TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2024121563
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-09-06
出願番号2023028721
出願日2023-02-27
発明の名称保護素子の製造方法及び保護素子
出願人日亜化学工業株式会社
代理人
主分類H01L 29/872 20060101AFI20240830BHJP(基本的電気素子)
要約【課題】 所望の電気的特性の保護素子を容易に製造することができる保護素子の製造方法及び保護素子を提供することを目的とする。
【解決手段】 保護素子の製造方法は、基板上に、第1面と、基板と対向し第1面と反対側に位置する第2面と、を有するDLC膜を形成する工程と、第1面にプラズマを照射することで、DLC膜に、第1面側に位置しプラズマが照射された第1領域と、第2面側に位置しプラズマが照射されていない第2領域とを形成する工程と、第1面にプラズマを照射する工程の後、DLC膜に電気的に接続される第1導電部を第1面に形成する工程と、を備える。
【選択図】図3
特許請求の範囲【請求項1】
基板上に、第1面と、前記基板と対向し前記第1面と反対側に位置する第2面と、を有するDLC膜を形成する工程と、
前記第1面にプラズマを照射することで、前記DLC膜に、前記第1面側に位置しプラズマが照射された第1領域と、前記第2面側に位置しプラズマが照射されていない第2領域とを形成する工程と、
前記第1面にプラズマを照射する工程の後、前記DLC膜に電気的に接続される第1導電部を前記第1面に形成する工程と、を備える保護素子の製造方法。
続きを表示(約 780 文字)【請求項2】
前記基板は、導電性を有し、前記DLC膜と電気的に接続される請求項1に記載の保護素子の製造方法。
【請求項3】
前記第1面にプラズマを照射する工程の後、前記第1面側から前記DLC膜の一部を除去し、前記第2領域を前記第1領域から露出させる工程と、
前記第1領域から露出された前記第2領域に第2導電部を形成する工程と、をさらに備える請求項1に記載の保護素子の製造方法。
【請求項4】
前記第1面にプラズマを照射する工程において、プラズマ粒子のエネルギが0.1keV以上3keV以下のプラズマを照射する請求項1に記載の保護素子の製造方法。
【請求項5】
前記第1面にプラズマを照射する工程において、窒素原子、フッ素原子、及び、塩素原子の少なくとも1つを含む気体のプラズマを照射する請求項1に記載の保護素子の製造方法。
【請求項6】
前記DLC膜を形成する工程において、真空の放電空間にガスを導入しないアーク放電により発生させた炭素イオンを利用した蒸着法により、前記基板上に炭素を積層することで前記DLC膜を形成する、請求項1から5のいずれか一項に記載の保護素子の製造方法。
【請求項7】
前記DLC膜を形成する工程において、前記蒸着法におけるバイアス電圧を-1500V以上-10V以下とする請求項6に記載の保護素子の製造方法。
【請求項8】
基板と、
前記基板上に配置され、第1領域と、前記第1領域よりも前記基板側に位置し、前記第1領域の仕事関数よりも大きい仕事関数を有する第2領域と、を備えるDLC膜と、
前記第1領域の上に配置され、前記第1領域の仕事関数よりも大きい仕事関数を有する第1導電部と、を備える保護素子。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本開示は、保護素子の製造方法及び保護素子に関する。
続きを表示(約 1,700 文字)【背景技術】
【0002】
特許文献1には、プラズマ雰囲気化で基板上に炭素質膜を形成するショットキーダイオード用半導体の製造方法が開示されている。このようなショットキーダイオードなどの保護素子を製造するにあたり、所望の電気的特性の保護素子を容易に製造することが求められる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開平03-170397号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0004】
本開示は、所望の電気的特性の保護素子を容易に製造することができる保護素子の製造方法及び保護素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0005】
本開示の一態様の保護素子の製造方法は、基板上に、第1面と、前記基板と対向し前記第1面と反対側に位置する第2面と、を有するDLC膜を形成する工程と、前記第1面にプラズマを照射することで、前記DLC膜に、前記第1面側に位置しプラズマが照射された第1領域と、前記第2面側に位置しプラズマが照射されていない第2領域とを形成する工程と、前記第1面にプラズマを照射する工程の後、前記DLC膜に電気的に接続される第1導電部を前記第1面に形成する工程と、を備える。
