特許ウォッチ

公開番号2024160510
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-11-14
出願番号2023075594
出願日2023-05-01
発明の名称表示装置の製造方法および表示装置
出願人株式会社ジャパンディスプレイ
代理人弁理士法人スズエ国際特許事務所
主分類H10K 71/00 20230101AFI20241107BHJP()
要約【課題】信頼性の低下を抑制することが可能な表示装置の製造方法および表示装置を提供すること。
【解決手段】一実施形態に係る表示装置の製造方法は、第1副画素を構成する第1下電極を含む複数の下電極を表示領域に形成し、第1下電極と重なる第1画素開口を含む複数の画素開口を有するリブを形成し、リブの上に配置される下部と、下部の側面から突出した端部を有する上部とを含む隔壁を表示領域に形成し、複数の画素開口を通じて複数の下電極に接触する第1有機層と、第1有機層を覆う第1上電極とを含む第1積層膜を形成し、第1積層膜を覆う第1封止層を形成し、第2方向に並ぶ複数の第1副画素のそれぞれに対して個別にレジストを形成し、レジストをマスクとして、第1封止層および第1積層膜を除去する。
【選択図】図4
特許請求の範囲【請求項１】
第１副画素、第２副画素および第３副画素を含み、前記第２副画素および前記第３副画素がそれぞれ前記第１副画素と第１方向に並び、前記第２副画素および前記第３副画素が前記第１方向と交差する第２方向に並んだ画素が前記第１方向および前記第２方向にマトリクス状に配列された表示領域を備える表示装置の製造方法であって、
前記第１副画素を構成する第１下電極を含む複数の下電極を前記表示領域に形成し、
前記第１下電極と重なる第１画素開口を含む複数の画素開口を有するリブを形成し、
前記リブの上に配置される下部と、前記下部の側面から突出した端部を有する上部とを含む隔壁を前記表示領域に形成し、
前記複数の画素開口を通じて前記複数の下電極に接触する第１有機層と、前記第１有機層を覆う第１上電極とを含む第１積層膜を形成し、
前記第１積層膜を覆う第１封止層を形成し、
前記第２方向に並ぶ複数の第１副画素のそれぞれに対して個別にレジストを形成し、
前記レジストをマスクとして、前記第１封止層および前記第１積層膜を除去する、
表示装置の製造方法。
続きを表示（約 1,300 文字）【請求項２】
前記第１積層膜は、前記隔壁により、前記リブおよび前記複数の下電極を覆う第１部分と、隔壁上の第２部分とに分断され、
前記第１封止層は、前記第１部分および前記第２部分を連続的に覆い、
前記第１封止層および前記第１積層膜の除去は、前記レジストから露出した第１封止層および第１積層膜と、前記第２部分を覆う第１封止層の一部と、前記第２部分とを除去する、
請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記第１封止層および前記第１積層膜の除去は、前記第２部分を覆う第１封止層と前記隔壁に含まれる前記上部の上面との間に隙間を形成することを含む、
請求項２に記載の表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記隔壁は、前記第１副画素、前記第２副画素および前記第３副画素においてそれぞれ開口を有するように形成され、
前記レジストは、前記第１副画素における前記開口よりも大きく、前記レジストの周縁が平面視において前記隔壁と重なるように形成される、
請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記レジストは、前記第１副画素の周囲の隔壁との平面視における重ね幅がいずれの部分においても等しくなるように形成される、
請求項４に記載の表示装置の製造方法。
【請求項６】
第１副画素、第２副画素および第３副画素を含み、前記第２副画素および前記第３副画素がそれぞれ前記第１副画素と第１方向に並び、前記第２副画素および前記第３副画素が前記第１方向と交差する第２方向に並んだ画素が前記第１方向および前記第２方向にマトリクス状に配列された表示領域を備える表示装置であって、
前記表示領域に配置された下電極と、
前記下電極と重なる画素開口を有するリブと、
前記リブの上に配置される下部と、前記下部の側面から突出した端部を有する上部とを含む隔壁と、
前記画素開口を通じて前記下電極に接触する有機層と、前記有機層を覆う上電極とを含む積層膜と、
前記積層膜を覆う封止層と、
を備え、
前記封止層の一部は、前記隔壁に含まれる前記上部と平面視において重なり、
前記封止層の一部と、前記隔壁に含まれる前記上部の上面との間には隙間が形成されている、
表示装置。
【請求項７】
前記封止層を覆う樹脂層をさらに備え、
前記隙間には、前記樹脂層が配置される、
請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記積層膜および前記封止層は、前記第２方向に並ぶ２つの第１副画素の間の隔壁上には配置されていない、
請求項６に記載の表示装置。
【請求項９】
前記封止層の一部の前記第１方向に沿った距離と前記第２方向に沿った距離とは、前記第１副画素、前記第２副画素および前記第３副画素の周囲のいずれの部分においても等しい、
請求項６に記載の表示装置。

