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公開番号2024076739
公報種別公開特許公報(A)
公開日2024-06-06
出願番号2022188440
出願日2022-11-25
発明の名称反射型マスクブランク用ガラス基板、及びその製造方法
出願人AGC株式会社
代理人個人,個人
主分類G03F 1/60 20120101AFI20240530BHJP(写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ)
要約【課題】反射型マスクブランク用ガラス基板の洗浄効率を向上する、技術を提供する。
【解決手段】反射型マスクブランク用ガラス基板は、石英ガラス基板からなり、前記石英ガラス基板の表面の少なくとも一部に、ヨウ素(I)がドープされた改質領域を有する。前記改質領域は、二次イオン質量分析法で測定した1価のSiイオンの強度(I_Si)に対する1価のIイオンの強度(I_I)の強度比(I_I/I_Si)が5.0×10^-3～1.0×10²である。
【選択図】図6
特許請求の範囲【請求項１】
石英ガラス基板からなる、反射型マスクブランク用ガラス基板であって、
前記石英ガラス基板の表面の少なくとも一部に、ヨウ素（Ｉ）がドープされた改質領域を有し、
前記改質領域は、二次イオン質量分析法で測定した１価のＳｉイオンの強度（Ｉ
Ｓｉ
）に対する１価のＩイオンの強度（Ｉ
Ｉ
）の強度比（Ｉ
Ｉ
／Ｉ
Ｓｉ
）が５．０×１０
－３
～１．０×１０
２
である、反射型マスクブランク用ガラス基板。
続きを表示（約 1,100 文字）【請求項２】
前記改質領域は、水接触角の平均値が５°～３５°である、請求項１に記載の反射型マスクブランク用ガラス基板。
【請求項３】
前記石英ガラス基板の表面は、第１主表面と、前記第１主表面とは反対向きの第２主表面と、前記第１主表面および前記第２主表面に対して垂直な端面と、を有しており、少なくとも前記端面に前記改質領域を有する、請求項１または２に記載の反射型マスクブランク用ガラス基板。
【請求項４】
前記石英ガラス基板は、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ
２
を８０％～９５％含有し、ＴｉＯ
２
を４％～１７％含有する、請求項１または２に記載の反射型マスクブランク用ガラス基板。
【請求項５】
請求項１または２に記載の反射型マスクブランク用ガラス基板を製造する製造方法であって、
前記石英ガラス基板の表面の少なくとも一部に薬液を供給することを有し、
前記薬液は、ｐＨ調整剤と、メタ過ヨウ素酸、メタ過ヨウ素酸塩、オルト過ヨウ素酸およびオルト過ヨウ素酸塩からなる群から選択される少なくとも１つの酸化剤と、を含む、反射型マスクブランク用ガラス基板の製造方法。
【請求項６】
前記石英ガラス基板の表面は、第１主表面と、前記第１主表面とは反対向きの第２主表面と、前記第１主表面および前記第２主表面に対して垂直な端面と、を有しており、
前記製造方法は、前記石英ガラス基板を前記薬液に浸漬することで、少なくとも前記端面に前記改質領域を形成することを有する、請求項５に記載の反射型マスクブランク用ガラス基板の製造方法。
【請求項７】
前記石英ガラス基板を前記薬液に浸漬することで、前記第２主表面に予め形成された多層反射膜を除去すると共に、前記第２主表面と前記端面に前記改質領域を形成することを有する、請求項６に記載の反射型マスクブランク用ガラス基板の製造方法。
【請求項８】
前記薬液のｐＨが１０以上１６以下である、請求項５に記載の反射型マスクブランク用ガラス基板の製造方法。
【請求項９】
前記ｐＨ調整剤は、水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムである、請求項５に記載の反射型マスクブランク用ガラス基板の製造方法。
【請求項１０】
前記薬液は、クロム（ＶＩ）の酸化還元電位よりも高い酸化還元電位を有する金属およびそのイオンからなる群から選択される少なくとも１つを、前記酸化剤に対して０．０００１モル当量～１０モル当量さらに含む、請求項５に記載の反射型マスクブランク用ガラス基板の製造方法。
（【請求項１１】以降は省略されています）
発明の詳細な説明【技術分野】
【０００１】
本開示は、反射型マスクブランク用ガラス基板、及びその製造方法に関する。
続きを表示（約 1,300 文字）【背景技術】
【０００２】
近年、半導体デバイスの微細化に伴い、極端紫外線（ＥｘｔｒｅｍｅＵｌｔｒａ－Ｖｉｏｌｅｔ：ＥＵＶ）を用いた露光技術であるＥＵＶリソグラフィー（ＥＵＶＬ）が開発されている。ＥＵＶとは、軟Ｘ線および真空紫外線を含み、具体的には波長が０．２ｎｍ～１００ｎｍ程度の光のことである。現時点では、１３．５ｎｍ程度の波長のＥＵＶが主に検討されている。
【０００３】
ＥＵＶＬでは、反射型マスクの開口パターンを半導体基板に転写する。反射型マスクは、反射型マスクブランクの吸収膜に開口パターンを形成することで得られる。反射型マスクブランクは、ガラス基板などの基板と、基板の上に形成される多層反射膜と、多層反射膜の上に形成される吸収膜と、を含む。
【０００４】
ところで、反射型マスクにおいて、開口パターンの近傍に凹凸が存在すると、転写されるパターンの位置精度やコントラストが悪化し問題となる。凹凸は、傷や異物などの欠陥により生じる。
【０００５】
従って、開口パターンの近傍に凹凸が存在することのないよう、膜付き基板に対し、工程ごとに表面欠陥検査や膜中欠陥検査などの検査を実施する。検査の結果、許容できないサイズの欠陥が発見されたときは、洗浄等により欠陥を除去する。一方で、洗浄等によっても除去できない欠陥がある場合は、少なくとも多層反射膜を除去して基板を再生するか、または不良品として破棄する。
【０００６】
特許文献１には、多層反射膜を有する多層膜が基板上に形成された多層膜付き基板の再生方法が開示されている。この再生方法では、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよびアンモニアから選択される少なくとも１つと過酸化水素とを含む水溶液からなる薬液に、多層膜付基板を接触させて基板から多層膜を除去し、基板を再生する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
特開２０１７－１８１７３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
反射型マスクブランクの製造工程において、ガラス基板を水系洗剤で洗浄することがある。ガラス基板の表面に対する水の濡れ性が悪い場合、ガラス基板の表面に対する水系洗剤の親和性が悪く、洗浄効率が低い。
【０００９】
本開示の一態様は、水系洗剤による洗浄効率を向上する、技術を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
反射型マスクブランク用ガラス基板は、石英ガラス基板からなり、前記石英ガラス基板の表面の少なくとも一部に、ヨウ素（Ｉ）がドープされた改質領域を有する。前記改質領域は、二次イオン質量分析法で測定した１価のＳｉイオンの強度（Ｉ
Ｓｉ
）に対する１価のＩイオンの強度（Ｉ
Ｉ
）の強度比（Ｉ
Ｉ
／Ｉ
Ｓｉ
）が５．０×１０
－３
～１．０×１０
２
である。
【発明の効果】
（【００１１】以降は省略されています）

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