本開示の一態様の保護素子は、基板と、前記基板上に設けられ、第1領域と、前記第1領域よりも前記基板側に位置し、前記第1領域の仕事関数よりも大きい仕事関数を有する第2領域と、を備えるDLC膜と、前記第1領域の上に配置され、前記第1領域の仕事関数よりも大きい仕事関数を有する第1導電部と、を備える。
【発明の効果】
【0006】
本開示によれば、所望の電気的特性の保護素子を容易に製造することができる保護素子の製造方法及び保護素子を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【0007】
実施形態における保護素子の製造方法の一工程を説明するための模式的な断面図である。
実施形態における保護素子の製造方法の一工程を説明するための模式的な断面図である。
実施形態における保護素子の製造方法の一工程を説明するための模式的な断面図である。
実施形態の変形例における保護素子の製造方法の一工程を説明するための模式的な断面図である。
実施形態の変形例における保護素子の製造方法の一工程を説明するための模式的な断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0008】
以下、図面を参照し、実施形態について説明する。実施形態に記載されている構成部の寸法、材料、形状、相対的配置などは、特定的な記載がない限り、それのみに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。なお、各図面が示す部材の大きさ、位置関係などは、説明を明確にするため誇張していることがある。また、以下の説明において、同一の名称、符号については、同一もしくは同質の部材を示しており、詳細説明を適宜省略する。また、断面図として、切断面のみを示す端面図を示す場合がある。
【0009】
以下の説明において、特定の方向又は位置を示す用語(例えば、「上」、「下」、及びそれらの用語を含む別の用語)を用いる場合がある。しかしながら、それらの用語は、参照した図面における相対的な方向又は位置を分かり易さのために用いているに過ぎない。参照した図面における「上」、「下」等の用語による相対的な方向又は位置の関係が同一であれば、本開示以外の図面、実際の製品等において、参照した図面と同一の配置でなくてもよい。本明細書において「上(又は下)」と表現する位置関係は、例えば、2つの部材があると仮定した場合に、2つの部材が接している場合と、2つの部材が接しておらず一方の部材が他方の部材の上方(又は下方)に位置している場合を含む。
【0010】
図3を参照して、実施形態における保護素子について説明する。図3に示すように、保護素子5は、基板1と、DLC膜2と、第1導電部3と、を少なくとも備える。
(【0011】以降は省略されています)

特許ウォッチbot のツイートを見る
この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

日亜化学工業株式会社
面状光源
6日前
日亜化学工業株式会社
発光装置の製造方法
7日前
日亜化学工業株式会社
固体電解質材料の製造方法およびアルジロダイト型硫化物固体電解質粒子
6日前
個人
電波吸収体
29日前
東レ株式会社
二次電池
20日前
愛知電機株式会社
変圧器
27日前
電建株式会社
端子金具
1か月前
SMK株式会社
コネクタ
1か月前
株式会社東光高岳
開閉器
6日前
株式会社カネカ
接着加工装置
29日前
三菱電機株式会社
端子カバー
20日前
太陽誘電株式会社
全固体電池
8日前
富士電機株式会社
半導体装置
1か月前
太陽誘電株式会社
全固体電池
29日前
三菱電機株式会社
回路遮断器
1か月前
株式会社カネカ
接着加工装置
29日前
株式会社ダイヘン
碍子
今日
株式会社水素パワー
接続構造
29日前
日本特殊陶業株式会社
保持装置
1か月前
トヨタ自動車株式会社
二次電池
1か月前
日機装株式会社
半導体発光装置
27日前
株式会社村田製作所
コイル部品
27日前
個人
電波散乱方向制御板
20日前
トヨタ自動車株式会社
セルケース
1か月前
三菱製紙株式会社
熱暴走抑制耐火シート
28日前
日新イオン機器株式会社
イオン注入装置
22日前
住友電装株式会社
コネクタ
20日前
イビデン株式会社
プリント配線板
6日前
株式会社ダイヘン
搬送装置
1か月前
株式会社島津製作所
X線撮影装置
1か月前
三洋化成工業株式会社
高分子固体電解質
29日前
日本電気株式会社
波長可変レーザ
1か月前
富士電機株式会社
半導体装置
20日前
マクセル株式会社
全固体電池
1か月前
株式会社ノーリツ
燃料電池システム
22日前
トヨタ自動車株式会社
短絡検知方法
1か月前
続きを見る