発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、表示装置の製造方法および表示装置に関する。
続きを表示（約 2,100 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、表示素子として有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）を適用した表示装置が実用化されている。この表示素子は、下電極と、下電極を覆う有機層と、有機層を覆う上電極とを備えている。
【０００３】
上記のような表示装置を製造するにあたり、信頼性の低下を抑制する技術が必要とされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特開２０００－１９５６７７号公報
特開２００４－２０７２１７号公報
特開２００８－１３５３２５号公報
特開２００９－３２６７３号公報
特開２０１０－１１８１９１号公報
国際公開第２０１８／１７９３０８号
米国特許出願公開第２０２２／００７７２５１号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、信頼性の低下を抑制することが可能な表示装置の製造方法および表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
一実施形態に係る表示装置の製造方法は、第１副画素、第２副画素および第３副画素を含み、前記第２副画素および前記第３副画素がそれぞれ前記第１副画素と第１方向に並び、前記第２副画素および前記第３副画素が前記第１方向と交差する第２方向に並んだ画素が前記第１方向および前記第２方向にマトリクス状に配列された表示領域を備える表示装置の製造方法である。前記表示装置の製造方法は、前記第１副画素を構成する第１下電極を含む複数の下電極を前記表示領域に形成し、前記第１下電極と重なる第１画素開口を含む複数の画素開口を有するリブを形成し、前記リブの上に配置される下部と、前記下部の側面から突出した端部を有する上部とを含む隔壁を前記表示領域に形成し、前記複数の画素開口を通じて前記複数の下電極に接触する第１有機層と、前記第１有機層を覆う第１上電極とを含む第１積層膜を形成し、前記第１積層膜を覆う第１封止層を形成し、前記第２方向に並ぶ複数の第１副画素のそれぞれに対して個別にレジストを形成し、前記レジストをマスクとして、前記第１封止層および前記第１積層膜を除去する。
【０００７】
一実施形態に係る表示装置は、第１副画素、第２副画素および第３副画素を含み、前記第２副画素および前記第３副画素がそれぞれ前記第１副画素と第１方向に並び、前記第２副画素および前記第３副画素が前記第１方向と交差する第２方向に並んだ画素が前記第１方向および前記第２方向にマトリクス状に配列された表示領域を備える。前記表示装置は、前記表示領域に配置された下電極と、前記下電極と重なる画素開口を有するリブと、前記リブの上に配置される下部と、前記下部の側面から突出した端部を有する上部とを含む隔壁と、前記画素開口を通じて前記下電極に接触する有機層と、前記有機層を覆う上電極とを含む積層膜と、前記積層膜を覆う封止層と、を備える。前記封止層の一部は、前記隔壁に含まれる前記上部と平面視において重なり、前記封止層の一部と、前記隔壁に含まれる前記上部の上面との間には隙間が形成されている。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
図１は、一実施形態に係る表示装置の構成例を示す図である。
図２は、副画素のレイアウトの一例を示す図である。
図３は、図２中のＩＩＩ－ＩＩＩ線に沿う表示装置の概略的な断面図である。
図４は、同実施形態に係る製造方法を説明するための平面図である。
図５は、同実施形態に係る製造方法を説明するための断面図である。
図６は、同実施形態に係る製造方法を説明するための断面図である。
図７は、比較例に係る製造方法を説明するための平面図である。
図８は、図７中のＶＩＩＩ－ＶＩＩ線に沿う表示装置の概略的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、図面を参照して実施形態を説明する。
なお、開示はあくまで一例にすぎず、以下の実施形態に記載した内容により発明が限定されるものではない。当業者が容易に想到し得る変形は、当然に開示の範囲に含まれる。説明をより明確にするため、図面において、各部分のサイズ、形状等を実際の実施態様に対して変更して模式的に表す場合もある。複数の図面において、対応する要素には同じ参照数字を付して、詳細な説明を省略する場合もある。
【００１０】
図面には、必要に応じて理解を容易にするために、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸を記載する。Ｘ軸に沿った方向を第１方向と称し、Ｙ軸に沿った方向を第２方向と称し、Ｚ軸に沿った方向を第３方向と称する。第３方向Ｚは、第１方向Ｘと第２方向Ｙを含む平面に対して法線方向である。また、第３方向Ｚと平行に各種要素を見ることを平面視という。
（【００１１】以降は省略されています）

関連特許