の上面に複数設けられ、前記複数の第3導電体パターンにそれぞれ接続される複数の前記第4ボンディングワイヤは、前記第3ボンディングワイヤを挟むように設けられていてもよい。これにより、特性を均一化できる。
(10)上記(1)から(9)のいずれかにおいて、前記第1導電体パターンは、前記基板の上面に前記半導体チップと前記配線部品の配列方向に交差する方向に複数設けられていてもよい。これにより、特性を均一化できる。
(11)上記(1)から(10)のいずれかにおいて、前記半導体チップは、トランジスタを備え、前記信号端子は、前記高周波信号を出力してもよい。これにより、トランジスタから出力される信号によりボンディングワイヤが溶断または焼失することを抑制できる。
(12)上記(11)において、前記トランジスタは、ドハティ増幅器のメインアンプであってもよい。これにより、ドハティ増幅器を広帯域化し、かつ小型化が可能となる。
[本開示の実施形態の詳細]
本開示の実施形態にかかる半導体装置の具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。なお、本開示はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【0010】
[実施例1]
図1は、実施例1に係る半導体装置の回路図である。図1に示すように、半導体装置100は、トランジスタ20、整合回路14を備えている。整合回路14は、ハイパス回路12およびローパス回路13を備えている。トランジスタ20は、例えばFET(Field Effect Transistor)であり、GaN HEMT(Gallium Nitride High Electron Mobility Transistor)またはLDMOS(Laterally Diffused Metal Oxide Semiconductor)である。トランジスタ20のソースSはグランドに電気的に接続され、短絡されている。ゲートGは、入力端子Tinに電気的に接続され、短絡されている。ドレインDは、整合回路14を介し出力端子Toutに電気的に接続されている。
(【0011】以降は省略されています)
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