TOP特許意匠商標
特許ウォッチ Twitter
公開番号2024113612
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-08-22
出願番号2023018742
出願日2023-02-09
発明の名称電磁波制御素子
出願人富士フイルム株式会社
代理人弁理士法人太陽国際特許事務所
主分類G02F 1/01 20060101AFI20240815BHJP(光学)
要約【課題】所望の領域における電磁波透過性を迅速に制御することができる電磁波制御素子の提供。
【解決手段】基材と、電磁波に対して共振器となる導電性パターンと、を有し、導電性パターンが発熱することで電磁波が変調する、電磁波制御素子。
【選択図】図2
特許請求の範囲【請求項1】
基材と、電磁波に対して共振器となる導電性パターンと、を有し、
前記導電性パターンが発熱することで前記電磁波が変調する、電磁波制御素子。
続きを表示(約 700 文字)【請求項2】
前記導電性パターンのシート抵抗が、0.01Ω/□~25.0Ω/□である、請求項1に記載の電磁波制御素子。
【請求項3】
前記基材の面積をA、前記導電性パターンの面積をBとしたとき、下記式1により求められる開口率が80%以上である、請求項1又は請求項2に記載の電磁波制御素子。
(式1)開口率(%)=(A-B)/A×100
【請求項4】
前記導電性パターンが金属を含む、請求項1又は請求項2に記載の電磁波制御素子。
【請求項5】
前記基材の波長550nmにおける光の透過率が、5%以上である、請求項1又は請求項2に記載の電磁波制御素子。
【請求項6】
前記基材の周波数0.3THzにおける誘電正接が、0.05以下である、請求項1又は請求項2に記載の電磁波制御素子。
【請求項7】
前記導電性パターンの前記基材が設けられている側とは反対側に、相変化材料を含む層又はパターンをさらに有する、請求項1又は請求項2に記載の電磁波制御素子。
【請求項8】
前記基材と前記導電性パターンとの間に、相変化材料を含む層又はパターンをさらに有する、請求項1又は請求項2に記載の電磁波制御素子。
【請求項9】
前記導電性パターンの前記基材が設けられている側とは反対側に、液晶層をさらに有する、請求項1又は請求項2に記載の電磁波制御素子。
【請求項10】
前記基材と前記導電性パターンとの間に、液晶層をさらに有する、請求項1又は請求項2に記載の電磁波制御素子。

発明の詳細な説明【技術分野】
【0001】
本開示は、電磁波制御素子に関する。
続きを表示(約 1,900 文字)【背景技術】
【0002】
近年、基材と、導電性材料等により構成され、基材の表面に設けられたパターンとを備える電磁波制御素子を、周波数0.1THz~10THz(波長が30μm~3000μm)の電磁波(以下、テラヘルツ帯の電磁波とも記載する。)を制御するための素子に適用することが検討されている。
例えば、非特許文献1では、基板と、酸化バナジウムを含むパターンと、銅を含むパターンと、を有する、動的メタサーフィスが記載されている。
一方、特許文献1には、第1パターン導電体と、第1パターン導電体から第1方向の一側に離間して配置される第2パターン導電体と、を備える発熱体が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0003】
特開2022-089004号公報
【非特許文献】
【0004】
“Switchable Ultrathin Quarter-wave Plate in Terahertz Using Active Phase-change Metasurface” Dacheng Wangら、scientific reports、2015
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0005】
動的メタサーフィスにおいて、例えば、所望の領域における電磁波透過性を迅速に制御することが求められる場合がある。
【0006】
本開示の実施形態が解決しようとする課題は、所望の領域における電磁波透過性を迅速に制御することができる電磁波制御素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0007】
上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
<1>
基材と、電磁波に対して共振器となる導電性パターンと、を有し、
導電性パターンが発熱することで電磁波が変調する、電磁波制御素子。
<2>
導電性パターンのシート抵抗が、0.01Ω/□~25.0Ω/□である、<1>に記載の電磁波制御素子。
<3>
基材の面積をA、導電性パターンの面積をBとしたとき、下記式1により求められる開口率が80%以上である、<1>又は<2>に記載の電磁波制御素子。
(式1)開口率(%)=(A-B)/A×100
<4>
導電性パターンが金属を含む、<1>~<3>のいずれか1つに記載の電磁波制御素子。
<5>
基材の波長550nmにおける光の透過率が、5%以上である、<1>~<4>のいずれか1つに記載の電磁波制御素子。
<6>
基材の周波数0.3THzにおける誘電正接が、0.05以下である、<1>~<5>のいずれか1つに記載の電磁波制御素子。
<7>
導電性パターンの基材が設けられている側とは反対側に、相変化材料を含む層又はパターンをさらに有する、<1>~<6>のいずれか1つに記載の電磁波制御素子。
<8>
基材と導電性パターンとの間に、相変化材料を含む層又はパターンをさらに有する、<1>~<7>のいずれか1つに記載の電磁波制御素子。
<9>
導電性パターンの基材が設けられている側とは反対側に、液晶層をさらに有する、<1>~<8>のいずれか1つに記載の電磁波制御素子。
<10>
基材と導電性パターンとの間に、液晶層をさらに有する、<1>~<9>のいずれか1つに記載の電磁波制御素子。
【発明の効果】
【0008】
本開示の実施形態によれば、所望の領域における電磁波透過性を迅速に制御することができる電磁波制御素子が提供される。
【図面の簡単な説明】
【0009】
導電性パターン12の形状の一例を示す模式図である。
本開示の電磁波制御素子の一実施態様を示す断面模式図である。
本開示の電磁波制御素子の他の一実施態様を示す断面模式図である。
本開示の電磁波制御素子の他の一実施形態を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【0010】
本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。
本開示において「層」又は「膜」との語には、当該層又は膜が存在する領域を観察したときに、当該領域の全体に形成されている場合に加え、当該領域の一部にのみ形成されている場合も含まれる。
(【0011】以降は省略されています)

