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公開番号2024122868
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-09
出願番号2023222016
出願日2023-12-27
発明の名称マスクの洗浄方法及び洗浄液
出願人大日本印刷株式会社
代理人個人,個人,個人
主分類C23C 14/04 20060101AFI20240902BHJP(金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般)
要約【課題】有機材料の断片が再びマスクに付着することを抑制できる、マスクの洗浄方法及び洗浄液を提供する。
【解決手段】付着した有機材料を洗浄する洗浄液は、第1有機溶剤を少なくとも含む。第1有機溶剤は、第1ハンセン溶解度パラメータδD1、δP1及びδH1と、7.5以下の第1相互作用半径R1と、を有する。第1相互作用半径R1は、基準ハンセン溶解度パラメータδD0、δP0及びδH0との関係に基づいて下記の式で規定される。
R1²=4(δD1-δD0)²+(δP1-δP0)²+(δH1-δH0)²
δD0=14.1、δP0=2.7、δH0=5.5
【選択図】図9
特許請求の範囲【請求項１】
マスクを洗浄する洗浄方法であって、
前記マスクに付着した有機材料を、洗浄液を用いて洗浄する洗浄工程を備え、
前記洗浄液は、第１有機溶剤を少なくとも含み、
前記第１有機溶剤は、第１ハンセン溶解度パラメータδＤ１、δＰ１及びδＨ１と、７．５以下の第１相互作用半径Ｒ１と、を有し、
前記第１相互作用半径Ｒ１は、基準ハンセン溶解度パラメータδＤ０、δＰ０及びδＨ０との関係に基づいて下記の式で規定される、
Ｒ１
２
＝４（δＤ１－δＤ０）
２
＋（δＰ１－δＰ０）
２
＋（δＨ１－δＨ０）
２
δＤ０＝１４．１、δＰ０＝２．７、δＨ０＝５．５
洗浄方法。
続きを表示（約 790 文字）【請求項２】
前記第１有機溶剤は、酢酸エステル骨格を有する化合物を含む、請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項３】
前記洗浄液における前記化合物の含有率が９５質量％以上である、請求項２に記載の洗浄方法。
【請求項４】
前記第１有機溶剤は、７０℃以上の引火点を有し、
前記洗浄液は、７０℃未満の引火点を有する第２有機溶剤を含み、
前記第２有機溶剤は、第２ハンセン溶解度パラメータδＤ２、δＰ２及びδＨ２と、７．５以下の第２相互作用半径Ｒ２と、を有し、
前記第２相互作用半径Ｒ２は、基準ハンセン溶解度パラメータδＤ０、δＰ０及びδＨ０との関係に基づいて下記の式で規定される、
Ｒ２
２
＝４（δＤ２－δＤ０）
２
＋（δＰ２－δＰ０）
２
＋（δＨ２－δＨ０）
２
請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項５】
前記第１有機溶剤は、酢酸エステル骨格を有する化合物を含む、請求項４に記載の洗浄方法。
【請求項６】
前記第２有機溶剤は、酢酸エステル骨格を有する化合物を含む、請求項５に記載の洗浄方法。
【請求項７】
前記洗浄液における前記化合物の含有率が９５質量％以上である、請求項６に記載の洗浄方法。
【請求項８】
前記洗浄液は、－２５℃以上の引火点を有する、請求項１～７のいずれか一項に記載の洗浄方法。
【請求項９】
前記洗浄液は、４０℃以上の引火点を有する、請求項８に記載の洗浄方法。
【請求項１０】
前記洗浄工程は、３５℃以下の前記洗浄液を用いて前記マスクを洗浄する、請求項４～７のいずれか一項に記載の洗浄方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示の実施形態は、マスクの洗浄方法及び洗浄液に関する。
続きを表示（約 1,500 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、スマートフォンやタブレットＰＣ等の電子デバイスにおいて、高精細な表示装置が、市場から求められている。表示装置は、例えば、４００ｐｐｉ以上または８００ｐｐｉ以上等の素子密度を有する。
【０００３】
応答性の良さと、または／およびコントラストの高さと、を有するため、有機ＥＬ表示装置が注目されている。有機ＥＬ表示装置の素子を形成する方法として、素子を構成する材料を蒸着により基板に付着させる方法が知られている。例えば、まず、素子に対応するパターンで陽極が形成されている基板を準備する。続いて、マスクの貫通孔を介して有機材料を陽極の上に付着させ、陽極の上に有機層を形成する。続いて、有機層の上に陰極を形成する。マスクに付着した有機材料は、洗浄液を用いて洗浄される。洗浄液としては、ＮＭＰ（Ｎ－メチル－２－ピロリドン）が知られている。洗浄されたマスクは再利用される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
特許第６８４９０６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ＮＭＰを洗浄液として用いてマスクに付着した有機材料を洗浄する場合、有機材料は、洗浄液に溶けるのではなく、有機材料の断片がマスクから剥離する。この場合、有機材料の断片が再びマスクに付着することが考えられる。
【０００６】
本開示の実施形態は、このような課題を効果的に解決し得るマスクの洗浄方法及び洗浄液を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の実施形態は、以下の［１］～［２６］に関する。
［１］マスクを洗浄する洗浄方法であって、
前記マスクに付着した有機材料を、洗浄液を用いて洗浄する洗浄工程を備え、
前記洗浄液は、第１有機溶剤を少なくとも含み、
前記第１有機溶剤は、第１ハンセン溶解度パラメータδＤ１、δＰ１及びδＨ１と、７．５以下の第１相互作用半径Ｒ１と、を有し、
前記第１相互作用半径Ｒ１は、基準ハンセン溶解度パラメータδＤ０、δＰ０及びδＨ０との関係に基づいて下記の式で規定される、
Ｒ１
２
＝４（δＤ１－δＤ０）
２
＋（δＰ１－δＰ０）
２
＋（δＨ１－δＨ０）
２
δＤ０＝１４．１、δＰ０＝２．７、δＨ０＝５．５
洗浄方法。
【０００８】
［２］［１］に記載の洗浄方法において、前記第１有機溶剤は、酢酸エステル骨格を有する化合物を含んでいてもよい。
【０００９】
［３］［２］に記載の洗浄方法において、前記洗浄液における前記化合物の含有率が９５質量％以上であってもよい。
【００１０】
［４］［１］に記載の洗浄方法において、前記第１有機溶剤は、７０℃以上の引火点を有していてもよく、前記洗浄液は、７０℃未満の引火点を有する第２有機溶剤を含んでいてもよく、前記第２有機溶剤は、第２ハンセン溶解度パラメータδＤ２、δＰ２及びδＨ２と、７．５以下の第２相互作用半径Ｒ２と、を有していてもよく、前記第２相互作用半径Ｒ２は、基準ハンセン溶解度パラメータδＤ０、δＰ０及びδＨ０との関係に基づいて下記の式で規定されてもよい。
Ｒ２
２
＝４（δＤ２－δＤ０）
２
＋（δＰ２－δＰ０）
２
＋（δＨ２－δＨ０）
２
（【００１１】以降は省略されています）

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