この特許をJ-PlatPatで参照する
Flag Counter

関連特許

個人
再帰反射材
11日前
株式会社コシナ
撮像レンズ
17日前
個人
ユニバーサルヒンジ眼鏡の改良
4日前
ビアメカニクス株式会社
光反射装置
16日前
株式会社小糸製作所
画像照射装置
12日前
株式会社ニデック
眼鏡レンズ加工用治具
18日前
株式会社カネカ
光学フィルム
9日前
株式会社ジュン
メガネの製作システム
2日前
キヤノン株式会社
光学機器
18日前
個人
内面計測装置用ヘッド、及び内面計測装置
16日前
キヤノン株式会社
光学装置
10日前
キヤノン株式会社
画像表示装置
10日前
住友化学株式会社
積層体および表示装置
17日前
artience株式会社
防眩シート、及び施工方法
9日前
日本通信電材株式会社
光配線架
22日前
キヤノン株式会社
電子機器及び移動体
16日前
住友電気工業株式会社
光ケーブル
9日前
株式会社小糸製作所
画像投影装置
12日前
株式会社ヴイ・エス・テクノロジ-
交換式レンズ鏡筒
9日前
住友ベークライト株式会社
光電気複合基板およびフィルム
2日前
キヤノン株式会社
レンズ装置および撮像装置
19日前
株式会社ニコン
光学系、光学機器、および光学系の製造方法
19日前
キヤノン株式会社
ズームレンズおよび撮像装置
19日前
キヤノン株式会社
撮像装置、その制御方法およびプログラム
16日前
住友電気工業株式会社
光ファイバケーブル
9日前
株式会社ジャパンディスプレイ
液晶表示装置
12日前
株式会社ジャパンディスプレイ
液晶表示装置
12日前
キヤノン株式会社
ズームレンズおよび撮像装置
22日前
株式会社ワークス
マイクロレンズアレイを用いた光学ユニット
9日前
矢崎総業株式会社
車両用表示装置
9日前
日本精機株式会社
ミラーユニット及びヘッドアップディスプレイ装置
18日前
矢崎総業株式会社
車両用表示装置
9日前
セイコーエプソン株式会社
虚像表示装置及び光学ユニット
19日前
大日本印刷株式会社
光学素子、表示装置及びカメラ
11日前
キヤノン株式会社
ズームレンズ及び撮像装置
19日前
ニデックインスツルメンツ株式会社
レンズユニット
16日前
続きを見る